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CdS薄膜的制备及其性能 被引量:12
1
作者 黎兵 冯良桓 +4 位作者 郑家贵 蔡亚平 蔡伟 李卫 武莉莉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期837-840,共4页
采用化学池沉积 (CBD)法 ,在三种衬底 (玻片、ITO玻片、SnO2 玻片 )上沉积CdS薄膜 ,并利用扫描电镜(SEM)、透射光谱、X射线衍射 (XRD)和微电流高阻计等方法对沉积膜进行了测试分析 ,计算出CdS薄膜的能隙宽度和电导激活能 ,阐述了CBD法中... 采用化学池沉积 (CBD)法 ,在三种衬底 (玻片、ITO玻片、SnO2 玻片 )上沉积CdS薄膜 ,并利用扫描电镜(SEM)、透射光谱、X射线衍射 (XRD)和微电流高阻计等方法对沉积膜进行了测试分析 ,计算出CdS薄膜的能隙宽度和电导激活能 ,阐述了CBD法中CdS薄膜的生长沉积机制以及不同衬底对沉积效果的影响 .结果表明 :不同衬底的成膜效果差异较大 ,其中以SnO2 展开更多
关键词 cds薄膜 化学池沉积(CBD)法 太阳电池
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CdS薄膜的SILAR法制备与表征 被引量:6
2
作者 刘晓新 靳正国 +2 位作者 步绍静 赵娟 程志捷 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期691-695,共5页
采用液相薄膜制备工艺-SILAR(连续离子层吸附反应)法,在室温下于玻璃衬底上制备了CdS薄膜.对薄膜的表面形貌,薄膜的生长速率以及热处理与薄膜的成相及其电阻率的关系进行了观察和分析.实验结果表明:薄膜表面较致密,生长速率为2nm/cycle... 采用液相薄膜制备工艺-SILAR(连续离子层吸附反应)法,在室温下于玻璃衬底上制备了CdS薄膜.对薄膜的表面形貌,薄膜的生长速率以及热处理与薄膜的成相及其电阻率的关系进行了观察和分析.实验结果表明:薄膜表面较致密,生长速率为2nm/cycle,随循环次数的增加,沉积粒子的尺寸趋于增大.室温下沉积的CdS薄膜为非晶态,经热处理后薄膜的结晶度提高,电阻率显著下降.此外,文章结合实验对薄膜的生长机理进行了初步的讨论. 展开更多
关键词 cds薄膜 SILAR法 制备与表征 生长机理
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La掺杂对CdS薄膜性能的影响 被引量:7
3
作者 田磊 李蓉萍 +5 位作者 冯松 安晓晖 任愿 夏中秋 邹凯 刘永生 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期73-76,共4页
采用化学水浴法在玻璃衬底上制备了纯CdS薄膜和稀土La掺杂的CdS薄膜,在氮气气氛中对薄膜进行热处理。结果表明,未掺杂样品为立方闪锌矿CdS,La掺杂后衍射强峰仍为立方闪锌矿(111)晶向,但出现了微弱的六方纤锌矿结构,而且增强了短波光和... 采用化学水浴法在玻璃衬底上制备了纯CdS薄膜和稀土La掺杂的CdS薄膜,在氮气气氛中对薄膜进行热处理。结果表明,未掺杂样品为立方闪锌矿CdS,La掺杂后衍射强峰仍为立方闪锌矿(111)晶向,但出现了微弱的六方纤锌矿结构,而且增强了短波光和近红外光的透过率,禁带宽度明显减小,同时La的掺入促进S元素百分含量的增加,使Cd/S更接近化学计量比。 展开更多
关键词 cds薄膜 稀土La掺杂 化学水浴法 光学特性
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CdS薄膜的电输运和光学性质 被引量:4
4
作者 杨一军 阚彩侠 +2 位作者 谢宇 杨保华 张立德 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期39-43,共5页
通过喷雾热解获得CdS薄膜,在氮气中做了退火处理,观测到吸收边随退火温度升高而移动;在室温下的拉曼谱中观察到CdS的2个特征峰;经暗电阻与温度的变化关系的测试,发现激活能存在着极小值,用载流子衰减时间的变化能较好地解释其缘由;探讨... 通过喷雾热解获得CdS薄膜,在氮气中做了退火处理,观测到吸收边随退火温度升高而移动;在室温下的拉曼谱中观察到CdS的2个特征峰;经暗电阻与温度的变化关系的测试,发现激活能存在着极小值,用载流子衰减时间的变化能较好地解释其缘由;探讨了光电导与入射光强以及退火温度的关系. 展开更多
关键词 电输运 光学性质 cds薄膜 吸收边 激活能 光电导 太阳电池 n型窗口材料
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化学水浴沉积时间对CdS薄膜性质的影响 被引量:8
5
作者 刘琪 冒国兵 敖建平 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期968-971,共4页
采用CBD法在醋酸镉溶液体系中制备CdS半导体薄膜,通过XRD、XRF、SEM和光学透过率谱等测试手段研究了沉积时间对CdS薄膜沉积过程和性质的影响。结果表明,随着沉积时间的增加,薄膜增厚;S/Cd原子比增加,但都为富Cd的CdS薄膜;XRD研究表明,... 采用CBD法在醋酸镉溶液体系中制备CdS半导体薄膜,通过XRD、XRF、SEM和光学透过率谱等测试手段研究了沉积时间对CdS薄膜沉积过程和性质的影响。结果表明,随着沉积时间的增加,薄膜增厚;S/Cd原子比增加,但都为富Cd的CdS薄膜;XRD研究表明,薄膜结构由立方、六方混合相向立方相转变,(111)方向成为择优生长方向;SEM研究表明,随沉积时间增加,薄膜变致密,薄膜表面出现的白色附着颗粒增多,尺寸增大;沉积时间对薄膜的光学性质也有很大的影响,随着沉积时间的增加薄膜透过率减小,而禁带宽度值增大。 展开更多
