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氧在直接耐晒翠蓝GL修饰电极上的催化还原 被引量:6
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作者 潘湛昌 曾章逸 李琼 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 1999年第5期462-466,共5页
The behavior of catalytic reduction of oxygen on modified electrodes of three types are studied using cyclic voltanuntry in an acidic solution. The first electrode modified with industrial dyestuff Direct Light Turquo... The behavior of catalytic reduction of oxygen on modified electrodes of three types are studied using cyclic voltanuntry in an acidic solution. The first electrode modified with industrial dyestuff Direct Light Turquoise GL(denoted as GL) has notable catalytic activity, two reduction peaks of O2 appear on CV curve (Ep is - 0. 25 V and - 0. 40 V respectively), but its stability is poor The second electrode modified with poly(4-vinyl-pyridine) and GL shows quite good catalytic performance. Both activity and stability are much better than those of the first electrode, in in the CV curve equals 200% of that of the lst electrode and the Ev for the first peak has shifted positively about 0. 05 V.The catalytic perfonnance of the third electrode modified with Nafion and GL is a little bid better than that of the first electrode, but is much worse than that of the second electrode. The reason of differences in the catalytic performances of these electrodes are discussed. 展开更多
关键词 氧化还原 修饰电极 电催化 直接耐晒翠蓝gl
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直接耐晒翠蓝GL生产工艺的改进
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作者 苏砚溪 杨纪清 《染料工业》 2001年第1期1-2,共2页
对直接耐晒翠蓝GL传统生产工艺中的盐析进行了彻底改革。用两次沉降取代了两次盐析,用少量絮凝剂取代了大量的氯化钠,工业废水的治理也得到了简化。
关键词 C.I.直接蓝86 盐析 絮凝剂 直接耐晒翠蓝gl 工艺 直接染料
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灵芝漆酶催化直接耐晒翠蓝GL脱色条件的优化 被引量:8
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作者 陈琼华 周玉萍 +2 位作者 杨桃芳 程惠贞 田长恩 《微生物学通报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第12期1812-1817,共6页
采用灵芝菌株发酵所得的漆酶,对酞菁类染料直接耐晒翠蓝GL进行了催化脱色实验,确定了脱色反应的最适条件。结果表明:单独使用灵芝漆酶粗酶液对直接耐晒翠蓝GL具有很好的脱色效果。其最适脱色pH为3.0,最适脱色温度为40°C,最适漆酶... 采用灵芝菌株发酵所得的漆酶,对酞菁类染料直接耐晒翠蓝GL进行了催化脱色实验,确定了脱色反应的最适条件。结果表明:单独使用灵芝漆酶粗酶液对直接耐晒翠蓝GL具有很好的脱色效果。其最适脱色pH为3.0,最适脱色温度为40°C,最适漆酶用量是40U/mL,最适染料浓度为60mg/L。以上述最适脱色条件对直接耐晒翠蓝GL进行脱色实验,反应70min,脱色率可达94.3%。研究结果显示,所试灵芝漆酶在印染废水治理方面具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 漆酶 直接耐晒翠蓝gl 脱色 灵芝
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高压脉冲放电等离子体协同CTAB改性活性炭去除DB86
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作者 谭艳雯 董冰岩 +2 位作者 王佩祥 李贞栋 李琼 《环境化学》 CAS CSCD 北大核心 2023年第11期3965-3975,共11页
印染工业耗水多,同时产生大量色度深、成分复杂的染料废水,制约了相关行业的绿色环保和可持续发展.实验采用多针-板高压脉冲放电等离子体协同CTAB改性活性炭(CTAB-AC)处理直接耐晒翠蓝GL(Direct Blue 86,DB86)模拟废水.通过十六烷基三... 印染工业耗水多,同时产生大量色度深、成分复杂的染料废水,制约了相关行业的绿色环保和可持续发展.实验采用多针-板高压脉冲放电等离子体协同CTAB改性活性炭(CTAB-AC)处理直接耐晒翠蓝GL(Direct Blue 86,DB86)模拟废水.通过十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)对活性炭改性,并利用SEM、BET表征手段对改性前后活性炭进行分析.考察了CTAB-AC中改性剂浓度、改性时间以及不同投加量对DB86去除效果的影响.结果显示:在溶液初始浓度C_(0)为100mg·L^(-1),频率f为50 Hz,电压U为22 kV,初始电导率σ为200μs·cm^(-1),电极间距为8 mm,溶液体积为150 mL,气体流量为3.0 L·min^(-1),同时添加0.2 g在CTAB浓度为5×10^(-4) mol·L^(-1)下改性24 h的CTAB-AC,放电40 min后,去除率高达99.65%.高压脉冲放电对吸附饱和的活性炭具有再生作用,并且经CTAB改性后的活性炭比表面积减小,表面粗糙度增加,凹陷空穴增多,活性位点激增,促进了催化反应,进一步加强了对DB86的去除. 展开更多
关键词 脉冲放电 等离子体 改性活性炭 直接耐晒翠蓝gl 去除率 环境
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