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EBCMOS近贴聚焦结构及电场分布对电子运动轨迹的影响 被引量:6
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作者 王巍 李野 +2 位作者 陈卫军 宋德 王新 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期713-721,共9页
为获得高分辨率的电子轰击型CMOS(EBCMOS)成像器件,本文就近贴聚焦结构内电场分布对电子运动轨迹的影响进行了研究。设计了不同的EBCMOS结构并得到3种电场分布情况,分别为光电阴极和背面轰击型CMOS(BSBCMOS)之间的等势面不平行、部分平... 为获得高分辨率的电子轰击型CMOS(EBCMOS)成像器件,本文就近贴聚焦结构内电场分布对电子运动轨迹的影响进行了研究。设计了不同的EBCMOS结构并得到3种电场分布情况,分别为光电阴极和背面轰击型CMOS(BSBCMOS)之间的等势面不平行、部分平行和彼此平行。根据电磁学理论结合蒙特卡洛模拟方法,分别模拟了每种电场分布情况下的电子运动轨迹。研究结果表明:当设计的电子倍增层表面覆盖一层30 nm的超薄重掺杂层,保持极间电压为4000 V且极间距为1 mm时,光生电子轰击BSB-CMOS表面时扩散直径可减小至30μm。此结构具有电子聚焦作用,有助于实现高分辨率的EBCMOS。同时,进一步研究了光电阴极与BSB-CMOS之间的距离和电压对电子扩散直径的影响。研究发现,近贴间距越小、加速电压越高,相应的电场强度就越高,越有利于电子聚焦。本文工作将为改进电子轰击型CMOS成像器件的分辨率特性提供理论指导。 展开更多
关键词 微光像增强器 电子轰击成像 近贴聚焦结构 EBCMOS
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EBCCD与EBCMOS的研究概况
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作者 谭何盛 张昆林 +1 位作者 靳英坤 邓华兵 《云光技术》 2019年第2期11-18,共8页
本文介绍了EBCCD和EBCMOS的研究历史、器件结构与工作机制以及国内外发展现状,并对夜视技术的未来做出了展望。数字微光夜视技术是微光夜视技术领域的最新进展,是能将微弱的二维空间光学图像,转换为一维的数字视频信号,并再现为适合人... 本文介绍了EBCCD和EBCMOS的研究历史、器件结构与工作机制以及国内外发展现状,并对夜视技术的未来做出了展望。数字微光夜视技术是微光夜视技术领域的最新进展,是能将微弱的二维空间光学图像,转换为一维的数字视频信号,并再现为适合人眼观察的技术,是未来微光夜视技术的发展方向。国际上各国为了保证自己国家夜视技术的领先优势,抑制我国夜视技术的发展,因此,在夜视技术上,若想要追赶和超越国外先进水平,唯有加大研究力度,迎难而上,填补这类器件在国内的空白。 展开更多
关键词 微光夜视技术 EBCCDEBCMOS 电子轰击成像
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