紫外压印过程中的微结构模板脱模分析

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作者 孙文婧 李可 +1 位作者 李凤娇 黄尧 《塑料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第2期151-155,186,共6页

紫外微压印制品的脱模过程可以直接影响制品的成型质量。为了解决微纳紫外压印过程中微结构脱模困难的问题,通过建立微纳紫外压印过程中的微结构模型,采用有限元模拟的方式得到微结构在脱模过程的受力云图,确定了紫外光固化胶与模板上... 紫外微压印制品的脱模过程可以直接影响制品的成型质量。为了解决微纳紫外压印过程中微结构脱模困难的问题,通过建立微纳紫外压印过程中的微结构模型,采用有限元模拟的方式得到微结构在脱模过程的受力云图,确定了紫外光固化胶与模板上应力集中的特征点,同时,得到了特征点采用不同脱模方法下的“应力-时间”曲线,分析特征点的应力状态,得到模板微结构深宽比及脱模方法对脱模过程的影响,通过对比可知,揭开式脱模与整体式脱模相比,紫外胶微结构更不易破损。最终,通过微纳紫外压印实验对模拟结果进行了验证,结果表明,揭开式脱模得到的抗反射微结构样品与整体式脱模得到的抗反射微结构样品的透光率相比,提高了3.1%,因此,揭开式脱模更完整地复制了抗反射微结构,证明了模拟结果的可靠性。 展开更多

关键词 微结构 紫外压印 脱膜 有限元模拟 透光率

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透皮给药实心微针阵列的紫外压印工艺方法 被引量：1

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作者 庄俭 饶峰 +5 位作者 孙靖尧 许红 刘颖 高小龙 黄尧 吴大鸣 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第7期108-113,共6页

文中提出了一种紫外压印技术成型透皮给药实心微针的工艺方法,以C-coating光刻胶作为微针成型的原材料,采用微机电技术加工的聚二甲基硅氧烷(PDMS)微针模具,探究了紫外压印实验中影响微针成型质量的工艺条件。实验结果表明,利用C-coatin... 文中提出了一种紫外压印技术成型透皮给药实心微针的工艺方法,以C-coating光刻胶作为微针成型的原材料,采用微机电技术加工的聚二甲基硅氧烷(PDMS)微针模具,探究了紫外压印实验中影响微针成型质量的工艺条件。实验结果表明,利用C-coating光刻胶抽真空12 min以上,紫外曝光170~200 s时,制备的紫外压印微针的高度能达到230μm。通过纳米压痕力学测试和猪皮离体皮肤穿刺实验,证明这种紫外压印微针的针尖在承受50 mN的力时没有发生断裂破坏现象,并且能够顺利刺入猪皮达到良好的透皮给药效果,为紫外压印技术成型透皮给药微针提供了一定的技术参考。 展开更多

关键词 紫外压印 透皮给药 实心微针

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紫外压印光刻中阻蚀胶残膜刻蚀工艺 被引量：1

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作者 史永胜 丁玉成 +1 位作者 卢秉恒 刘红忠 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1276-1279,共4页

针对紫外(UV)压印光刻在压印工艺过程中会产生阻蚀胶残膜的技术特点,采用以O2为反应气体来清除阻蚀胶残膜的反应离子刻蚀(RIE)工艺方法,研究了不同的反应气体流量、反应腔室压力、射频功率等刻蚀参数对刻蚀速率和刻蚀各向异性的影响,得... 针对紫外(UV)压印光刻在压印工艺过程中会产生阻蚀胶残膜的技术特点,采用以O2为反应气体来清除阻蚀胶残膜的反应离子刻蚀(RIE)工艺方法,研究了不同的反应气体流量、反应腔室压力、射频功率等刻蚀参数对刻蚀速率和刻蚀各向异性的影响,得到了刻蚀速率和刻蚀各向异性随各刻蚀参数的变化趋势图.实验结果表明,减小反应气体压力和气体流速可以降低刻蚀速率,提高刻蚀各向异性.通过对刻蚀参数的优化配置,当射频功率在200 W、反应气体流速在30 mL/min、反应腔室压力为0.6 Pa时,刻蚀速率可以稳定在265 nm/min,各向异性值可以达到13,因此实现了对压印图质形的高质量转移. 展开更多

