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单片集成硅光接收器中p-i-n硅光电探测器的进展 被引量:2
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作者 郭辉 郭维廉 +1 位作者 吴霞宛 陈迪平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第10期52-57,共6页
介绍了单片集成硅光接收器的研究背景、硅光电探测器工作机理以及它对实现高性能单片集成硅光接收器的影响,回顾总结了近年来的研究进展,并报道了我们的研究结果,展望了今后的发展。
关键词 单片集成电路 p-i-n电探测器 SOI 单片集成接收器
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全硅大断面脊形光波导传播特性的理论分析及实验结果 被引量:3
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作者 潘姬 赵鸿麟 杨恩泽 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期91-95,共5页
对当前硅光集成的研究焦点-制备大断面单模脊形光波导的单模条件,用有效折射率法进行分析,也计算了传播常数等性能参数。结果表明,有效折射率法有方法简明、结论确切的优点。它能同时给出单模区、多模区及截止区的条件,已有效指导... 对当前硅光集成的研究焦点-制备大断面单模脊形光波导的单模条件,用有效折射率法进行分析,也计算了传播常数等性能参数。结果表明,有效折射率法有方法简明、结论确切的优点。它能同时给出单模区、多模区及截止区的条件,已有效指导了SIMOX及n/n+外延型两种单模脊形硅光波导的制备。文中最后给出了实验结果。 展开更多
关键词 波导 硅光集成 波导 传播
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硅单模脊形光波导的三维模拟及实测结果 被引量:1
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作者 潘姬 赵鸿麟 杨恩泽 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1995年第1期84-88,共5页
对当前硅光集成技术的热点、制备大断面低传播损耗单模脊形光波导进行了三维理论模拟设计。脊的上覆盖层是空气(大折射率台阶,非对称情况)或纯硅层(对称情况),均能得到符合实际的模拟结果。改变脊形光波导的高宽几何尺寸或折射率... 对当前硅光集成技术的热点、制备大断面低传播损耗单模脊形光波导进行了三维理论模拟设计。脊的上覆盖层是空气(大折射率台阶,非对称情况)或纯硅层(对称情况),均能得到符合实际的模拟结果。改变脊形光波导的高宽几何尺寸或折射率分布值,模拟结果呈现单模、双模或更高阶模的电场分布及光强分布。用相应条件指导硅脊形光波导的实际制备,实测结果表明模拟结果是准确的。 展开更多
关键词 波导 硅光集成 三维模拟
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硅发光器件及其研究进展
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作者 万生 《科学中国人》 1998年第9期55-56,共2页
信息技术发展的需要 信息技术在社会发展中所起的作用越本越重要了。信息技术的一个重要支柱就是硅集成电路。计算机及各种自动化设施在处理信息时都需借助于硅芯片。现在硅集成电路的制造技术已相当成熟,应用已相当广泛,每年世界上生... 信息技术发展的需要 信息技术在社会发展中所起的作用越本越重要了。信息技术的一个重要支柱就是硅集成电路。计算机及各种自动化设施在处理信息时都需借助于硅芯片。现在硅集成电路的制造技术已相当成熟,应用已相当广泛,每年世界上生产的硅集成电路芯片不计其数。 展开更多
关键词 多孔 器件 集成电路 效率 研究进展 硅光集成 无辐射复合 材料 信息技术
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1967~2033 nm波段硅基可调谐外腔半导体激光器设计与仿真
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作者 万浩然 杨禹霖 +15 位作者 乔忠良 李翔 Jia Xu Brian Sia 余文军 翁登群 李再金 李林 陈浩 赵志斌 薄报学 高欣 曲轶 刘重阳 汪宏 张宇 牛智川 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期74-83,共10页
2μm波长附近可调谐半导体激光器在分子光谱学和光通信领域中有广阔的应用前景。基于绝缘体上硅(SOI)平台,对2μm波长附近可调谐半导体激光器的外腔部分进行了设计优化。分析了不同尺寸光波导的模式损耗特性、单个微环谐振腔受总线波导... 2μm波长附近可调谐半导体激光器在分子光谱学和光通信领域中有广阔的应用前景。基于绝缘体上硅(SOI)平台,对2μm波长附近可调谐半导体激光器的外腔部分进行了设计优化。分析了不同尺寸光波导的模式损耗特性、单个微环谐振腔受总线波导耦合间距的作用以及总线波导光反馈终端对外腔半导体激光器性能的影响。并提出了一种具有高工艺兼容度的多模环形光波导光反馈结构。所设计的可调谐半导体激光器硅基外腔可通过环形波导上的镍铬合金微加热器进行0.1 nm/K的高精度调谐,对单个微加热器施加3.2 V电压时,调谐范围可达66 nm(1967~2033 nm)。 展开更多
关键词 硅光集成 可调谐外腔半导体激 环形谐振腔 波导终端
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Asymmetrical Fabry-Perot cavity slot micro-ring resonator and its sensing characteristics
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作者 CAO Qianqian LIU Chunjuan +1 位作者 WU Xiaosuo SUN Xiaoli 《Journal of Measurement Science and Instrumentation》 CAS CSCD 2024年第3期292-301,共10页
