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基于GBK标量散射模型的超光滑光学元件表面特性参数预测方法
1
作者 刘春江 张耘豪 +1 位作者 钟哲强 张彬 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第10期152-160,共9页
在引力波探测系统中,要实现对引力波的高精度测量,超光滑光学元件散射特性至关重要。然而,现有光学元件表面特性参数测量方法难以满足超光滑光学元件的测量需求。针对这一难题,提出了一种基于GBK(Generalized Beckmann-Kirchhoff)标量... 在引力波探测系统中,要实现对引力波的高精度测量,超光滑光学元件散射特性至关重要。然而,现有光学元件表面特性参数测量方法难以满足超光滑光学元件的测量需求。针对这一难题,提出了一种基于GBK(Generalized Beckmann-Kirchhoff)标量散射模型的光学元件表面特性参数预测方法。利用GBK标量散射模型和基于光腔衰荡技术的表面散射测量方法,建立了表征超光滑光学元件表面特性参数(表面粗糙度和自相关长度)的方程组,进而利用图解法求解得到超光滑光学元件的表面特性参数。为了验证预测方法的适应性,对不同表面特性参数下的多种待测光学元件进行了预测,获得了不同表面特性参数下元件表面粗糙度和自相关长度预测值的相对误差曲线。结果表明:表面粗糙度在0.1064~1.064 nm范围内时,其预测值相对误差均在1%以内;自相关长度在1064~3192 nm范围内时,其预测值相对误差均在1%以内。因此,在文中提出的表面特性参数范围内,该预测方法能快速准确预测超光滑光学元件的表面特性参数,具有较好的适应性和有效性,可为引力波探测系统中超光滑光学元件散射特性的测量提供参考。 展开更多
关键词 引力波探测 超光滑光学元件 GBK标量散射模型 表面粗糙度 自相关长度
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空间引力波探测系统中超光滑光学元件表面散射特性分析 被引量：5
2
作者 张耘豪 钟哲强 张彬 《光电工程》 CSCD 北大核心 2023年第11期86-96,共11页
在引力波探测系统中,超光滑光学元件表面散射特性对高精度引力波测量至关重要。本文针对超光滑光学元件,建立了一种能快速准确地分析和预测其表面散射特性的非傍轴标量散射模型Generalized Beckmann-Kirchhoff(GBK)。在此基础上,研究了... 在引力波探测系统中,超光滑光学元件表面散射特性对高精度引力波测量至关重要。本文针对超光滑光学元件,建立了一种能快速准确地分析和预测其表面散射特性的非傍轴标量散射模型Generalized Beckmann-Kirchhoff(GBK)。在此基础上,研究了入射角度、散射方位角对P偏振和S偏振入射光的角分辨散射分布的影响,以及入射角度、散射方位角、自相关长度、斜率、截止频率以及表面粗糙度等因素对不同表面统计分布特征下的角分辨散射分布的影响。研究结果可为引力波探测系统中超光滑光学元件的加工、系统杂散光的产生及抑制等提供参考。 展开更多
关键词 超光滑光学元件 表面散射模型 偏振散射特性 角分辨散射分布
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超光滑表面抛光技术 被引量：29
3
作者 陈杨 陈建清 陈志刚 《江苏大学学报（自然科学版）》 EI CAS 2003年第5期55-59,共5页
超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用 文中介绍了超光滑表面的物理特征和应用,并根据抛光过程中工件与抛光盘之间的接触状态,将各种抛光方法分为直接接触、准接触和非... 超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用 文中介绍了超光滑表面的物理特征和应用,并根据抛光过程中工件与抛光盘之间的接触状态,将各种抛光方法分为直接接触、准接触和非接触3类,对每一种抛光方法作了总体的描述,详细地介绍了近年来发展的激光抛光技术和化学机械抛光技术及其超光滑表面抛光的加工机理。 展开更多
关键词 抛光 超光滑表面 机理 评价
