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题名用于调焦调平测量系统中的硅片表面形貌模型
被引量：2
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作者
陈飞彪
李小平
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机构
华中科技大学机械学院
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出处
《微细加工技术》
EI
2006年第3期44-48,共5页
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基金
863重大专项资助项目(2002AA4Z3000)
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文摘
以硅片表面的平整度(flatness)和硅片表面的全场厚度范围(TTV)等参数为基础,建立了硅片表面的理论形貌模型。根据调焦调平测量系统指标等确定了调焦调平测量系统的有效频带,并设计了相应的滤波器。对硅片表面的理论形貌进行滤波后,得到用于调焦调平测量的硅片表面形貌的模型。由于该模型包括硅片表面在一个曝光视场内的模型和全场模型,并以SEMI标准和ITRS预测的相关参数为基础,因此不受实验条件影响,适用范围广,可用于调焦调平测量系统的模拟测试以及相关光刻工艺的分析。
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关键词
扫描投影光刻机
调焦调平测量系统
硅片表面形貌
建模
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Keywords
scanning projection lithography tool
focusing and leveling measurement system
wafer topography
modeling
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分类号
TN307
[电子电信—物理电子学]
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题名调焦调平探测光斑位置误差对测量准确度影响的研究
被引量：9
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作者
廖飞红
李小平
陈学东
李志丹
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机构
华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室
上海微电子装备有限公司
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期1041-1045,共5页
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基金
国家自然科学基金(50605025)
国家973计划(2003CB716206)
中央高校基本科研业务费用专项资金(01-09-100015)资助课题
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文摘
调焦调平测量系统(FLMS),实时测量硅片曝光视场区域与投影物镜焦面的相对位姿,其测量准确度影响光刻机曝光成像质量。调焦调平测量采用大入射角将3个以上的探测光斑投影到硅片曝光视场区域实现对硅片高度和倾斜的测量。如果光斑位置存在误差,就会引起硅片测量准确度误差,进而造成硅片曝光视场区域离焦,影响曝光成像质量。根据调焦调平单点几何测量模型,建立了光斑位置误差模型。研究结果表明,调焦调平单光斑的测量高度误差与光斑水平位置误差成正比,经调整调焦调平的零平面与焦面近似平行,并精确校准光斑水平位置误差到0.05 mm,其造成的测量误差最大为10 nm。
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关键词
测量
光斑位置误差
调焦调平测量系统
光刻机
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Keywords
measurement
spot position error
focusing and leveling measurement systems
lithography
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分类号
O436
[机械工程—光学工程]
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