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GaAs HBT中BC结耗尽区电子渡越时间的修正
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作者 石瑞英 刘训春 +1 位作者 石华芬 钱永学 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期30-34,共5页
在对已发表的 Ga As HBT文献的研究中发现 ,其截止频率 f T 的理论计算结果比实验值小很多 ,而相应的文献中并没有给出 f T的计算结果。针对上述问题 ,文中对产生这种差距的原因进行了分析 ,认为由于速度过冲效应的存在 ,使得电子并非... 在对已发表的 Ga As HBT文献的研究中发现 ,其截止频率 f T 的理论计算结果比实验值小很多 ,而相应的文献中并没有给出 f T的计算结果。针对上述问题 ,文中对产生这种差距的原因进行了分析 ,认为由于速度过冲效应的存在 ,使得电子并非以饱和速度 Vsat渡越 BC结耗尽区 ,而是以更高的速度运动。基于上述理论 ,对产生截止频率误差的 BC结耗尽区电子渡越时间τsc进行了修正。利用修正后的公式对文献中的数据进行了重新计算 ,得到了令人满意的结果。 展开更多
关键词 GAAS HBT 砷化镓异质结双极晶体管 能量弛豫时间 速度过冲 BC结耗尽区电子渡越时间
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耗尽区调制对氢化MILC Poly-Si TFT热产生漏电的影响
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作者 朱臻 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2011年第2期43-46,共4页
研究了热载流子应力下耗尽区调制效应对氢化金属诱导横向结晶多晶硅薄膜晶体管热产生漏电的影响.从理论上论证了热载流子应力下氢化金属诱导横向结晶多晶硅薄膜晶体管热产生漏电中的耗尽区调制效应的存在.并利用正、反向测量模式,从实... 研究了热载流子应力下耗尽区调制效应对氢化金属诱导横向结晶多晶硅薄膜晶体管热产生漏电的影响.从理论上论证了热载流子应力下氢化金属诱导横向结晶多晶硅薄膜晶体管热产生漏电中的耗尽区调制效应的存在.并利用正、反向测量模式,从实验上进一步确认这种效应对氢化金属诱导横向结晶多晶硅薄膜晶体管热产生漏电的影响.发现在热载流子应力下,正、反向测量模式时,氢化金属诱导横向结晶多晶硅薄膜晶体管热产生漏电均随应力时间的增加而减小.但由于漏极和源极附近沟道区的表面势受热空穴注入影响的程度不同,热载流子应力下,正、反向测量模式的热产生漏电减小程度不同.理解热载流子应力下耗尽区调制效应对氢化金属诱导横向结晶多晶硅薄膜晶体管热产生漏电的影响,有助于成功设计电路. 展开更多
关键词 金属诱导横向结晶 多晶硅薄膜晶体管 热载流子应力 热产生漏电 耗尽区调制效应
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一种基于传输线理论的pn结二极管小信号模型
3
作者 李翔 刘军 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第3期218-225,共8页
为了精确表征毫米波频段pn结二极管的特性,提出了一种基于传输线理论的pn结二极管小信号模型。该模型包括表征pn结的本征部分和寄生部分。以量化的pn结耗尽区串联电阻作为中间项,通过非线性传输线理论近似方法,推导出全新的pn结二极管... 为了精确表征毫米波频段pn结二极管的特性,提出了一种基于传输线理论的pn结二极管小信号模型。该模型包括表征pn结的本征部分和寄生部分。以量化的pn结耗尽区串联电阻作为中间项,通过非线性传输线理论近似方法,推导出全新的pn结二极管小信号模型的拓扑结构。通过导纳参数和阻抗参数的参数解析提取方法,提取等效电路中各元件参数值。使用某磷化铟(InP)工艺线加工所得2×3μm、8×8μm、4×16μm二极管的散射参数数据进行验证。结果表明,在1~110 GHz频率范围内,不同偏压的模型仿真结果与测试结果均吻合较好,同时也能表明模型在毫米波频段内有良好的适用性。 展开更多
关键词 毫米波频段 PN结 耗尽区串联电阻 传输线理论 参数解析提取
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网格敏感区硅光探测器
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作者 尹长松 刘欢 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期110-113,共4页