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超光滑表面加工技术研究进展 被引量：16
4
作者 文东辉 周海锋 +1 位作者 徐钉 朴钟宇 《机电工程》 CAS 2015年第5期579-584,共6页
针对如何高效稳定地获得粗糙度值小、少无亚表面损伤、低成本的超光滑表面的问题,分析了原子级超光滑表面加工技术的加工原理,详细阐述了几类非接触式抛光方法的加工原理及国内外最新研究进展,并着重论述了声悬浮抛光和磨料水射流抛光... 针对如何高效稳定地获得粗糙度值小、少无亚表面损伤、低成本的超光滑表面的问题,分析了原子级超光滑表面加工技术的加工原理,详细阐述了几类非接触式抛光方法的加工原理及国内外最新研究进展,并着重论述了声悬浮抛光和磨料水射流抛光的研究现状。接着,在此基础上对这几类加工方法各方面的优缺点进行了对比总结。最后,针对目前超光滑表面加工技术存在的不足,指出了超光滑表面加工技术有待进一步研究的方向。研究结果表明,采用非接触式的抛光方法,对加工过程加以合理的控制,可大大降低工件表面粗糙度,改善亚表面的损伤情况;目前非接触式抛光普遍对抛光设备精度要求较高,减少加工成本是超光滑表面加工技术进行大规模推广的迫切要求。 展开更多
关键词 研究进展 超光滑表面 非接触式抛光 表面粗糙度 亚表面损伤
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超光滑光学表面加工技术 被引量：29
5
作者 高宏刚 陈斌 曹健林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1995年第4期7-14,共8页
现代科学技术的发展，在许多领域中提出了加工超光滑表面的要求。这种表面不仅要具备较高的面形精度和极低的表面粗糙度，同时要具有完整的表面晶格排布，消除加工损伤层。近年来国际出现了不少成功的超光滑表面加工技术，可以实现表面... 现代科学技术的发展，在许多领域中提出了加工超光滑表面的要求。这种表面不仅要具备较高的面形精度和极低的表面粗糙度，同时要具有完整的表面晶格排布，消除加工损伤层。近年来国际出现了不少成功的超光滑表面加工技术，可以实现表面粗糙度小于１ｎｍ，面形精度优于３０ｎｍ。本文介绍了超光滑表面的主要应用领域；从去除机理的角度讨论了ＢＦＰ抛光、Ｔｅｆｌｏｎ抛光、离子束加工、ＰＡＣＥ加工、浮法抛光、延展性磨削等六种有代表性的超光滑表面加工技术；并对国内情况作了简单分析。 展开更多
关键词 超光滑表面 超精密加工 抛光
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硅晶片的液流悬浮超光滑加工机理与实验 被引量：11
6
作者 曹志强 赵继 +1 位作者 陈德祥 张富 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1084-1089,共6页
建立了基于机器人的液流悬浮超光滑加工系统。配置出了适用的悬浮加工液,通过对硅晶片的大量加工实验研究,得到了加工时间、工具转速和粒子浓度对工件表面质量的影响规律。实验结果表明:当加工时间在60 min、工具转速为6 000 r/min上下... 建立了基于机器人的液流悬浮超光滑加工系统。配置出了适用的悬浮加工液,通过对硅晶片的大量加工实验研究,得到了加工时间、工具转速和粒子浓度对工件表面质量的影响规律。实验结果表明:当加工时间在60 min、工具转速为6 000 r/min上下、粒子浓度为30 g/L左右时,加工效果最佳。加工后的硅晶片表面粗糙度Ra能达到1.55 nm。深入分析了液流悬浮超光滑加工的去除机理,硅晶片的液流悬浮超光滑加工是机械冲击作用和化学作用的综合结果,加工液中的磨料颗粒有对工件表面的机械冲击作用和对化学反应的催化作用。理论分析和实验结果表明,通过采用液流悬浮加工新技术,可以实现对半导体材料硅晶片的纳米水平的超光滑加工,获得表面无塑性变形和晶格缺陷的纳米精度表面。 展开更多
关键词 超光滑加工 液流悬浮 硅晶片 去除机理
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磁流变抛光超光滑光学表面 被引量：14
7
作者 程灏波 冯之敬 王英伟 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期433-436,共4页