关键词 紫外压印 阻蚀胶 残膜 反应离子刻蚀

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紫外压印长波红外亚波长结构的涂胶工艺研究 被引量：2

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作者 王志俊 李阳平 +2 位作者 周潇逸 李俊 刘正堂 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期2180-2187,共8页

采用旋涂法进行了Si表面紫外固化胶涂布研究,并压印出了长波红外亚波长结构图形。用激光共聚焦显微镜观察了旋转涂布胶层的表面形貌,测量了表面粗糙度(Ra);用椭圆偏振仪测试了胶层厚度,扫描电子显微镜观察了压印图形的表面形貌,并用扫... 采用旋涂法进行了Si表面紫外固化胶涂布研究,并压印出了长波红外亚波长结构图形。用激光共聚焦显微镜观察了旋转涂布胶层的表面形貌,测量了表面粗糙度(Ra);用椭圆偏振仪测试了胶层厚度,扫描电子显微镜观察了压印图形的表面形貌,并用扫描探针显微镜测量了压印图形的结构高度。结果显示:当匀胶转速较小(如300r/min)时,胶层中不会产生气泡及针孔等缺陷,胶层的Ra小,但胶层均匀性差;提高转速可以改善胶层均匀性,但同时胶层中会产生大量气泡和针孔等缺陷,且它们不会随匀胶时间的延长而消除。文中提出用四转速匀胶法来同时解决胶层均匀性和膜层气泡等问题,获得的胶层无气泡,Ra为317nm时与Si衬底表面相当(324nm),均匀性(最小厚度值与最大厚度值之比)为89.17%,胶层平均厚度为626nm。结果表明:四转速涂胶法获得的胶层满足紫外压印长波红外亚波长结构的要求,压印的图形均匀、完整、保真性好。 展开更多

关键词 紫外压印 亚波长结构 涂胶 表面粗糙度 气泡 针孔

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聚合物表面纳米蛾眼结构的紫外压印制备工艺及抗反射性能 被引量：2

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作者 武敬华 吴大鸣 +3 位作者 刘颖 许红 王琦 江冲 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第8期90-95,共6页

利用滚对平板(RTP)紫外纳米压印工艺在聚合物薄膜表面成功制备出大面积蛾眼纳米结构。通过原子力显微镜观测,可以看出蛾眼纳米结构在聚合物表面排布比较规整,呈乳状凸起阵列排布。蛾眼结构波峰高度复制率可以达到95.2%,表面微结构填充完... 利用滚对平板(RTP)紫外纳米压印工艺在聚合物薄膜表面成功制备出大面积蛾眼纳米结构。通过原子力显微镜观测,可以看出蛾眼纳米结构在聚合物表面排布比较规整,呈乳状凸起阵列排布。蛾眼结构波峰高度复制率可以达到95.2%,表面微结构填充完整,复制效果良好。与单层镀膜(AR-coating)抗反射材料相比,抗反射蛾眼结构反射率测试结果在可见光波段(380~760nm)反射率平均降到3%。视角在110°左右可见光平均反射率为7%。 展开更多

关键词 紫外压印 蛾眼结构 抗反射 聚合物 视角

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基于紫外纳米压印光刻的生物纳米孔测序MEMS芯片设计

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作者 姜保 侍南 +1 位作者 吴炫烨 徐屹峰 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第8期79-82,共4页

纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UV-NIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用... 纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UV-NIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用传统光刻工艺,制造了3种用于纳米孔测序的MEMS双层结构的硅晶圆。这些硅晶圆被用作母板,将其MEMS结构图案精准复制到聚二甲基硅氧烷(PDMS)上,形成压印软模,再用UV-NIL工艺在硅基底上压印出所需的MEMS结构。最后,通过光学和电学两种测试表征手段,成功证实UV-NIL工艺在制造MEMS芯片方面的有效性和可行性。相较于传统光刻,UV-NIL的成功运用将极大提高工艺稳定性并大幅缩减成本。 展开更多

关键词 纳米孔 基因测序 紫外纳米压印光刻

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基于OG154的紫外纳米压印研究

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作者 司卫华 董晓文 +1 位作者 顾文琪 刘泽文 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期230-233,共4页

制作出适用于紫外压印的模板,用自行研制的UVNIL-01型气囊气缸式紫外压印机,分别在硬质纸板上和石英玻璃上做了紫外压印实验。用紫外固化聚合物OG154完成了紫外纳米压印,转移复制了具有100nm特征尺寸纳米结构图形。在实验中,采用的模板... 制作出适用于紫外压印的模板,用自行研制的UVNIL-01型气囊气缸式紫外压印机,分别在硬质纸板上和石英玻璃上做了紫外压印实验。用紫外固化聚合物OG154完成了紫外纳米压印,转移复制了具有100nm特征尺寸纳米结构图形。在实验中,采用的模板面积为5cm×5cm,压力最大为2bar,脆性模板和基片未发生破裂,表明气囊气缸压印系统可以完成大面积图形的转印。实验结果表明,硬质纸板对聚合物OG154的粘附力大于模板对聚合物的粘附力,很利于脱模分离。石英玻璃基板对OG154的粘附力小,很容易剥离成OG154薄膜。 展开更多

关键词 紫外压印 模板 硬质纸板 石英玻璃 OG154

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基于硫醇-烯的微光学元件低收缩紫外压印工艺

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作者 刘楠 金鹏 谭久彬 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期1513-1518,共6页

基于硫醇-烯类材料具有固化凝胶点滞后的特点,本文将多种硫醇-烯类材料应用于紫外压印的连续浮雕结构微光学元件复制加工工艺中,用以降低固化收缩对于加工误差的影响。实验结果表明,虽然该材料的固化收缩达到13%,但加工结果的收缩误差优... 基于硫醇-烯类材料具有固化凝胶点滞后的特点,本文将多种硫醇-烯类材料应用于紫外压印的连续浮雕结构微光学元件复制加工工艺中,用以降低固化收缩对于加工误差的影响。实验结果表明,虽然该材料的固化收缩达到13%,但加工结果的收缩误差优于2%。反应离子刻蚀实验表明,通过调节刻蚀气体含量,该材料可实现连续浮雕结构的等比例图形传递。研究结果表明,应用基于硫醇-烯材料的紫外压印工艺制作连续浮雕结构微光学元件是一种行之有效的方法。 展开更多

关键词 微光学元件 紫外压印 硫醇-烯 固化收缩 反应离子刻蚀

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紫外纳米压印技术的图形转移层工艺研究 被引量：2

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作者 朱兆颖 乌建中 +1 位作者 顾长庚 刘彦伯 《微纳电子技术》 CAS 2006年第10期492-495,共4页

研究了紫外纳米压印技术的图形转移层工艺,通过改变膜厚进行压印对比实验,将转速控制在3000～4000r/min,成功地得到了50nm光栅结构的高保真图形,复型精度可以达到93.75%。同时阐明,纳米压印技术由于具有超高分辨率、低成本、高产量等显... 研究了紫外纳米压印技术的图形转移层工艺,通过改变膜厚进行压印对比实验,将转速控制在3000～4000r/min,成功地得到了50nm光栅结构的高保真图形,复型精度可以达到93.75%。同时阐明,纳米压印技术由于具有超高分辨率、低成本、高产量等显著特点,将成为下一代光刻技术(NGL)的主要候选者之一。 展开更多

关键词 紫外纳米压印技术 图形转移层工艺 光刻

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紫外纳米压印OLED衬底微结构的制备技术 被引量：1

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作者 李阳 徐维 王忆 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2013年第7期462-465,469,共5页