研究了网格结构硅光敏二极管,在这种结构中,网格条区为PN结区,网格孔区为高电阻率衬底材料区。在反向工作电压作用下,网孔区将被耗尽,成为PN结与表面耗尽区结构统一的光探测器。测量表明,这种结构的器件是一种高响应度、宽光... 研究了网格结构硅光敏二极管,在这种结构中,网格条区为PN结区,网格孔区为高电阻率衬底材料区。在反向工作电压作用下,网孔区将被耗尽,成为PN结与表面耗尽区结构统一的光探测器。测量表明,这种结构的器件是一种高响应度、宽光谱范围的光探测器件。 展开更多
关键词 光探测器 表面耗尽区 光敏二极管 响应度
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高速集总型双耗尽电吸收调制器的研制
5
作者 邱应平 汪洋 +3 位作者 邵永波 周代兵 赵玲娟 王圩 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期789-792,共4页
设计并研制了一种新的直脊波导集总型电吸收调制器——集总型双耗尽电吸收调制器(D-EAM)。同时,作为实验对照组,还制备了一种普通有源区结构的电吸收调制器(N-EAM)。两种器件的测试结果对比分析表明,D-EAM的电容明显要小于N-EAM。脊波... 设计并研制了一种新的直脊波导集总型电吸收调制器——集总型双耗尽电吸收调制器(D-EAM)。同时,作为实验对照组,还制备了一种普通有源区结构的电吸收调制器(N-EAM)。两种器件的测试结果对比分析表明,D-EAM的电容明显要小于N-EAM。脊波导长度为250μm,宽度为2.5μm的D-EAM在-3V偏压下电容为0.225pF,对应的调制带宽估算为28.3GHz;1 550nm输入波长条件下,D-EAM在偏压为-1V至-2V之间调制效率最大,达到10dB/V,而-3V、-6V下的调制深度分别为22dB和26dB,满足40Gbit/s光纤通信要求。 展开更多
关键词 “双耗尽”有源 电容 静态消光比 RC常数 电荷层
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强光照射下的InGaAs二极管内部光生载流子分析(英文) 被引量:7
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作者 胡伟 豆贤安 孙晓泉 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期138-142,共5页
以InGaAs p-i-n管为例,研究了光电二极管在激光脉冲作用下非线性响应的内部机理特征,计算分析了二极管在强光辐照下内部空间电荷屏蔽效应对器件光电响应特性产生的影响.通过计算耗尽区的电场强度、载流子分布和电子-空穴的漂移速度,发... 以InGaAs p-i-n管为例,研究了光电二极管在激光脉冲作用下非线性响应的内部机理特征,计算分析了二极管在强光辐照下内部空间电荷屏蔽效应对器件光电响应特性产生的影响.通过计算耗尽区的电场强度、载流子分布和电子-空穴的漂移速度,发现低偏置电压或强光辐照都会使耗尽区的电场强度下降,载流子的漂移和扩散速度降低到非饱和状态,使光生载流子的复合率下降,大量载流子聚集在耗尽区内,形成了空间电荷屏蔽效应,导致二极管呈非线性响应状态.在5V偏置电压条件下,增加皮秒激光的脉冲能量,光电二极管的光伏电压响应脉宽逐渐展宽,峰值电压呈非线性变化. 展开更多
关键词 光电二极管 非线性响应 强光辐照 空间电荷屏蔽 耗尽区
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等效表面电荷对台面半导体器件钝化的影响 被引量:3
7
作者 王颖 曹菲 吴春瑜 《电子器件》 CAS 2007年第4期1140-1143,共4页
进一步研究了半导体斜角造型p-n结的表面空间电荷层模型与表面耗尽区模型。计算了耗尽情况下p-n结的表面空间电荷密度,分析了等效表面电荷密度对正斜角造型p-n结表面耗尽区的影响。利用聚酰亚胺和聚酯改性漆钝化的晶闸管电学特性证实了... 进一步研究了半导体斜角造型p-n结的表面空间电荷层模型与表面耗尽区模型。计算了耗尽情况下p-n结的表面空间电荷密度,分析了等效表面电荷密度对正斜角造型p-n结表面耗尽区的影响。利用聚酰亚胺和聚酯改性漆钝化的晶闸管电学特性证实了等效表面电荷密度对台面半导体钝化的影响。同时,通过分别采用聚酰亚胺和掺氧多晶硅钝化的高压整流管研究表明,基于掺氧多晶硅的钝化结构具有屏蔽电荷和均匀电场的作用。 展开更多
关键词 台面半导体器件 钝化 表面空间电荷层 表面耗尽区
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斜角造型高压硅器件表面特性的光感生电流法检测
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作者 董小兵 张少云 徐传骧 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期623-626,共4页
