研究了用火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在KrF紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过10 m in的照射后,在1550 nm处的折射率变化大约为3.41×10-3。采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌。结果表明:随着曝光时间...研究了用火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在KrF紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过10 m in的照射后,在1550 nm处的折射率变化大约为3.41×10-3。采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌。结果表明:随着曝光时间的延长,膜的致密性增加,表面粗糙度下降,折射率增大。展开更多
TN252 2004064287 在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究=Research on the deposition of thick silica on silicon substrate by flame hydrolysis deposition[刊,中]/郜定山（中科院半导体所光电子研究发展中心.北京（100083））,...TN252 2004064287 在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究=Research on the deposition of thick silica on silicon substrate by flame hydrolysis deposition[刊,中]/郜定山（中科院半导体所光电子研究发展中心.北京（100083））,李建光…∥光学学报.—2004,24（9）.—1279-1282 用火焰水解和高温烧结的方法在单晶硅基片上制备了厚SiO<sub>2</sub>和B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>-SiO<sub>2</sub>光波导包层材料。并用扫描电镜（SEM）和X射线粉末衍射（XRD）方法对其微观形貌和物相结构进行了观察和检测。重点对硅基片上沉积厚SiO<sub>2</sub>时的龟裂和析晶问题进行了深入研究。从扫描电镜照片可以看出,火焰水解法形成的SiO<sub>2</sub>粉末呈多孔的蜂窝状结构。这种粉末具有很高的比表面积,因而很容易烧结成玻璃。X射线衍射图谱表明。展开更多
本发明涉及炭黑及其制法和应用。
DE 19650500披露了通过热解掺杂法制备的金属氧化物和／或掺有0．00001～20%重量的一种或多种掺杂组分的金属氧化物。这种金属氧化物是在金属和／或金属氧化物的可蒸发化合物的火焰水解期间，通过往气...本发明涉及炭黑及其制法和应用。
DE 19650500披露了通过热解掺杂法制备的金属氧化物和／或掺有0．00001～20%重量的一种或多种掺杂组分的金属氧化物。这种金属氧化物是在金属和／或金属氧化物的可蒸发化合物的火焰水解期间，通过往气体混合物中添加含金属和／或金属氧化物水溶液的气溶胶来制备的。展开更多
文摘TN252 2004064287 在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究=Research on the deposition of thick silica on silicon substrate by flame hydrolysis deposition[刊,中]/郜定山（中科院半导体所光电子研究发展中心.北京（100083））,李建光…∥光学学报.—2004,24（9）.—1279-1282 用火焰水解和高温烧结的方法在单晶硅基片上制备了厚SiO<sub>2</sub>和B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>-SiO<sub>2</sub>光波导包层材料。并用扫描电镜（SEM）和X射线粉末衍射（XRD）方法对其微观形貌和物相结构进行了观察和检测。重点对硅基片上沉积厚SiO<sub>2</sub>时的龟裂和析晶问题进行了深入研究。从扫描电镜照片可以看出,火焰水解法形成的SiO<sub>2</sub>粉末呈多孔的蜂窝状结构。这种粉末具有很高的比表面积,因而很容易烧结成玻璃。X射线衍射图谱表明。