研究了利用初始粘度达到0.5Pa·s、具有相对大范围稳定性的标准磁流变抛光液,并结合设计独特的公自转组合运动永磁抛光轮进行了试验,对抛光过程中的主要参量包括抛光轮与工件之间间隙、抛光轮与工件之间相对运动速度、氧化铈浓度及... 研究了利用初始粘度达到0.5Pa·s、具有相对大范围稳定性的标准磁流变抛光液,并结合设计独特的公自转组合运动永磁抛光轮进行了试验,对抛光过程中的主要参量包括抛光轮与工件之间间隙、抛光轮与工件之间相对运动速度、氧化铈浓度及抛光时间对材料去除特性的影响进行了研究.磁流变抛光对工件(K9玻璃)表面粗糙度提高效果的抛光试验结果证明,该套系统具有良好的抛光特性,抛光28min后工件表面粗糙度由最初的10.98nm收敛到0.6315nm,获得了超光滑量级的抛光表面. 展开更多
关键词 磁流变抛光 超光滑 表面粗糙度 去除率 磁偶极子
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大气等离子体抛光技术在超光滑硅表面加工中的应用 被引量：18
8
作者 张巨帆 王波 董申 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1749-1755,共7页
发展了大气等离子体抛光方法,并用于超光滑表面加工。该技术基于低温等离子体化学反应来实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤。运用原子发射光谱法证明了活性反应原子的有效激发,进而揭示了特定激发态原子对应的电子跃迁轨道... 发展了大气等离子体抛光方法,并用于超光滑表面加工。该技术基于低温等离子体化学反应来实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤。运用原子发射光谱法证明了活性反应原子的有效激发,进而揭示了特定激发态原子对应的电子跃迁轨道。在针对单晶硅片的加工实验中,应用有限元分析法在理论上对加工过程中的空间气体流场分布和样品表面温度分布进行了定性分析。后续的温度检测实验证实了样品表面温度梯度的形成,并表明样品表面最高温度仅为90℃。材料去除轮廓检测结果符合空间流场的理论分布模型,加工速率约为32 mm3/min。利用原子力显微镜对表面粗糙度进行测量,证实了加工后样品表面在一定范围内表面粗糙度Ra=0.6 nm。最后,利用X射线光电子谱法研究了该方法对加工后表面材料化学成分的影响。实验和检测结果均表明,该抛光方法可以进行常压条件下的超光滑表面无损抛光加工,实现了高质量光学表面的无损抛光加工。 展开更多
关键词 大气等离子体抛光法 超光滑表面 单晶硅 电容耦合
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超光滑硅柱面反射镜的加工和检测 被引量：8
9
作者 孙侠菲 余景池 +1 位作者 丁泽钊 郭培基 《光学技术》 CAS CSCD 2001年第6期497-498,共2页
介绍了超光滑硅柱面反射镜的加工过程、工艺控制及检测方法。给出了由超光滑硅柱面反射镜组成的准直扩束系统的出射波面的检测结果。
关键词 超光滑 柱面反射镜 加工 检测
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SiC悬浊液超光滑表面加工技术 被引量：4
10
作者 赵继 陈德祥 +2 位作者 张富 詹建明 张恩忠 《吉林大学学报（工学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期518-522,共5页
以纳米SiC颗粒悬浊液作为超光滑加工的载体,研制了适合进行超光滑表面加工且具有良好分散性和稳定性的纳米SiC颗粒悬浊液,阐述了悬浊液浮超光滑表面加工的机理,并用该悬浊液对K9光学玻璃进行了加工试验研究,并进行了AFM测试。验证结果表... 以纳米SiC颗粒悬浊液作为超光滑加工的载体,研制了适合进行超光滑表面加工且具有良好分散性和稳定性的纳米SiC颗粒悬浊液,阐述了悬浊液浮超光滑表面加工的机理,并用该悬浊液对K9光学玻璃进行了加工试验研究,并进行了AFM测试。验证结果表明,加工获得的K9光学玻璃表面粗糙度可以达到Ra=0.84 nm的水平。 展开更多
关键词 机床 超光滑表面加工 悬浊液 加工机理
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掠入射X射线散射法测量超光滑表面 被引量：6
