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题名铁氰化铜钴复合膜的制备及其电化学性能
被引量：3
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作者
李慧
郝晓刚
段东红
张忠林
马旭莉
刘世斌
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机构
太原理工大学洁净化工研究所
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出处
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2009年第3期5-8,21,共5页
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基金
国家自然科学基金(20676089)
山西省自然科学基金(2007011029)资助项目
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文摘
采用电沉积法在铂基体上制备出电活性铁氰化铜钴复合膜。在0.1 mol/LKNO3溶液中采用循环伏安法并结合电化学石英晶体微天平技术考察了复合膜的电化学行为以及循环寿命。并在0.1 mol/L(KNO3+CsNO3)溶液中测定不同混合浓度下复合薄膜的伏安曲线,分析了薄膜对Cs+和K+的选择性。实验表明:铁氰化铜钴复合膜是一种取代型杂化铁氰化物,非单一膜的简单组合。具有良好的离子交换特性及选择性,且循环寿命好于单膜,具备电化学控制离子分离膜的初步特征。
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关键词
电化学控制离子分离
铁氰化铜
铁氰化钴
铁氰化铜钴复合膜
电化学石英晶体微天平
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Keywords
electrochemically controlled ion separation
CuHCF
CoHCF
CuCoHCF hybrid film
EQCM
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分类号
TG174.4
[金属学及工艺—金属表面处理]
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题名铁氰化钴/铜复合膜修饰电极的制备及其对肼的电催化
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作者
王飞
于浩
金君
宋诗稳
廉园园
刘珍叶
齐广才
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机构
延安大学化学与化工学院
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出处
《延安大学学报（自然科学版）》
2011年第4期46-49,52,共5页
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基金
陕西省自然科学基金项目(2010JQ2005)
延安大学专项科研基金(YD-2007-7)
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文摘
采用循环伏安法制备了铁氰化钴/铜(Cu/CoHCF)复合膜化学修饰电极,研究了该修饰电极的电化学性质及电催化活性。结果表明,复合物不是铁氰化钴(CoHCF)与铁氰化铜(CuHCF)的简单混合物,而是钴、铜共沉积形成的多核铁氰化物。该电极对肼具有良好的电催化活性。在优化条件下,安培法检测肼的线性范围为4.6×10-6～4.4×10-2 mol.L-1,检测限(3Sb,n=11)为8.0×10-7 mol.L-1,灵敏度为143.1"A.(mmol.L-1)-1。该法已用于模拟水样中肼含量测定。
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关键词
化学修饰电极
铁氰化钴/铜复合膜
肼
电催化
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Keywords
chemically modified electrode
Cu/CoHCF composite film
hydrazine
electrocatalysis
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分类号
O657.1
[理学—分析化学]
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