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氧化镍电致变色薄膜及其器件的制备与性能研究 被引量:2
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作者 罗自良 王顺花 +2 位作者 毛佳伟 朱鸣飞 刁训刚 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2022年第5期66-73,共8页
以氧化铟锡(ITO)玻璃为基底,采用直流反应磁控溅射法在室温环境下制备了高透过率调制的NiO_(x)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子电镜(SEM)、紫外可见分光光度计(UV 3600)对薄膜进行分析和表征,研究溅射过程中氩氧比、气压、功率对... 以氧化铟锡(ITO)玻璃为基底,采用直流反应磁控溅射法在室温环境下制备了高透过率调制的NiO_(x)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子电镜(SEM)、紫外可见分光光度计(UV 3600)对薄膜进行分析和表征,研究溅射过程中氩氧比、气压、功率对薄膜结构、形貌及电致变色性能的影响。结果表明:制备的NiO_(x)薄膜表面有明显的结晶颗粒及孔隙,并沿(200)晶面择优生长;随着气压、功率、氧分压的增大,透过率调制先增大后减小,在时间为45 min、溅射气压4.9 Pa、氩氧比113∶7、功率215 W时最高可达58.3%,着褪色响应时间分别为9和19s,相应的着褪色效率分别为77.56和40.39 cm^(2)/C;以最优工艺的NiO_(x)薄膜组装了结构为Glass/ITO/NiO_(x)/Li-electrolyte/WO/ITO/Glass的电致变色器件,器件在550 nm处的光调制幅度为46.5%,着褪色时间分别为27和45 s,相应的着褪色速率为1.5和0.9%/s,在循环500次后透过率调制保持在40%以上。 展开更多
关键词 磁控溅射 NiO_(x)薄膜 电致变色器件 高调制幅度
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基于双平行MZM调制器的矢量毫米波信号传输性能分析 被引量:1
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作者 孟昭 赵峰 +3 位作者 田昺瑶 王肖 杨雄伟 赵林仙 《光电子.激光》 CAS CSCD 北大核心 2022年第11期1183-1191,共9页
提出了一种基于双平行马赫-曾德尔调制器(dual parallel Mach-Zehnder modulators,DP-MZM)的单边带矢量毫米波信号产生和传输方案,在MATLAB和VPI联合仿真环境下分析了90 GHz波段不同调制格式信号的产生和传输性能。仿真中,DP-MZM工作在... 提出了一种基于双平行马赫-曾德尔调制器(dual parallel Mach-Zehnder modulators,DP-MZM)的单边带矢量毫米波信号产生和传输方案,在MATLAB和VPI联合仿真环境下分析了90 GHz波段不同调制格式信号的产生和传输性能。仿真中,DP-MZM工作在光载波抑制(optical carrier suppression,OCS)模式时,小信号驱动的两个子调制器输出的单边带信号相互叠加后,无需使用滤波器,可以实现完全抑制中心载波的效果。结果表明:经过该系统传输后,各调制信号的误码率(bit error rate,BER)均可达到硬判决前向纠错(hard judgment forward error currection,HD-FEC)阈值。概率整形后正交幅度调制信号的误码性能明显优于均匀正交幅度调制信号,其中,7 bit/symbol概率整形256阶正交幅度调制(probability shaping 256 quadrature amlitude modulation,PS-256QAM)信号经过系统传输后功率增益最为明显,经过50 km光纤传输后,提升了2.94 dB的功率增益。与目前存在的载波抑制毫米波产生方案相比,该系统结构相对简单,可调节度高,信号传输增益明显,因此具有一定的应用价值。 展开更多
关键词 双平行马赫曾德尔调制器(DP-MZM) 光载波抑制(OCS) 概率整形阶正交幅度调制(PS-MQAM) 误码率(BER)
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