11
作者 王永刚 孟艳丽 +2 位作者 马文生 陈斌 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期60-68,共9页
介绍了掠入射X射线散射法(GXRS)测量超光滑表面的原理及基于商业用X射线衍射仪改造而成的实验装置。选择3片不同粗糙度的硅片作为实验样品,根据一级矢量微扰理论对各个样品所测量的散射分布进行处理。结果表明,GXRS法得到的样品功率谱... 介绍了掠入射X射线散射法(GXRS)测量超光滑表面的原理及基于商业用X射线衍射仪改造而成的实验装置。选择3片不同粗糙度的硅片作为实验样品,根据一级矢量微扰理论对各个样品所测量的散射分布进行处理。结果表明,GXRS法得到的样品功率谱密度函数(PSD)与使用原子力显微镜(AFM)所测量的结果基本相符。分析了探测器接收狭缝的宽度和入射光发散度对实验结果的影响,结果表明,在其他实验条件理想的情况下,当探测器接收狭缝宽度<0.02mm,入射光发散度<43″时,在空间频率>0.03μm-1的范围内,由其引起的PSD函数测量误差<2%。随着探测器接收狭缝宽度和入射光发散度的减小,测量误差呈指数迅速减小。在所测量的空间频率范围内,PSD函数的误差随频率的增加而减小,仪器的重复精度优于2.6%。 展开更多
关键词 掠入射X射线散射法 超光滑表面 微扰理论 功率谱密度(PSD) 原子力显微镜(AFM) 系统误差
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液流悬浮超光滑加工中流体动压力对加工效果的影响 被引量：5
12
作者 曹志强 詹建明 +1 位作者 朱崇涛 赵继 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1069-1074,共6页
建立了基于数控装备的液流悬浮超光滑加工系统，研制了可控制加工压力的柔顺加工装置。应用流体动压理论分析了液流悬浮超光滑加工过程中的流体动压力分布规律，研究了工具转速和加工间隙对流体动压力的影响规律，并通过实验得到了加工... 建立了基于数控装备的液流悬浮超光滑加工系统，研制了可控制加工压力的柔顺加工装置。应用流体动压理论分析了液流悬浮超光滑加工过程中的流体动压力分布规律，研究了工具转速和加工间隙对流体动压力的影响规律，并通过实验得到了加工间隙和流体动压力对加工效果的影响规律。结果表明，随着工具转速的提高，流体动压力逐步增大，在工具转速为6000r／min左右时，流体动压力达到最大值，然后又逐渐减小。随着加工间隙的增大，流体动压力逐步降低，并最终趋于稳定。加工间隙在5～40μm时，加工效果比较明显。在工具转速为6000r／min左右、加工间隙在10μm附近时，流体动压力增强为5N左右，加工效果最佳。 展开更多
关键词 超光滑加工 液流悬浮 流体动压力 加工效果
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基于HHT的微晶玻璃超光滑表面抛光 被引量：4
13
作者 杨志甫 杨辉 +2 位作者 李成贵 刘祎 房建国 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期35-41,共7页
针对激光陀螺反射镜常用材料微晶玻璃的加工技术,介绍了一种较为成熟的超光滑表面加工方法—定偏心浸液式抛光。分析了微晶玻璃的性能和微观结构,得出实现其超光滑表面加工所必须的技术条件。系统论述了提出的超光滑表面抛光方法的基本... 针对激光陀螺反射镜常用材料微晶玻璃的加工技术,介绍了一种较为成熟的超光滑表面加工方法—定偏心浸液式抛光。分析了微晶玻璃的性能和微观结构,得出实现其超光滑表面加工所必须的技术条件。系统论述了提出的超光滑表面抛光方法的基本原理及其抛光工艺过程。通过多次工艺实验,稳定地获得了埃量级的超光滑表面。最后,采用Hil-bert-Huang变换(HHT)非线性平稳信号的时域分析法,通过超光滑表面粗糙度分布曲线到Hilbert谱的一系列数学变换,得出主要抛光工艺参数与表面粗糙度之间的影响关系,对实际加工工艺过程与抛光结果进行有效反馈和指导。基于HHT的超光滑表面抛光方法可以稳定地获得Ra优于0.35 nm的微晶玻璃超光滑表面,目前最好结果为Ra=0.3 nm。 展开更多
关键词 微晶玻璃 超光滑表面 粗糙度 定偏心浸液式抛光 HILBERT Huang变换(HHT)
