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题名硅基底上喷射电沉积铜/钴多层膜的结合力
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作者
徐诚
沈理达
田宗军
刘志东
马云
朱军
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机构
南京航空航天大学机电学院
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出处
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第7期35-39,共5页
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基金
国家自然科学基金(青年基金)资助项目(51105204)
教育部博士点基金资助项目(20113218120022)
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文摘
在硅基底上利用喷射电沉积法制备铜/钴多层膜和单层纯铜膜,研究了多层膜的形貌、多层膜和单层铜膜与基体的结合力以及划痕方向对膜基结合力的影响。结果表明:对硅基底进行抛光处理可使膜基结合力减小,粗化处理可在一定程度上提高膜基结合力;多层膜与基底的结合力大于单层铜膜与基底的结合力;当划痕方向平行于工件运动方向时,膜层中的内应力变化不均匀,很容易造成应力累积而使得临界载荷减小,从而使得膜基结合力明显小于划痕方向垂直于工件运动方向时的膜基结合力。
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关键词
喷射电沉积
硅
铜/钴多层膜
结合力
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Keywords
jet electrodeposition
silicon
Cu/Co multilayer film
adhesion
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分类号
TG662
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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题名铜/钴纳米多层膜的电化学制备及表征
被引量：11
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作者
赵瑾
董大为
张卫国
姚素薇
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机构
天津大学化工学院
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出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2002年第5期1-3,48,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目 (5 0 0 710 39)
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文摘
纳米金属多层膜由于其巨磁电阻性能而受到人们的重视。采用双脉冲控电位技术在单晶硅上沉积铜 /钴纳米多层膜。测量了电沉积过程中的阴极极化曲线及电流 -时间曲线 ,确定了沉积电位 ;利用扫描电子显微技术及X射线衍射技术观察了沉积层的断面形貌及晶体结构。结果表明 ,沉积层结构清晰、连续 ,各子层厚度均匀。
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关键词
铜/钴纳米多层膜
电化学
制备
表征
电沉积
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Keywords
copper/cobalt
nanometer multilayer metal film
electrodeposition
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分类号
O484.1
[理学—固体物理]
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