To achieve high quality factor and high-sensitivity refractive index sensor,a slot micro-ring resonator(MRR)based on asymmetric Fabry-Perot(FP)cavity was proposed.The structure consisted of a pair of elliptical holes ... To achieve high quality factor and high-sensitivity refractive index sensor,a slot micro-ring resonator(MRR)based on asymmetric Fabry-Perot(FP)cavity was proposed.The structure consisted of a pair of elliptical holes to form an FP cavity and a microring resonator.The two different optical modes generated by the micro-ring resonator were destructively interfered to form a Fano line shape,which improved the system sensitivity while obtaining a higher quality factor and extinction ratio.The transmission principle of the structure was analyzed by the transfer matrix method.The transmission spectrum and mode field distribution of the proposed structure were simulated by the finite difference time domain(FDTD)method,and the key structural parameters affecting the Fano line shape in the device were optimized.The simulation results show that the quality factor of the device reached 22037.1,and the extinction ratio was 23.9 dB.By analyzing the refractive index sensing characteristics,the sensitivity of the structure was 354 nm·RIU−1,and the detection limit of the sensitivity was 2×10−4 RIU.Thus,the proposed compact asymmetric FP cavity slot micro-ring resonator has obvious advantages in sensing applications owing to its excellent performance. 展开更多
关键词 micro-ring resonator(MRR) Fabry-Perot(FP)cavity Fano resonance refractive index sensing integrated optics silicon waveguide
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硅衬底上锗硅合金光波导的研制 被引量:7
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作者 潘姬 赵鸿麟 +2 位作者 杨恩泽 李德杰 吴伯瑜 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第6期603-607,共5页
报道锗硅合金在λ=1.3μm的脊形单模光波导的设计、工艺及测量结果.这种光波导的传播损耗已达0.7dB/cm.脊形的高4~8μm,宽8~12μm,均和单模光纤芯径相当.此外,其数值孔径在光波导的输入、输出端均能和单模... 报道锗硅合金在λ=1.3μm的脊形单模光波导的设计、工艺及测量结果.这种光波导的传播损耗已达0.7dB/cm.脊形的高4~8μm,宽8~12μm,均和单模光纤芯径相当.此外,其数值孔径在光波导的输入、输出端均能和单模光纤匹配,它已满足硅光集成对光波导的要求.文中最后报道了用这种锗硅合金光波导试制Y分支器,并观察到二支分路输出的单模光斑. 展开更多
关键词 硅光集成 波导 合金
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Investigation on the Luminescent Properties of SiC 被引量:1
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作者 WANG Qiang, LI Yu-guo, SHI Li-wei, SHUN Hai-bo, XUE Cheng-shan (Institute of Semiconductor, Shandong Normal University, Jinan 250014,CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2003年第3期182-188,共7页
Silicon carbide (SiC) is an excellent microelectronic material used to fabricate high frequency, high temperature,high power and non-volatile memory devices.But due to its indirect band gap,SiC based LED cant emit lig... Silicon carbide (SiC) is an excellent microelectronic material used to fabricate high frequency, high temperature,high power and non-volatile memory devices.But due to its indirect band gap,SiC based LED cant emit light so efficiently as GaN based LED, so people are eager to seek effective means to improve its luminescence efficiency. Amorphous SiC, porous crystalline SiC, nanometer SiC produced by CVD methods and porous SiC formed by ion implantation are investigated, and great progresses have been gained during the latest few years,which make SiC a promising material for developing OEIC. 展开更多
关键词 SIC amorphous SiC porous SiC ion implantation OEIC
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Temperature Dependence of Characteristics for Multimode Interference Based 3-dB Coupler in SOI
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作者 YANQing-feng LIUZhong-li 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2003年第1期14-17,共4页
