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10.6μm红外膜系制备工艺研究
被引量：
2
1
作者
丁铁柱
刘强
《内蒙古大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期648-651,共4页
采用真空镀膜法,在半导体晶片GaAs衬底上制备红外增透和增反光学薄膜,研究了Si滤光片对镀膜工艺的影响以及10.6μm增透膜系和10.6μm增反膜系的透射特性.结果表明,Si滤光片可以有效地消除单色仪二级以上光谱对镀膜工艺的影响,是一种理...
采用真空镀膜法,在半导体晶片GaAs衬底上制备红外增透和增反光学薄膜,研究了Si滤光片对镀膜工艺的影响以及10.6μm增透膜系和10.6μm增反膜系的透射特性.结果表明,Si滤光片可以有效地消除单色仪二级以上光谱对镀膜工艺的影响,是一种理想的红外监控光的滤光片.监控光波长的修正值△λ约为原波长的2.5%～3%时,是制备该红外光学薄膜的较佳的条件.
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关键词
10.6μm红外膜系
制备工艺
镀
膜
工艺
Si滤光片
红外
光学薄
膜
红外
增透
膜
红外
增反
膜
下载PDF
职称材料
题名
10.6μm红外膜系制备工艺研究
被引量：
2
1
作者
丁铁柱
刘强
机构
内蒙古大学物理学系
出处
《内蒙古大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期648-651,共4页
基金
内蒙古自然科学基金资助项目
文摘
采用真空镀膜法,在半导体晶片GaAs衬底上制备红外增透和增反光学薄膜,研究了Si滤光片对镀膜工艺的影响以及10.6μm增透膜系和10.6μm增反膜系的透射特性.结果表明,Si滤光片可以有效地消除单色仪二级以上光谱对镀膜工艺的影响,是一种理想的红外监控光的滤光片.监控光波长的修正值△λ约为原波长的2.5%～3%时,是制备该红外光学薄膜的较佳的条件.
关键词
10.6μm红外膜系
制备工艺
镀
膜
工艺
Si滤光片
红外
光学薄
膜
红外
增透
膜
红外
增反
膜
Keywords
fil
m
coating technique
Si optical filter
infrared coat
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
10.6μm红外膜系制备工艺研究
丁铁柱
刘强
《内蒙古大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2002
2
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