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157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展
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作者 臧春雨 曹望和 石春山 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第6期34-36,共3页
介绍了半导体制进业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料。介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势。
关键词 紫外光刻设备 光学材料 紫外光刻技术 半导体 制造 CaF2晶体 氟化钙单晶
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