在有机发光二极管(OLED)器件衬底上制备可传递三维立体微结构可有效消除波导、增加出光耦合,从而增加器件出光效率。纳米压印技术是制备立体微结构的主要方法之一。采用紫外纳米压印技术在OLED衬底上制备三维立体微结构。首先采用电子... 在有机发光二极管(OLED)器件衬底上制备可传递三维立体微结构可有效消除波导、增加出光耦合,从而增加器件出光效率。纳米压印技术是制备立体微结构的主要方法之一。采用紫外纳米压印技术在OLED衬底上制备三维立体微结构。首先采用电子束光刻(EBL)技术与干法刻蚀相结合的方法来制备高精度的紫外纳米压印模板;然后对模板进行清洗与抗粘连处理;最后采用紫外纳米压印技术在OLED衬底上成功制备了可传递三维立体微结构。制备结果表明,所形成的微结构具有均匀性好和压印精度高的特点。 展开更多

关键词 有机发光二极管(OLED) 衬底 微结构 模板 紫外纳米压印

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软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文) 被引量：1

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作者 陈静 石剑 +2 位作者 刘正堂 DECANINI Dominique HAGHIRI-GOSNET Anne-Marie 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2012年第1期52-58,共7页

报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射... 报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射频功率、压强和气体流量对刻蚀形貌、表面粗糙度以及刻蚀速度的影响.在优化的工艺条件下,获得了理想的具有垂直侧壁形貌和较小表面粗糙度的纳米光栅阵列.结果表明,选择优化的刻蚀工艺参数,既能有效地改善图形转移的性能,同时也能提高所制备结构的光学应用特性. 展开更多

关键词 软膜紫外光固化纳米压印 反应离子刻蚀 刻蚀形貌 表面粗糙度

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紫外纳米压印OLED衬底微结构的模板制备

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作者 李阳 徐维 +4 位作者 王忆 陈奎 朱铭佳 潘雅雯 梁景生 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2013年第11期721-725,734,共6页

采用紫外纳米压印工艺,在有机发光二极管(OLED)衬底上制备三维立体微结构,可以有效提高器件的出光效率,增加器件发光亮度。而有效实施纳米压印工艺的先决条件是纳米压印模板的制备。首先在沉积有金属Cr薄膜阻挡层(厚度为20 nm)的石英基... 采用紫外纳米压印工艺,在有机发光二极管(OLED)衬底上制备三维立体微结构,可以有效提高器件的出光效率,增加器件发光亮度。而有效实施纳米压印工艺的先决条件是纳米压印模板的制备。首先在沉积有金属Cr薄膜阻挡层(厚度为20 nm)的石英基片上旋涂一层电子敏感光刻胶,然后通过电子束光刻(EBL)技术进行曝光、显影,在光刻胶上形成三维纳米微结构图案。再利用反应离子刻蚀技术和湿法腐蚀技术相结合的方法进行图形的转移,将光刻胶上的纳米微结构转移至石英基片上。通过以上方法制备的纳米压印模板,其微结构具有较好的分布均匀性,可以满足紫外纳米压印技术制备微结构的工艺要求。 展开更多

关键词 有机发光二极管(OLED) 紫外纳米压印 电子束光刻(EBL) 模板 微结构

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紫外纳米压印用PMMA转移层膜的制备及性能

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作者 董会杰 辛忠 陆馨 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第9期561-565,共5页

