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聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶 被引量：3
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作者 苏志珊 马洪 +3 位作者 曾红梅 彭志坚 傅鹤鉴 陈德本 《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期299-303,共5页
讨论了用醇酸树脂或聚氨脂树脂为平坦层 ,几种不同的枝状和线状聚硅烷为抗蚀层 ,在玻璃基片上的XeCl准分子激光光刻效果 .由于聚硅烷与其它树脂相容性不好 ,作者将含氯聚硅烷作为添加剂添加到枝状聚硅烷中进行光刻实验 ,获得最小分辨率... 讨论了用醇酸树脂或聚氨脂树脂为平坦层 ,几种不同的枝状和线状聚硅烷为抗蚀层 ,在玻璃基片上的XeCl准分子激光光刻效果 .由于聚硅烷与其它树脂相容性不好 ,作者将含氯聚硅烷作为添加剂添加到枝状聚硅烷中进行光刻实验 ,获得最小分辨率为 0 .5 μm的明暗线条等宽图形 ,对以不同聚硅烷相互作为添加剂 ,将其配方性能优化进行了有益的尝试 . 展开更多
关键词 聚硅烷 紫外亚微米 光刻胶 O2-RIE处理 微细加工 激光光刻 抗蚀层 添加剂 亚微米图形
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