采用激光探针表面电荷测量系统,实现了有机/无机介质膜保护下的高压硅器件表面耗尽区展宽的测量,分析了光感生电流(OBIC)曲线与硅表面少子扩散长度、表面复合速率以及波长相关吸收系数的关系.实验和计算结果表明,He Ne激光束由于具有较... 采用激光探针表面电荷测量系统,实现了有机/无机介质膜保护下的高压硅器件表面耗尽区展宽的测量,分析了光感生电流(OBIC)曲线与硅表面少子扩散长度、表面复合速率以及波长相关吸收系数的关系.实验和计算结果表明,He Ne激光束由于具有较大的吸收系数(>3200cm-1)和适当的透射深度(≈3 1μm),对曲线上下沿变化影响很小,测量结果可以直接反映硅表面本身的响应.小正斜角造型大功率硅整流管在反向偏置下,表面耗尽区在稳态光电导下的扩展几乎都是在低掺杂的n区进行,p区的扩展被"钉扎".表面保护不良时,OBIC曲线可直接反映出局部的电场倍增状态.对不同腐蚀时间处理的磨角造型硅表面,OBIC测量结果表明,当腐蚀时间短时,表面少子寿命较低;反之,则寿命会有所提高. 展开更多
关键词 硅器件 表面耗尽区 光感生电流
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评价功率VDMOS器件SEB效应的畸变NPN模型
9
作者 冯筱佳 唐昭焕 +1 位作者 杨发顺 马奎 《微电子学》 CAS 北大核心 2020年第2期236-240,共5页
构建了一个半径为0.05μm的圆柱体,用于模拟单粒子辐射功率VDMOS器件的粒子径迹,且圆柱体内新生电子和新生空穴的数目沿圆柱体的半径方向呈高斯分布。考虑到功率VDMOS器件的SEB效应与寄生NPN具有直接关系,提出了一种畸变NPN模型,并通过... 构建了一个半径为0.05μm的圆柱体,用于模拟单粒子辐射功率VDMOS器件的粒子径迹,且圆柱体内新生电子和新生空穴的数目沿圆柱体的半径方向呈高斯分布。考虑到功率VDMOS器件的SEB效应与寄生NPN具有直接关系,提出了一种畸变NPN模型,并通过合理假设,推导出功率VDMOS器件在单粒子辐射下安全漏源偏置电压的解析式。结果表明,使用解析式计算得到的SEB阈值与TCAD仿真结果吻合较好。该模型可被广泛用于功率VDMOS器件SEB效应的分析和评价,为抗辐射功率VDMOS器件的选型及评价提供了一种简单和廉价的方法。 展开更多
关键词 功率VDMOS器件 单粒子烧毁 畸变NPN模型 耗尽区电场
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GaAs/AlAs异型异质结导带研究
10
作者 李永平 《曲阜师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2003年第3期55-58,共4页
利用泊松方程分析了异质结导带形状 ,通过数值模拟研究了GaAs AlAs异型异质结在不同掺杂浓度下的导带图 。
关键词 半导体 GaAs/AlAs异型异质结 导带 掺杂浓度 尖峰位置 耗尽区 禁带宽度 PN结
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偏压量子效率测试在薄膜太阳能电池特性分析中的应用 被引量:1
11
作者 黄志鹏 赵守仁 +8 位作者 孙雷 孙朋超 张传军 邬云华 曹鸿 王善力 胡志高 杨平雄 褚君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期395-399,共5页
薄膜太阳能电池在不同偏压下的量子效率(QE)会呈现非常不一样的结果.对不同波长范围内偏压量子效率的分析可以研究薄膜太阳能电池窗口层区域杂质补偿情况、主结势垒高低、背势垒高度等,还可以得出耗尽区宽度以及少子扩散长度等重要参数... 薄膜太阳能电池在不同偏压下的量子效率(QE)会呈现非常不一样的结果.对不同波长范围内偏压量子效率的分析可以研究薄膜太阳能电池窗口层区域杂质补偿情况、主结势垒高低、背势垒高度等,还可以得出耗尽区宽度以及少子扩散长度等重要参数.通过实验测量与理论分析,给出了薄膜太阳能电池耗尽区宽度(W)和少子扩散长度(Ln)与偏压量子效率的关系,提出了一种新的拟合耗尽区宽度(W)和少子扩散长度(Ln)的方法,探讨了偏压量子效率测试在薄膜太阳能电池特性分析中的应用. 展开更多
关键词 偏压量子效率 薄膜太阳能电池 耗尽区宽度 少子扩散长度
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对功率器件击穿电压的模拟优化 被引量:1
12
作者 赵普社 王因生 傅义珠 《电子与封装》 2007年第10期40-43,共4页
