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运用光蚀刻技术制造金属光栅盘
被引量:
2
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作者
金轸裕
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1996年第3期85-90,共6页
光蚀刻技术广泛应用于金属部件的成型和加工,本文介绍用光蚀刻技术制造金属光栅盘的方法及其中的几个主要问题。
关键词
光蚀刻
光化学加工
光致抗蚀剂
金属光栅盘
下载PDF
职称材料
题名
运用光蚀刻技术制造金属光栅盘
被引量:
2
1
作者
金轸裕
机构
中国科学院长春光学精密机械研究所
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1996年第3期85-90,共6页
文摘
光蚀刻技术广泛应用于金属部件的成型和加工,本文介绍用光蚀刻技术制造金属光栅盘的方法及其中的几个主要问题。
关键词
光蚀刻
光化学加工
光致抗蚀剂
金属光栅盘
Keywords
Photoeting,Photochemical machining,Photoresist,Radial metal grating,Etch factor
分类号
TH741.6 [机械工程—光学工程]
TG665 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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作者
出处
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1
运用光蚀刻技术制造金属光栅盘
金轸裕
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1996
2
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