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纳米磨料硬度对超光滑表面抛光粗糙度的影响 被引量：13
14
作者 陈志刚 陈杨 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1075-1080,共6页
通过均相沉淀法制备了纳米CeO2和Al2O3粉体,研究了在相同抛光条件下纳米CeO2、Al2O3和SiO2磨料对硅片的抛光效果,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度。结果表明:纳米CeO2磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度,在5... 通过均相沉淀法制备了纳米CeO2和Al2O3粉体,研究了在相同抛光条件下纳米CeO2、Al2O3和SiO2磨料对硅片的抛光效果,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度。结果表明:纳米CeO2磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度,在5μm×5μm范围内表面粗糙度Ra值为0.240nm,而且表面的微观起伏更趋向于平缓;考虑了纳米磨料在抛光条件下所发生的自身变形,其变形量相当于一部分抵消了纳米磨料嵌入基体材料的切削深度,而这个切削深度最终决定了抛光表面的粗糙度;分析指出这个变形量与纳米磨料的硬度成反比,硬度低的纳米磨料由于自身变形量大,导致切削深度小,抛光后表面的粗糙度值低。解释了在相同的抛光条件下不同硬度的纳米磨料具有不同的抛光表面粗糙度的原因。 展开更多
关键词 纳米磨料 硬度 粗糙度 超光滑表面 抛光
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超光滑表面加工技术的发展及应用 被引量：8
15
作者 于兆勤 杨忠高 +2 位作者 黄志刚 黄小舟 郭钟宁 《机床与液压》 北大核心 2007年第6期217-220,共4页
超光滑表面加工技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用。本文针对超光滑表面的需求,介绍了超光滑表面制造技术的发展过程,对各种超光滑表面加工原理与方法进行了简单描述与评价,最后提... 超光滑表面加工技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用。本文针对超光滑表面的需求,介绍了超光滑表面制造技术的发展过程,对各种超光滑表面加工原理与方法进行了简单描述与评价,最后提出了一种基于流体二维振动的超光滑表面加工技术,为超光滑表面的加工提供了新的方法。 展开更多
关键词 抛光 超光滑表面 超声振动 超精密加工
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液流悬浮超光滑纳米加工试验 被引量：5
16
作者 曹志强 赵继 +1 位作者 詹建明 张富 《农业机械学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期153-155,共3页
建立了超光滑表面加工的液流悬浮加工系统,并简述了液流悬浮超光滑加工系统及其工作原理。试验实现了光学材料k9玻璃的亚微米去除,并在其表面上获得了纳米级的超光滑表面。试验结果表明,采用液流悬浮加工技术对光学材料进行超光滑加工... 建立了超光滑表面加工的液流悬浮加工系统,并简述了液流悬浮超光滑加工系统及其工作原理。试验实现了光学材料k9玻璃的亚微米去除,并在其表面上获得了纳米级的超光滑表面。试验结果表明,采用液流悬浮加工技术对光学材料进行超光滑加工是一种有效方法。 展开更多
关键词 超光滑加工 液流悬浮 亚微米去除
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流体动压超光滑加工关键工艺参数优化 被引量：5
17
作者 彭文强 关朝亮 +1 位作者 胡旭东 王卓 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第4期179-184,共6页