以苯甲醚为溶剂,采用旋涂法制备PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)转移层膜。当PMMA的质量分数为5%、旋涂速度为2000～6000r/min时,转移层膜的厚度为90～150nm,粗糙度为0.3nm,可满足纳米压印要求。采用接触角测量仪测试计算出PMMA、PS转移层膜的... 以苯甲醚为溶剂,采用旋涂法制备PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)转移层膜。当PMMA的质量分数为5%、旋涂速度为2000～6000r/min时,转移层膜的厚度为90～150nm,粗糙度为0.3nm,可满足纳米压印要求。采用接触角测量仪测试计算出PMMA、PS转移层膜的表面能,并通过转移层膜与压印胶之间的粘附功和界面张力的计算,评价了PMMA、PS和Si片对压印胶的润湿和粘附性能。结果表明,PMMA膜可改善压印胶在基片上的润湿铺展性能和粘附性能,而PS膜虽能改善基片的润湿铺展性能,却不利于压印胶的粘附。 展开更多

关键词 紫外纳米压印 聚甲基丙烯酸甲酯 转移层膜 压印胶 粘附功

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软膜紫外光固化纳米压印制备等离子体纳米孔结构的工艺优化

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作者 陈静 刘正堂 Anne-Marie Haghiri-Gosnet 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第4期899-903,908,共6页

利用软膜紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀技术在玻璃衬底上制备了等离子体纳米孔阵列。为了实现高分辨低成本软膜紫外光固化纳米压印技术在生物传感领域的应用和产业化,必须对压印的一些具体工艺参数如压印压力进行优化。在这项... 利用软膜紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀技术在玻璃衬底上制备了等离子体纳米孔阵列。为了实现高分辨低成本软膜紫外光固化纳米压印技术在生物传感领域的应用和产业化,必须对压印的一些具体工艺参数如压印压力进行优化。在这项工作中,压印压力最小化到10 psi,结果表明这一数值足以保证图案的精确复制以及图案转移的保真度。最后,利用反应离子刻蚀的方法去除残余光胶,并用剥离的方法进行图案转移,成功地制备出了均匀性良好的金纳米孔阵列。为了证明金属纳米周期结构在生物传感上的应用,使该阵列表面吸附蛋白质分子,结果观察到明显的透射峰偏移。 展开更多

关键词 软膜紫外光固化纳米压印 等离子体纳米孔阵列 生物传感

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紫外纳米压印模板表面修饰工艺研究

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作者 朱兆颖 顾长庚 +1 位作者 乌建中 刘彦伯 《机电一体化》 2007年第2期39-42,共4页

研究紫外纳米压印技术的模板表面修饰工艺,对经过表面修饰的模板与未经修饰的模板得到的不同压印结果,通过大量实验进行对比分析,验证模板表面修饰工艺是有效控制压印结果,确保压印复型精度的关键。

关键词 紫外纳米压印技术 模板表面修饰工艺 抗粘连层 集成电路

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含氟紫外纳米压印光刻胶的研制 被引量：5

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作者 赵彬 周伟民 +5 位作者 张静 刘彦伯 王金合 张燕萍 施利毅 张剑平 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第7期471-477,共7页

从主体树脂性质、光引发剂的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助剂,解释了含氟助剂在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对... 从主体树脂性质、光引发剂的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助剂,解释了含氟助剂在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对光刻胶表面性质的影响,并通过接触角数据预测了光刻胶的脱模能力。通过旋涂、压印、刻蚀等实验验证了光刻胶的性能,并通过实验数据筛选出了最佳配方。研制出的光刻胶样品图形保真度高、分辨率好,对底材有良好的黏附力,且具有良好的脱模能力。 展开更多

关键词 紫外纳米压印 光刻胶 含氟助剂 接触角 脱模

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新型高抗粘紫外纳米压印光刻胶的工艺研究 被引量：1

17

作者 李中杰 林宏 +2 位作者 姜学松 王庆康 印杰 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第3期179-182,192,共5页

为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完... 为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完成。实验得到光刻胶掩膜膜厚为1.21μm,结构尺寸深246nm,周期937.5nm。实验结果表明,在没有对石英模板表面进行修饰的情况下,该光刻胶依然表现出高可靠性和高图形转移分辨率,有效减少了紫外纳米压印工艺中的模板抗粘修饰的工艺步骤。 展开更多

