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硅基片上C_(60)薄膜的生长特性和结构特性研究 被引量:2
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作者 刘波 王豪 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第2期147-151,共5页
本文采用物理气相沉积 (PVD)法在不同预处理的Si(10 0 )衬底上沉积了C6 0 膜 ,并利用AFM和XRD研究了其生长特征和结构特性。结果表明 ,C6 0 膜的生长特性不仅与C6 0 分子的移动性和衬底的表面性质等多种因素有关 ,而且还受衬底表面先前... 本文采用物理气相沉积 (PVD)法在不同预处理的Si(10 0 )衬底上沉积了C6 0 膜 ,并利用AFM和XRD研究了其生长特征和结构特性。结果表明 ,C6 0 膜的生长特性不仅与C6 0 分子的移动性和衬底的表面性质等多种因素有关 ,而且还受衬底表面先前淀积的C6 0 膜的有序性影响 ;H Si(10 0 )面上生长的C6 0 膜与普通抛光Si(10 0 )面上的相比更具有 111 取向。 展开更多
关键词 碳60 薄膜生长硅基片 结构特性
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Atomic Design of Polarity of GaN Films Grown on SIC(0001)
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作者 DAIXian-Qi WUHua-Sheng +2 位作者 XUShi-Hong XIEMao-Hai S.Y.Tong 《Communications in Theoretical Physics》 SCIE CAS CSCD 2004年第4期609-613,共5页
Ab initio total energy calculations are used to determine the interface structure of GaN films grown on 6H-SiC(0001)with different substrate reconstructions.The results indicate that GaN films grown on bare SiC(0001)a... Ab initio total energy calculations are used to determine the interface structure of GaN films grown on 6H-SiC(0001)with different substrate reconstructions.The results indicate that GaN films grown on bare SiC(0001)are of the Ga-polarity,while GaN films grown on SiC(0001)with Si adlayer are of the N-polarity if there is no N-Si interchange at the interface.With the interchange,the GaN films are of the Ga-polarity. 展开更多
关键词 polarity total energy calculation ADLAYER INTERFACE
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