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不同Si_3N_4相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征
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作者 李永乐 黄金亮 +2 位作者 李飞龙 李谦 李丽华 《机械工程材料》 CSCD 北大核心 2017年第5期59-62,共4页
以α-Si_3N_4和β-Si_3N_4粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了α-Si_3N_4涂层、β-Si_3N_4涂层以及二者质量比为1∶1的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗... 以α-Si_3N_4和β-Si_3N_4粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了α-Si_3N_4涂层、β-Si_3N_4涂层以及二者质量比为1∶1的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度。结果表明:α-Si_3N_4涂层表面粗糙不平、起伏不均匀,对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大,红区最长;β-Si_3N_4涂层表面较平整且起伏均匀,对应硅锭的表面粗糙度最小,晶粒尺寸较小,红区最短;复合涂层的表面粗糙度介于上述二者之间,对应硅锭的晶粒尺寸最小,红区长度介于二者之间。 展开更多
关键词 表面粗糙度 Si3N4涂层 红区长度 晶粒尺寸
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