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IBC太阳电池非均匀掺杂衬底结构参数的优化研究 被引量:2
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作者 周涛 陆晓东 +1 位作者 吴元庆 张金晶 《高技术通讯》 CAS CSCD 北大核心 2016年第8期773-779,共7页
利用TCAD半导体器件仿真软件设计了一种具有非均匀掺杂衬底结构的N型插指背结背接触(IBC)单晶硅太阳电池。全面系统地分析了非均匀掺杂衬底结构的表面浓度和扩散深度对IBC太阳电池外量子效率、短路电流密度、开路电压、填充因子及转换... 利用TCAD半导体器件仿真软件设计了一种具有非均匀掺杂衬底结构的N型插指背结背接触(IBC)单晶硅太阳电池。全面系统地分析了非均匀掺杂衬底结构的表面浓度和扩散深度对IBC太阳电池外量子效率、短路电流密度、开路电压、填充因子及转换效率的影响。仿真结果表明:非均匀掺杂衬底结构在一定程度上可提高IBC太阳电池的转换效率;非均匀掺杂衬底结构当扩散深度一定时,存在最优的表面浓度,使得IBC太阳电池的转换效率最高,且非均匀掺杂衬底结构的扩散深度越浅,最优的表面浓度越高。当扩散深度为1.9μm时,最优的表面浓度为3×1016cm-3,电池效率为22.86%;当扩散深度减小到1.1μm时,最优的表面浓度大于1×1018cm-3,电池效率大于23.092%。当非均匀掺杂衬底结构的表面浓度一定时,随着扩散深度的增大,IBC太阳电池转换效率随之降低。 展开更多
关键词 背接触 太阳电池 非均匀掺杂 衬底 表面浓度 扩散深度 转换效率
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非均匀掺杂衬底MOST阈值电压的解析模型 被引量:2
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作者 陈军宁 柯导明 +1 位作者 周国强 侯整风 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1999年第2期173-181,共9页
用数值方法与解析方法相结合,导出了非均匀掺杂衬底MOST阈值电压的解析模型。该模型在形式上类似于SPICE程序中的MOST模型,但是所有参数都用数值方法处理过,因此是一个概念清晰、计算量小的高精度模型。该模型可用于电... 用数值方法与解析方法相结合,导出了非均匀掺杂衬底MOST阈值电压的解析模型。该模型在形式上类似于SPICE程序中的MOST模型,但是所有参数都用数值方法处理过,因此是一个概念清晰、计算量小的高精度模型。该模型可用于电路分析程序。 展开更多
关键词 非均匀掺杂衬底 硅晶体管 阈值电压 解析模型
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两层FeSi_2非均匀掺杂梯度材料热电性能研究 被引量:1
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作者 刘晓珍 Z.A.Munir 邹从沛 《核动力工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期246-248,259,共4页
采用场激活方法合成掺杂浓度不同的两层非均匀梯度13相FeSi2,用波谱分析了掺杂在两层界面 处的分布,并测量了Mn掺杂丰口Co掺杂的两层非均匀掺杂梯度材料的Seebeck系数和电导率,计算了功率 因子。与相应的均匀材料相比,这种结构具有调节... 采用场激活方法合成掺杂浓度不同的两层非均匀梯度13相FeSi2,用波谱分析了掺杂在两层界面 处的分布,并测量了Mn掺杂丰口Co掺杂的两层非均匀掺杂梯度材料的Seebeck系数和电导率,计算了功率 因子。与相应的均匀材料相比,这种结构具有调节热电性能与温度分布的能力。 展开更多
关键词 β相FeSi2 非均匀掺杂梯度热电材料 热电性能
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考虑非均匀掺杂衬底对一维MOST模型的修正
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作者 柯导明 陈军宁 +2 位作者 代月花 宣长林 段运生 《安徽大学学报(自然科学版)》 CAS 2000年第1期26-34,共9页
为了控制MOST的阈值电压和减小DIBL效应 ,必须对MOST的沟道进行离子注入。这种非均匀掺杂衬底MOST特性的最常用分析方法是数值模拟 ,但这种方法计算量大 ,不能得到解析模型 ,不适用于电路模拟设计。本文所提出的解析模型与SPICEMOS3模... 为了控制MOST的阈值电压和减小DIBL效应 ,必须对MOST的沟道进行离子注入。这种非均匀掺杂衬底MOST特性的最常用分析方法是数值模拟 ,但这种方法计算量大 ,不能得到解析模型 ,不适用于电路模拟设计。本文所提出的解析模型与SPICEMOS3模型形式相似 ,但其所有参数都是数值模拟的解析公式。新模型将数值分析与解析方法结合起来 ,具有精度高 ,概念清晰 ,计算量小等优点 ,适用于电路分析程序。 展开更多
关键词 非均匀掺杂衬底 数值模拟 MOST 集成电路
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锰离子非均匀掺杂TiO2薄膜电极光电催化测定COD 被引量:6
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作者 田玉华 李新军 +2 位作者 郑少健 张玉媛 冯满枝 《生态环境》 CSCD 北大核心 2008年第2期489-494,共6页