流体动压超光滑加工材料去除主要受工件表面流体动压和剪切分布的影响,根据材料去除的理论模型分析了影响材料去除的关键工艺参数。基于流体动力学仿真和具体实验对抛光轮浸没深度、抛光轮转速和抛光轮间隙对流体动压超光滑加工的材料... 流体动压超光滑加工材料去除主要受工件表面流体动压和剪切分布的影响,根据材料去除的理论模型分析了影响材料去除的关键工艺参数。基于流体动力学仿真和具体实验对抛光轮浸没深度、抛光轮转速和抛光轮间隙对流体动压超光滑加工的材料去除速率的影响规律进行了研究。分析结果表明:抛光轮的浸没深度对材料去除速率影响不大;材料去除速率随着抛光轮转速的减小、抛光间隙的增大而减小;考虑实际使用条件,最优抛光轮转速为300 r/min、抛光间隙为25μm、抛光轮浸没深度为(2/3)R。同时对抛光头温度稳定性进行了具体实验测试,其在装置启动后4 h基本达到热平衡,通过试运行预热的方式可有效避免温升变化对抛光间隙的影响。 展开更多
关键词 流体动压超光滑加工 工艺参数 材料去除速率 稳定性
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高温超导薄膜衬底材料LaAlO_3单晶的超光滑表面抛光研究 被引量：5
18
作者 张连翰 孙敦陆 +1 位作者 钱小波 杭寅 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期121-123,共3页
本文以化学机械抛光为手段 ,以原子力显微镜 (AFM)为工具 ,对高温超导薄膜衬底材料LaAlO3 单晶的超光滑表面抛光进行研究。既观察到了由传统光学表面向超光滑表面过渡的过程 ,又观察到了超光滑表面加工的结果—表面的本征化。
关键词 高温超导薄膜 衬底材料 LaAlO3单晶 超光滑表面抛光 研究 铝酸镧单晶
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超光滑表面加工方法的新进展 被引量：7
19
作者 张巨帆 王波 董申 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第S1期150-154,共5页
通过回顾超光滑表面加工技术的发展历程,对多种具有代表性的超光滑表面加工方法的原理和应用作了简单阐述,并重点提出和介绍了一种大气等离子体抛光方法。该方法实现了利用常压等离子体激发化学反应来完成超光滑表面的无损伤抛光加工,... 通过回顾超光滑表面加工技术的发展历程,对多种具有代表性的超光滑表面加工方法的原理和应用作了简单阐述,并重点提出和介绍了一种大气等离子体抛光方法。该方法实现了利用常压等离子体激发化学反应来完成超光滑表面的无损伤抛光加工,并首次引入电容耦合式炬型等离子体源,为高质量光学表面的加工提供了一条新的途径。试验结果表明,在针对单晶硅的加工过程中实现了1μm/min的加工速率和Ra 0.6nm的表面粗糙度。 展开更多
关键词 超光滑表面 超精密加工 大气等离子体 电容耦合
原文传递
用于超光滑表面加工的常压低温等离子体抛光系统设计 被引量：6
20
作者 张巨帆 王波 董申 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2008年第3期222-226,共5页
介绍了一种新型超光滑表面加工方法及其系统的设计.该方法主要基于低温等离子体化学作用,通过活性反应原子与工件表面原子间的化学反应实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤.该常压低温等离子体抛光系统首次引入了电容耦合式射... 介绍了一种新型超光滑表面加工方法及其系统的设计.该方法主要基于低温等离子体化学作用,通过活性反应原子与工件表面原子间的化学反应实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤.该常压低温等离子体抛光系统首次引入了电容耦合式射频等离子体炬,并根据装置的实际特性进行了良好的阻抗匹配.原子发射光谱分析结果表明,该系统实现了稳定的大气压等离子体放电,并有效地激发出高密度的活性反应原子.针对单晶硅片的加工试验结果,也证明了该系统可高效稳定地工作,并实现了约1.46,mm3/min的材料去除速率和0.6,nm(Ra)的表面粗糙度. 展开更多
关键词 常压等离子体 超光滑表面 等离子体炬 电容耦合 抛光
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