文章分析了微波功率器件的特点及其对器件击穿电压的影响,并在此基础上通过采用扩散保护环和耗尽区腐蚀两种方法来提高器件的击穿电压。文中对两种方法的相关参数进行了模拟优化,最终在浓度和厚度分别为9×1015cm-3和3μm的外延材... 文章分析了微波功率器件的特点及其对器件击穿电压的影响,并在此基础上通过采用扩散保护环和耗尽区腐蚀两种方法来提高器件的击穿电压。文中对两种方法的相关参数进行了模拟优化,最终在浓度和厚度分别为9×1015cm-3和3μm的外延材料上制作出击穿电压为55V的C波段20W功率器件。 展开更多
关键词 硅功率器件 击穿电压 扩散保护环 耗尽区腐蚀
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Simulation and Experimental Research on a Schottky Gate Resonant Tunneling Transistor
13
作者 宋瑞良 毛陆虹 +1 位作者 郭维廉 余长亮 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1062-1065,共4页
A Schottky gate resonant tunneling transistor (SGRTT) is fabricated. Relying on simulation by ATLAS software,we find that the gate voltages can be used to control the current of SGRTT when the emitter terminal is gr... A Schottky gate resonant tunneling transistor (SGRTT) is fabricated. Relying on simulation by ATLAS software,we find that the gate voltages can be used to control the current of SGRTT when the emitter terminal is grounded and a positive bias voltage is applied to the collector terminal. When the collector terminal is grounded, the gate voltages can control the peak voltage. As revealed by measurement results, the reason is that the gate voltages and the electric field distribution on emitter and collector terminal change the distribution of the depletion region. 展开更多
关键词 Schottky gate resonant tunneling transistor device simulation depletion region
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位相共轭、自聚焦等相关效应
14
《中国光学》 EI CAS 2001年第6期33-34,共2页
O437 2001063963热及电场诱导的多载流子模型及分析=Multiplecarriermodel and analysis for thermal/electricalpoling[刊,中]/刘雪明,张明德,孙小菡,甘朝钦,黄海峰(东南大学电子工程系,江苏,南京(210096))
关键词 热及电场诱导 多载流子 电子工程 位相共轭 自聚焦 东南大学 相关效应 模型 明德 耗尽区
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一种n^+/p^+环接MOS电容的研制
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作者 崔金洪 郑玉宁 潘光燃 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期53-57,共5页
电容是集成电路的一个组成部分,由于MOS电容与CMOS工艺流程匹配,所以应用广泛。为了改善传统MOS电容值随电压特性的改变而变化的现象,并提高MOS电容值的稳定性,提出了一种新型MOS电容的制作方法和连接结构。新结构是将传统MOS电容的一... 电容是集成电路的一个组成部分,由于MOS电容与CMOS工艺流程匹配,所以应用广泛。为了改善传统MOS电容值随电压特性的改变而变化的现象,并提高MOS电容值的稳定性,提出了一种新型MOS电容的制作方法和连接结构。新结构是将传统MOS电容的一个n+电极更改为p+电极,这样可以使器件的输入电势极性更改前后都为栅氧电容,但在极性更替间,由于有耗尽层存在,电容仍会变小。将两个新结构MOS电容环接,即将其中一个电容的多晶硅层与另一个电容的阱相连接,并用金属连线引出电极,测试结果表明,与传统MOS电容相比,新型MOS电容提升了零电压附近突变区域电容最低值,减小了器件电流波动幅度,有利于提高器件的可靠性。 展开更多