COD是水体质量评价的一个重要指标,目前对于COD测定方法主要是高锰酸钾法和重铬酸钾法,这些方法的测定工艺相对繁杂。本文采用溶胶-凝胶法分步控制工艺制备锰离子非均匀掺杂二氧化钛的薄膜电极,并用该薄膜作为光电催化电极测定COD。在... COD是水体质量评价的一个重要指标,目前对于COD测定方法主要是高锰酸钾法和重铬酸钾法,这些方法的测定工艺相对繁杂。本文采用溶胶-凝胶法分步控制工艺制备锰离子非均匀掺杂二氧化钛的薄膜电极,并用该薄膜作为光电催化电极测定COD。在三电极体系中,比较该薄膜电极与纯二氧化钛薄膜电极对于氧化丁二酸、乙醇、邻苯二甲酸氢钾、α-D-葡萄糖四种有机物的影响。实验结果表明:三电极体系中电子转移的电量与有机物完全矿化所需的化学需氧量(COD)有着内在的关系。在相同的条件下,锰离子非均匀掺杂二氧化钛的薄膜氧化降解丁二酸、乙醇、邻苯二甲酸氢钾、α-D-葡萄糖的速率大于纯二氧化钛薄膜。进一步结合线性扫描伏安(LSV)、阻抗谱等光电化学表征,从锰离子非均匀掺杂引起二氧化钛薄膜光生空穴-电子分离,初步分析了其光电催化活性提高的机理。 展开更多
关键词 COD 光电催化 TIO2薄膜 非均匀掺杂
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反射式非均匀掺杂负电子亲和光电阴极量子效率研究 被引量:2
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作者 傅江涛 张松春 常本康 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期1492-1496,共5页
内建电场对提高阴极量子效率有重要作用。为获得恒定的电场强度,需要用指数掺杂方式对光电阴极激活层进行掺杂。指数掺杂实际上是一种特殊的梯度掺杂,针对这种掺杂方式,建立了指数掺杂和均匀掺杂加权的量子效率公式。实验设计了4种掺杂... 内建电场对提高阴极量子效率有重要作用。为获得恒定的电场强度,需要用指数掺杂方式对光电阴极激活层进行掺杂。指数掺杂实际上是一种特殊的梯度掺杂,针对这种掺杂方式,建立了指数掺杂和均匀掺杂加权的量子效率公式。实验设计了4种掺杂浓度从1019-1018cm-3掺杂样品,测量样品的光谱响应曲线和量子效率曲线,并分别用均匀掺杂量子效率公式,指数掺杂量子效率公式和新建立的梯度掺杂量子效率公式这三种方式,对量子效率曲线进行了拟合,证明了该量子效率公式具有较高的拟合精度。 展开更多
关键词 光电子学 量子效率 非均匀掺杂 GAAS光电阴极 负电子亲和
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深亚微米SOI横向非均匀掺杂推进型栅控混合管的准二维亚阈电流模型
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作者 黄如 卜伟海 +1 位作者 张兴 王阳元 《中国科学(E辑)》 CSCD 北大核心 2001年第5期423-430,共8页
采用两管模型分析了新型深亚微米SOI推进型栅控混合管的工作机制 ,该器件有效地改善了传统MOS器件中提高速度和降低功耗之间的矛盾 ,并且大大提高了输出电阻 .在此基础上提出了该器件的亚阈电流模型 .模型中考虑了横向非均匀掺杂对体效... 采用两管模型分析了新型深亚微米SOI推进型栅控混合管的工作机制 ,该器件有效地改善了传统MOS器件中提高速度和降低功耗之间的矛盾 ,并且大大提高了输出电阻 .在此基础上提出了该器件的亚阈电流模型 .模型中考虑了横向非均匀掺杂对体效应、短沟效应及迁移率的影响 .在考虑可动电荷影响的情况下进行准二维分析 ,求解表面势 ,进而求出包括扩散分量和漂移分量的亚阈电流 .模型计算结果得到良好的验证 ,正确反映了SOI推进型栅控混合管的电流特性 .该模型同时对POCKET注入深亚微米MOSFET的电流模拟有重要参考意义 . 展开更多
关键词 SOI 动态阈值 栅控混合管 深亚微米 二维亚阈 微电子技术 DTMOS 横向非均匀掺杂
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基于非均匀掺杂的激光二极管抽运固体激光系统放大介质热特性分析 被引量:4
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作者 单小童 严雄伟 +5 位作者 张雄军 郑建刚 王明哲 张永亮 於海武 李明中 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期43-48,共6页
利用非均匀掺杂的设计思想,针对正面抽运、背面冷却的有源反射镜放大器结构中不同激活离子掺杂分布的介质进行了模拟计算,分析并比较了传统均匀掺杂介质与非均匀掺杂放大介质中的温度、温度梯度、应力、应变以及波前畸变的分布。结果表... 利用非均匀掺杂的设计思想,针对正面抽运、背面冷却的有源反射镜放大器结构中不同激活离子掺杂分布的介质进行了模拟计算,分析并比较了传统均匀掺杂介质与非均匀掺杂放大介质中的温度、温度梯度、应力、应变以及波前畸变的分布。结果表明,与传统均匀掺杂介质相比,非均匀掺杂放大介质内的温度、温度梯度、应力、应变与波前畸变均有明显的降低。模拟结果证明,非均匀掺杂可以改善有源反射镜放大器构型冷却与产热异面的问题,可以有效地提高放大器增益介质热管理性能,为进一步讨论基于非均匀掺杂的放大介质的热管理优化提供了基础。 展开更多
关键词 激光器 热管理 数值模拟 YB:YAG晶体 激光二极管抽运 非均匀掺杂
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光CATV系统中提高受激布里渊阈值功率方法的研究
9
作者 王辉 朱为 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期18-21,共4页