关键词 紫外纳米压印 微/纳米尺寸图形 硅片衬底修饰 抗粘连层 图案复制

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紫外纳米压印技术的研究进展 被引量：7

18

作者 殷敏琪 孙洪文 王海滨 《微纳电子技术》 北大核心 2017年第5期347-354,共8页

传统的紫外纳米压印(UV-NIL)虽然不受曝光波长的限制,但是存在气泡残留、压印不均匀、模具寿命短等问题。为解决这些问题产生了各种新型UV-NIL工艺,针对这些工艺阐述了紫外纳米压印技术工艺要素的最新研究进展,包括模具、光刻胶的材料... 传统的紫外纳米压印(UV-NIL)虽然不受曝光波长的限制,但是存在气泡残留、压印不均匀、模具寿命短等问题。为解决这些问题产生了各种新型UV-NIL工艺,针对这些工艺阐述了紫外纳米压印技术工艺要素的最新研究进展,包括模具、光刻胶的材料与制备技术的现状,并列举了步进-闪光压印光刻(S-FIL)、卷对卷式紫外纳米压印光刻(R2R-NIL)等工艺的流程及其特点。紫外纳米压印的图形质量目前仍受光刻胶填充、固化、脱模等物理行为影响。结合最近的实验研究,从理论方面概述了紫外纳米压印的基本原理,主要指出了光刻胶流动行为以及模具降解等问题。最后介绍了一些紫外纳米压印技术的尖端应用。 展开更多

关键词 紫外纳米压印光刻(UV-NIL) 抗蚀剂 热压印光刻(T-NIL) 步进-闪光压印光刻(S-FIL) 卷对卷纳米压印光刻(R2R-NIL)

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硅油稀释PDMS法制备紫外纳米压印软模板 被引量：2

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作者 李海鑫 黄其煜 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第3期188-192,共5页

软模板的制作是紫外纳米压印中关键的技术,模版的分辨率直接决定了压印图形的最小分辨率。使用具有高度均匀、100nm级孔洞阵列结构的多孔氧化铝作为母版,使用基于液态浇铸的硅油稀释聚二甲基硅氧烷(硅油和聚二甲基硅氧烷的质量比为1:2)... 软模板的制作是紫外纳米压印中关键的技术,模版的分辨率直接决定了压印图形的最小分辨率。使用具有高度均匀、100nm级孔洞阵列结构的多孔氧化铝作为母版,使用基于液态浇铸的硅油稀释聚二甲基硅氧烷(硅油和聚二甲基硅氧烷的质量比为1:2)法制备出具有规则点阵结构的软模板。通过SEM和AFM表征发现,特征图形得到了有效转移,特征尺度保持在100nm左右。相对于传统的模板制备方法,此方法成本低、流程简单、适合大规模生产,是一种非常有前途的软模板制备方法。 展开更多

关键词 聚二甲基硅氧烷 硅油 紫外纳米压印 软模板 浇铸法

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基于紫外纳米压印的菲涅耳透镜制作

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作者 邹建兵 浦东林 +1 位作者 申溯 陈林森 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1085-1088,共4页

针对传统聚光系统中菲涅耳透镜成本较高并且光强分布不均匀的弊端,提出了利用紫外纳米压印技术制作菲涅耳透镜的方法.利用几何光学的光线追迹理论,设计了菲涅耳透镜模具.采用自行研制的紫外纳米压印系统对模具进行压印,紫外曝光后制得... 针对传统聚光系统中菲涅耳透镜成本较高并且光强分布不均匀的弊端,提出了利用紫外纳米压印技术制作菲涅耳透镜的方法.利用几何光学的光线追迹理论,设计了菲涅耳透镜模具.采用自行研制的紫外纳米压印系统对模具进行压印,紫外曝光后制得薄膜菲涅耳透镜.在太阳光下进行了测试,测试结果表明,低成本、高聚光倍数和光强分布均匀的菲涅耳透镜是可以实现的. 展开更多

关键词 菲涅耳透镜 紫外纳米压印 聚光型太阳能系统

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