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离轴照明下依赖于入射角度的矢量霍普金斯公式
被引量：
1
1
作者
曹鹏飞
程琳
张晓萍
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第11期6946-6954,共9页
应用矢量电磁场理论和波导模型推导出离轴照明下的矢量霍普金斯公式,与传统的标量霍普金斯公式不同之处在于引入了入射角及入射方位角.通过仿真实际投影光刻工艺下三维掩模的成像效果,分析了最佳入射角范围,讨论了离轴照明时入射角对最...
应用矢量电磁场理论和波导模型推导出离轴照明下的矢量霍普金斯公式,与传统的标量霍普金斯公式不同之处在于引入了入射角及入射方位角.通过仿真实际投影光刻工艺下三维掩模的成像效果,分析了最佳入射角范围,讨论了离轴照明时入射角对最终成像质量的影响.
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关键词
光学光刻
矢量
霍普金斯公式
矢量电磁场理论
离轴照明
原文传递
紫外光刻中部分相干光的传播及衍射效应
被引量：
9
2
作者
李木军
沈连婠
+5 位作者
赵玮
李晓光
范明聪
王晓东
刘雳颋
郑津津
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期24-29,共6页
基于Hopkins公式,研究了接近式紫外光刻中扩展准单色光源经柯勒照明系统传播到掩模表面上任两点的复相干度,并建立相应的基于部分相干光理论的光刻模型.应用部分相干光的传播理论,研究掩模平面到光刻胶表面任意两点互强度的传播,进而得...
基于Hopkins公式,研究了接近式紫外光刻中扩展准单色光源经柯勒照明系统传播到掩模表面上任两点的复相干度,并建立相应的基于部分相干光理论的光刻模型.应用部分相干光的传播理论,研究掩模平面到光刻胶表面任意两点互强度的传播,进而得到光刻胶表面的光强分布.以此为基础,分析了由于掩模与光刻胶之间光的衍射效应而产生的光刻微结构的图形失真.给出了理论模型的计算模拟结果,并用实验对该理论模型的计算结果进行了验证.
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关键词
接近式紫外光刻
部分相干光
复相干度
霍普金斯公式
图形失真
下载PDF
职称材料
接近式光刻图形失真的部分相干光理论分析
被引量：
2
3
作者
李木军
沈连婠
+3 位作者
郑津津
赵玮
李晓光
刘雳頲
《纳米技术与精密工程》
EI
CAS
CSCD
2007年第3期224-229,共6页
光刻过程中由于光的衍射效应产生的非线性畸变对光刻面形质量具有严重影响,是造成光刻微结构图形失真的主要原因之一.为此,研究了接近式紫外光刻中部分相干光的传播过程,建立了相应的光刻理论模型,对光刻成像中的误差产生机理进行分析....
光刻过程中由于光的衍射效应产生的非线性畸变对光刻面形质量具有严重影响,是造成光刻微结构图形失真的主要原因之一.为此,研究了接近式紫外光刻中部分相干光的传播过程,建立了相应的光刻理论模型,对光刻成像中的误差产生机理进行分析.该模型综合考虑光源和照明系统对掩模微结构附近光场相干性的影响,将光刻模拟分为3部分.首先根据Van Cittert-Zernike定理确定了光源经扩束准直系统传播到蝇眼透镜入射面时光场上任2点的互强度.然后应用部分相干光的传播理论,由Hopkins公式得到部分相干光经蝇眼透镜传播到掩模平面后其上任一点对的复相干度的分布规律.最后根据互强度传播定律,分析从掩模面到光刻胶表面的衍射效应,得到光刻胶表面的光强分布及变化规律,并且通过误差的仿真分析模拟得到光刻胶图形轮廓.结果表明,理论模拟结果与实验较为吻合.该方法能准确地得到衍射光场的分布,进行光刻误差分析,从而能较好地发现曝光图形缺陷.