关键词 电容 金属-氧化物-半导体 耗尽区 突变 波动幅度
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Theoretical Investigation of the Effect of the Surface Parameters on Cathodoluminescence Signal
16
作者 Kenieche Daoud Guergouri Kamel 《材料科学与工程(中英文版)》 2011年第4期473-477,共5页
关键词 表面参数 阴极 信号 CDTE 发光强度 缺陷浓度 表面缺陷 耗尽区
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构建金刚石金属氧化物半导体场效应管的全新概念
17
《新材料产业》 2017年第12期69-69,共1页
近期,由法国、英国、日本研究人员组成的国际研究团队开发出在硼掺杂金刚石MOSFET中引入深层耗尽区的新方法。这一全新概念的提出,使金刚石MOSFET的结构更为简单,降低了制造难度。验证表明,新方法可将宽禁带半导体的载流子迁移率提... 近期,由法国、英国、日本研究人员组成的国际研究团队开发出在硼掺杂金刚石MOSFET中引入深层耗尽区的新方法。这一全新概念的提出,使金刚石MOSFET的结构更为简单,降低了制造难度。验证表明,新方法可将宽禁带半导体的载流子迁移率提高一个数量级。 展开更多
关键词 金属氧化物半导体场效应管 金刚石 MOSFET 载流子迁移率 宽禁带半导体 研究人员 耗尽区 硼掺杂
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高效快速的硅雪崩光电二极管
18
作者 朱华海 《半导体光电》 CAS 1980年第1期24-31,共8页
本文报导了高效,快速的保护环硅雪崩光电二极管(GAPD)和拉通型雪崩光电二极管(RAPD)。为使 GAPD 消除光电流中的扩散慢分量,在理论上分析和计算了零场区对它的影响。通过单晶片背面蚀洞减薄,并在背面作硼扩散构成内建场,以便在不增加工... 本文报导了高效,快速的保护环硅雪崩光电二极管(GAPD)和拉通型雪崩光电二极管(RAPD)。为使 GAPD 消除光电流中的扩散慢分量,在理论上分析和计算了零场区对它的影响。通过单晶片背面蚀洞减薄,并在背面作硼扩散构成内建场,以便在不增加工作电压的情况下,实现快速响应和高量子效率。并介绍了在中阻硅单晶片上,用离子注入制作高场区,用上述减薄方法制造了 RAPD。两种实验器件所获得的性能如下:GAPD—击穿电压为105~120V;对锁模 Nd:YAG 激光脉冲,输出脉冲半宽度τ=500ps,前沿为450ps,后沿为750ps,在λ=0.9μm 下,量子效率η≥30%。而 RAPD—击穿电压为120~180V,对锁模 Nd:YAG 激光脉冲,输出脉冲半宽度τ=450ps,前沿和后沿均为450ps,在λ=0.9μm 下,量子效率η≥60%。 展开更多
关键词 击穿电压 保护环 器件 工作电压 锁模 单晶片 硅雪崩光电二极管 耗尽 蚀洞 内建场 激光脉冲 光电流 耗尽区 激光器 光激射器 电子器件 结深 RAPD 环境温度变化 光生载流子 温度补偿电路 过剩噪声因子 电子漂移 信号电流 渡越时间
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热及电场诱导石英光纤的电光系数 被引量:2
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作者 刘雪明 张明德 孙小菡 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期296-299,共4页
利用多载流子模型及单轴对称和光激励机理 ,从理论上计算了经热及电场诱导后的石英光纤的电光系数γ与D型光纤的距离d、诱导时间t和外加电压V的关系。结果表明 ,尽量缩短d并在适当时间内诱导 ,能有效提高电光系数 ;电光系数与外加电压... 利用多载流子模型及单轴对称和光激励机理 ,从理论上计算了经热及电场诱导后的石英光纤的电光系数γ与D型光纤的距离d、诱导时间t和外加电压V的关系。结果表明 ,尽量缩短d并在适当时间内诱导 ,能有效提高电光系数 ;电光系数与外加电压近似平方根关系 ;γ33 与γ1 3 的比值非常接近 3。 展开更多
关键词 石英光纤 热及电场诱导 耗尽区 电光系数 多载流子模型 单轴对称 光激励
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