The temperature dependence of characteristics for multimode interference(MMI) based 3-dB coupler in silicon-on-insulator is analyzed, which originates from the relatively high thermo-optic coefficient of silicon. For ... The temperature dependence of characteristics for multimode interference(MMI) based 3-dB coupler in silicon-on-insulator is analyzed, which originates from the relatively high thermo-optic coefficient of silicon. For restricted interference 3-dB MMI coupler, the output power uniformity is ideally 0 at room temperature and becomes 0.32 dB when temperature rises up to 550 K.For symmetric interference 3-dB MMI coupler, the power uniformity keeps ideally 0 due to its intrinsic symmetric interference mechanism. With the temperature rising, the excess loss of the both devices increases. The performance deterioration due to temperature variety is more obvious to restricted interference MMI 3-dB coupler, comparing with that of symmetric interference MMI 3-dB coupler. 展开更多
关键词 multimode interference COUPLER silicon―on―insulator thermo―optics integrated opotoelectronics
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NeoPhotonics融资4000万
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《现代有线传输》 2004年第2期12-12,共1页
关键词 NeoPhotonics公司 集成 无源网络 融资
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GeSi合金1×4Y级联分束器的有限差分束传播法模拟设计 被引量:1
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作者 赵鸿麟 潘姬 +1 位作者 潘善臻 杨恩泽 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第8期1114-1117,共4页
进一步研究二个问题:(1)理论模拟的方法由快速傅里叶束传播法(FFT-BPM)改为有限差分束传播法(FD-BPM),并比较了两者的优缺点。(2)模拟设计了对象提高为由GeSi合金单模脊形光波导组成的Y级联1×4光... 进一步研究二个问题:(1)理论模拟的方法由快速傅里叶束传播法(FFT-BPM)改为有限差分束传播法(FD-BPM),并比较了两者的优缺点。(2)模拟设计了对象提高为由GeSi合金单模脊形光波导组成的Y级联1×4光分束器。结果表明,有限差分束传播法比快速傅里叶束传播法及显形有限差分束传播法(EFD-BPM),除了数学比较容易外,计算速度也快一些。尤其是对传播步长Δz的敏感性,有限差分束传播法远没有快速傅里叶束传播法那样严重,便利了束传播法方法的采用。正如束传播法成功地应用于GeSi合金光波导及Y分支器的理论设计,现在用了1×4Y级联分束器同样得到预想的结果。光束在分束器中传播逐步分成二束再分为四束。符合设计要求。 展开更多
关键词 硅光集成 分束器 束传播法 合金 波导
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Achievement of a near-perfect smooth silicon surface 被引量:3
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作者 LI Jing LIU YuHong +3 位作者 DAI YuanJing YUE DaChuan LU XinChun LUO JianBin 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2013年第11期2847-2853,共7页
During the ultra large scale integration (ULSI) process, the surface roughness of the polished silicon wafer plays an important role in the quality and rate of production of devices. In this work, the effects of oxi... During the ultra large scale integration (ULSI) process, the surface roughness of the polished silicon wafer plays an important role in the quality and rate of production of devices. In this work, the effects of oxidizer, surfactant, polyurethane pad and slurry additives on the surface roughness and topography of chemical-mechanical planarization (CMP) for silicon have been investigated. A standard atomic force microscopy (AFM) test method for the atomic scale smooth surface was proposed and used to measure the polished silicon surfaces. Finally, compared with the theoretical calculated Ra value of 0.0276 rim, a near-perfect silicon surface with the surface roughness at an atomic scale (0.5 4) was achieved based on an optimized CMP process. 展开更多
关键词 silicon CMP AFM ROUGHNESS
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