受激布里渊散射是限制光CATV传输系统入射功率从而限制系统传输距离的主要障碍 .本文研究了光CATV传输系统中提高受激布里渊阈值功率的一种方法———非均匀掺杂光纤法 .若光纤纤芯和包层参杂浓度沿传输方向变化 ,将导致布里渊频移发生... 受激布里渊散射是限制光CATV传输系统入射功率从而限制系统传输距离的主要障碍 .本文研究了光CATV传输系统中提高受激布里渊阈值功率的一种方法———非均匀掺杂光纤法 .若光纤纤芯和包层参杂浓度沿传输方向变化 ,将导致布里渊频移发生变化 ,增益谱结构变化 ,最终影响受激布里渊阈值功率 .本文分析了阈值功率与布里渊频移分布之间的数量关系 ,设计了渐增型、周期正弦型、正弦型、三角型和平方型 5种沿光传输方向频移分布的方案 ,比较了它们提高SBS阈值功率的效果 .数值计算表明 :布里渊阈值功率可提高 2 0dB ,可将传输距离提高 1 0 0km . 展开更多
关键词 光CATV系统 受激布里渊散射 非均匀掺杂光纤 功率
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无结器件的单粒子辐射效应
10
作者 唐琰 王颖 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期308-311,共4页
介绍了一种新型沟道非均匀掺杂的双栅无结金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。采用Sentaurus TCAD仿真软件对不同沟道掺杂浓度(NSC)的沟道非均匀掺杂双栅无结MOSFET和传统双栅无结MOSFET进行了电特性与单粒子辐射效应对比研究,并分... 介绍了一种新型沟道非均匀掺杂的双栅无结金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。采用Sentaurus TCAD仿真软件对不同沟道掺杂浓度(NSC)的沟道非均匀掺杂双栅无结MOSFET和传统双栅无结MOSFET进行了电特性与单粒子辐射效应对比研究,并分析了不同源端沟道掺杂与源端沟道长度(LSC)下新型双栅无结MOSFET的单粒子辐射特性。仿真结果表明,新型双栅无结MOSFET的电学特性与传统双栅无结MOSFET相差不大,但在抗单粒子辐射方面具有优良的性能,在受到单粒子辐射时,可有效降低沟道内电子-空穴对的产生概率,漏极电流与收集电荷都低于传统无结器件,同时还可以降低寄生三极管效应对器件的影响。 展开更多
关键词 无结器件 双栅器件 沟道非均匀掺杂 单粒子辐射 寄生三极管效应
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离子注入MOS结构少子产生寿命的确定 被引量:1
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作者 吴春瑜 张久惠 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 1995年第1期51-54,共4页
本文分析了非均匀掺杂衬底MOS结构的电流和电容对线性扫描电压的瞬态响应,采用较精确的产生区模型,提出了瞬态电流和瞬态电容联合技术测量非均匀掺杂衬底MOS结构电容少子产生寿命的方法,本方法无需计算图形积分和衬底的杂质分... 本文分析了非均匀掺杂衬底MOS结构的电流和电容对线性扫描电压的瞬态响应,采用较精确的产生区模型,提出了瞬态电流和瞬态电容联合技术测量非均匀掺杂衬底MOS结构电容少子产生寿命的方法,本方法无需计算图形积分和衬底的杂质分布,因而简单实用。 展开更多
关键词 非均匀掺杂衬底 少子产生寿命 MOS结构 离子注入
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Threshold Voltage Model for a Fully Depleted SOI-MOSFET with a Non-Uniform Profile
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作者 张国和 邵志标 周凯 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期842-847,共6页
A novel approximation of the two-dimensional (2D) potential function perpendicular to the channel is proposed,and then an analytical threshold voltage model for a fully depleted SOI-MOSFET with a non-uniform Gaussia... A novel approximation of the two-dimensional (2D) potential function perpendicular to the channel is proposed,and then an analytical threshold voltage model for a fully depleted SOI-MOSFET with a non-uniform Gaussian distribution doping profile is given based on this approximation. The model agrees well with numerical simulation by MEDICI. The result represents a new way and some reference points in analyzing and controlling the threshold voltage of non-uniform fully depleted (FD) SOI devices in practice. 展开更多
关键词 fully depleted SOI-MOSFET NON-UNIFORM surface potential threshold voltage
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