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关键词
接近式紫外光刻
部分相干光
复相干度
霍普金斯公式
图形失真
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职称材料
题名
离轴照明下依赖于入射角度的矢量霍普金斯公式
被引量：
1
1
作者
曹鹏飞
程琳
张晓萍
机构
兰州大学信息科学与工程学院
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第11期6946-6954,共9页
基金
教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NECT-04-0981)资助的课题~~
文摘
应用矢量电磁场理论和波导模型推导出离轴照明下的矢量霍普金斯公式,与传统的标量霍普金斯公式不同之处在于引入了入射角及入射方位角.通过仿真实际投影光刻工艺下三维掩模的成像效果,分析了最佳入射角范围,讨论了离轴照明时入射角对最终成像质量的影响.
关键词
光学光刻
矢量
霍普金斯公式
矢量电磁场理论
离轴照明
Keywords
optical lithography,vectorial Hopkins formula,vector electromagnetism theory,off-axis illumination
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TP333.4 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
原文传递
题名
紫外光刻中部分相干光的传播及衍射效应
被引量：
9
2
作者
李木军
沈连婠
赵玮
李晓光
范明聪
王晓东
刘雳颋
郑津津
机构
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
出处
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期24-29,共6页
基金
国家自然科学基金(60473133)
安徽省自然科学基金(03044106)资助
文摘
基于Hopkins公式,研究了接近式紫外光刻中扩展准单色光源经柯勒照明系统传播到掩模表面上任两点的复相干度,并建立相应的基于部分相干光理论的光刻模型.应用部分相干光的传播理论,研究掩模平面到光刻胶表面任意两点互强度的传播,进而得到光刻胶表面的光强分布.以此为基础,分析了由于掩模与光刻胶之间光的衍射效应而产生的光刻微结构的图形失真.给出了理论模型的计算模拟结果,并用实验对该理论模型的计算结果进行了验证.
关键词
接近式紫外光刻
部分相干光
复相干度
霍普金斯公式
图形失真
Keywords
proximity uv-lithography
partial coherent light
complex degree of coherence
Hopkins formula, graph distortion
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
接近式光刻图形失真的部分相干光理论分析
被引量：
2
3
作者
李木军
沈连婠
郑津津
赵玮
李晓光
刘雳頲
机构
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
出处
《纳米技术与精密工程》
EI
CAS
CSCD
2007年第3期224-229,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(60473133)
中科院"百人计划"资助项目
文摘
光刻过程中由于光的衍射效应产生的非线性畸变对光刻面形质量具有严重影响,是造成光刻微结构图形失真的主要原因之一.为此,研究了接近式紫外光刻中部分相干光的传播过程,建立了相应的光刻理论模型,对光刻成像中的误差产生机理进行分析.该模型综合考虑光源和照明系统对掩模微结构附近光场相干性的影响,将光刻模拟分为3部分.首先根据Van Cittert-Zernike定理确定了光源经扩束准直系统传播到蝇眼透镜入射面时光场上任2点的互强度.然后应用部分相干光的传播理论,由Hopkins公式得到部分相干光经蝇眼透镜传播到掩模平面后其上任一点对的复相干度的分布规律.最后根据互强度传播定律,分析从掩模面到光刻胶表面的衍射效应,得到光刻胶表面的光强分布及变化规律,并且通过误差的仿真分析模拟得到光刻胶图形轮廓.结果表明,理论模拟结果与实验较为吻合.该方法能准确地得到衍射光场的分布,进行光刻误差分析,从而能较好地发现曝光图形缺陷.
关键词
接近式紫外光刻
部分相干光
复相干度
霍普金斯公式
图形失真
Keywords
proximity UV-lithography
partial coherent light
complex degree of coherence
Hopkins formula
pattern distortion
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
离轴照明下依赖于入射角度的矢量霍普金斯公式
曹鹏飞
程琳
张晓萍
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
1
原文传递
2
紫外光刻中部分相干光的传播及衍射效应
李木军
沈连婠
赵玮
李晓光
范明聪
王晓东
刘雳颋
郑津津
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007
9
下载PDF
职称材料
3
接近式光刻图形失真的部分相干光理论分析
李木军
沈连婠
郑津津
赵玮
李晓光
刘雳頲
《纳米技术与精密工程》
EI
CAS
CSCD
2007
2
下载PDF
职称材料
已选择
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