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微波等离子体CVD法在非平面基体上生长金刚石膜
1
作者 满卫东 孙蕾 +1 位作者 汪建华 谢鹏 《工具技术》 北大核心 2008年第2期12-14,共3页
介绍了在微波等离子体CVD装置中,用甲烷和氢气作为原料,在非平面基体(如钨丝、钻头、铣刀等)上生长金刚石薄膜的研究。在金刚石沉积过程中,由于"尖端效应",在基体的尖端很难沉积出金刚石膜。在采用金属丝屏蔽后,克服了"... 介绍了在微波等离子体CVD装置中,用甲烷和氢气作为原料,在非平面基体(如钨丝、钻头、铣刀等)上生长金刚石薄膜的研究。在金刚石沉积过程中,由于"尖端效应",在基体的尖端很难沉积出金刚石膜。在采用金属丝屏蔽后,克服了"尖端效应",成功地在非平面基体上沉积出了金刚石膜。用扫描电镜(SEM)和激光拉曼光谱(Raman)分析了金刚石膜的形貌和质量。结果表明:非平面基体不同位置金刚石的晶形不同,晶粒比较细小,膜的质量较高。 展开更多
关键词 非平面基体 金刚石薄膜 微波等离子体cvd法
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采用金刚石阴极的直流等离子体CVD法合成金刚石薄膜
2
作者 松一 《等离子体应用技术快报》 2000年第6期9-10,共2页
关键词 金刚石阴极 直流等离子体cvd法 金刚石薄膜
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直流辉光等离子体助进热丝CVD法沉积金刚石薄膜 被引量：2
3
作者 韩佳宁 赵庆勋 +1 位作者 文钦若 辛红丽 《河北师范大学学报（自然科学版）》 CAS 2002年第1期48-50,共3页
采用直流辉光等离子体助进热丝 CVD的方法 ,低温 ( 5 5 0～ 6 2 0℃ )沉积得到晶态金刚石薄膜 .经X射线衍射谱、扫描电子显微镜及 Raman光谱分析表明 :稍高气压有利于金刚石薄膜的快速、致密生长 .
关键词 低温生长 金刚石薄膜 直流辉光等离子体助进热丝cvd法 沉积条件 X射线衍射谱 Raman方谱
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微波等离子体CVD方法在表面氧化的Cr基体上合成金刚石
4
作者 晓青 《等离子体应用技术快报》 2000年第6期10-11,共2页
关键词 微波等离子体cvd法 表面氧化 铭基 金刚石薄膜
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CVD金刚石涂层硬质合金工具表面预处理新技术 被引量：7
5
作者 苗晋琦 宋建华 +3 位作者 赵中琴 佟玉梅 唐伟忠 吕反修 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期441-444,共4页
研究了利用(KOH+K3(Fe(CN)6)+H2O和H2SO4+H2O2)两种溶液浸蚀硬质合金基体,分别选择性刻蚀WC和Co的表面预处理过程.在浸蚀过的硬质合金基体上,用强电流直流伸展电弧等离子体CVD法沉积金刚石薄膜涂层.结果表明,两步混合处理法不仅可以有... 研究了利用(KOH+K3(Fe(CN)6)+H2O和H2SO4+H2O2)两种溶液浸蚀硬质合金基体,分别选择性刻蚀WC和Co的表面预处理过程.在浸蚀过的硬质合金基体上,用强电流直流伸展电弧等离子体CVD法沉积金刚石薄膜涂层.结果表明,两步混合处理法不仅可以有效地去除硬质合金基体表面的钻,而且还显著粗化硬质合金基体表面,提高了金刚石薄膜的质量和涂层的附着力. 展开更多
关键词 硬质合金 两步法表面预处理 金刚石薄膜 附着力 等离子体cvd法
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CVD金刚石涂层附着性能研究
6
作者 杨仕娥 边超 +4 位作者 马丙现 李会军 王小平 姚宁 张兵临 《郑州大学学报（理学版）》 CAS 2003年第1期36-39,51,共5页
采用微波等离子体 CVD(MPCVD)法在 YG6 硬质合金基体表面沉积金刚石涂层 ,在金刚石的形核和生长阶段分别采用不同的沉积条件 ,研究了分步沉积工艺对金刚石涂层形核、质量及其附着性能的影响 .结果表明 :采用分步优化的沉积工艺 ,可明显... 采用微波等离子体 CVD(MPCVD)法在 YG6 硬质合金基体表面沉积金刚石涂层 ,在金刚石的形核和生长阶段分别采用不同的沉积条件 ,研究了分步沉积工艺对金刚石涂层形核、质量及其附着性能的影响 .结果表明 :采用分步优化的沉积工艺 ,可明显改善金刚石涂层与刀具基体之间的附着性能 ,这主要是由于基体表面形核密度的提高 ,增大了涂层与基体之间的实际接触面积 . 展开更多
关键词 金刚石涂层 形核密度 附着性能 微波等离子体cvd法 沉积工艺 切削工具 附着力
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