关键词 化学水浴沉积(CBD) cds薄膜 沉积时间 Cu(In Ga)Se2太阳电池
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化学浴法制备CdS薄膜及其光电性能研究 被引量:4
6
作者 焦静 沈鸿烈 +1 位作者 王威 江丰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期1299-1304,共6页
本文用氯化镉、氯化铵、硫脲和氨水的溶液体系采用化学浴沉积法合成CdS薄膜,制备出均匀、致密的CdS薄膜,通过XRD、SEM、EDS、紫外可见吸收光谱等表征手段研究了CdS薄膜的晶体结构,表面形貌,元素比例和光电性能。发现在不同水浴温度下都... 本文用氯化镉、氯化铵、硫脲和氨水的溶液体系采用化学浴沉积法合成CdS薄膜,制备出均匀、致密的CdS薄膜,通过XRD、SEM、EDS、紫外可见吸收光谱等表征手段研究了CdS薄膜的晶体结构,表面形貌,元素比例和光电性能。发现在不同水浴温度下都成功制备了CdS薄膜,其中75℃制备的CdS薄膜最为均匀致密且其XRD衍射峰强度最强,光吸收边在500 nm附近,禁带宽度大约为2.52 eV。这些CdS薄膜的光电响应大,暗态及光照下的电导率分别为1×10-4S.cm-1和1.04×10-2S.cm-1。用它们制备的CdS/CZTS异质结太阳电池具有明显的光伏效应。 展开更多
关键词 化学浴沉积法 cds薄膜 光吸收 光电响应 电导率
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水浴温度对化学浴沉积CdS薄膜性能的影响 被引量:6
7
作者 段宇波 张弓 庄大明 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期21-26,共6页
采用化学浴沉积法(CBD)在硫酸镉、硫脲、氨水、氯化铵溶液体系中制备了CdS薄膜,研究了水浴温度对CdS薄膜的生长过程和物理性能的影响。试验表明,CdS薄膜的生长速率随着水浴温度提高而显著增加,薄膜从疏松变的致密,但是过高的水浴温度会... 采用化学浴沉积法(CBD)在硫酸镉、硫脲、氨水、氯化铵溶液体系中制备了CdS薄膜,研究了水浴温度对CdS薄膜的生长过程和物理性能的影响。试验表明,CdS薄膜的生长速率随着水浴温度提高而显著增加,薄膜从疏松变的致密,但是过高的水浴温度会导致表面晶粒变的粗糙;薄膜的结晶程度随着水浴温度提高而增强,择优取向明显;制得的CdS薄膜均有较高的光透过率,随着水浴温度的提高,薄膜厚度增加,透过率在波长560nm处出现峰值;所得薄膜均是富Cd的,且随着水浴温度的提高Cd含量也增加;薄膜的暗电导率约为10-5~10-4Ω-1cm-1,比光电导率小2~3个数量级,电导率与水浴温度没有明显对应关系。 展开更多
关键词 cds薄膜 化学浴沉积(CBD) 水浴温度
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不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响 被引量:3
8
作者 张传军 邬云骅 +3 位作者 曹鸿 赵守仁 王善力 褚君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期298-303,共6页
采用磁控溅射法,在衬底温度300℃制备CdS薄膜,并选取370℃、380℃、390℃三个温度退火,获得在干燥空气和CdCl2源+干燥空气两种气氛下退火的CdS薄膜.通过研究热处理前后CdS薄膜的形貌、结构和光学性能表明,CdS薄膜在干燥空气中退火,晶粒... 采用磁控溅射法,在衬底温度300℃制备CdS薄膜,并选取370℃、380℃、390℃三个温度退火,获得在干燥空气和CdCl2源+干燥空气两种气氛下退火的CdS薄膜.通过研究热处理前后CdS薄膜的形貌、结构和光学性能表明,CdS薄膜在干燥空气中退火,晶粒度、表面粗糙度和可见光透过率变化不明显,光学带隙随退火温度的升高而增大;在CdCl2源+干燥空气中退火,随退火温度的升高发生明显的再结晶和晶粒长大,表面粗糙度增大,可见光透过率和光学带隙随退火温度的升高而减小.分析得出:上述性能的改变是由于不同的退火条件对CdS薄膜的再结晶温度和带尾态掺杂浓度改变的结果. 展开更多
关键词 cds薄膜 磁控溅射 热退火 再结晶 带尾态
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溶液的pH值对化学浴法制备CdS薄膜光电流响应性能的影响 被引量:2
9
作者 焦静 沈鸿烈 +2 位作者 张三洋 李金泽 王威 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期10-14,共5页
采用化学浴沉积法将氯化镉、氯化铵、硫脲和氨水的溶液体系合成CdS薄膜,用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和紫外可见吸收光谱等研究了CdS薄膜的形貌、相结构和光学性能,通过测试薄膜的光电流响应曲线分析了薄膜的光电性能.结果表明:溶液... 采用化学浴沉积法将氯化镉、氯化铵、硫脲和氨水的溶液体系合成CdS薄膜,用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和紫外可见吸收光谱等研究了CdS薄膜的形貌、相结构和光学性能,通过测试薄膜的光电流响应曲线分析了薄膜的光电性能.结果表明:溶液的pH值在9~11的范围内均可以制备均匀致密的CdS薄膜,其中pH=10时制备的CdS薄膜最为均匀致密且其X射线衍射仪衍射峰强度最强,对应的光学带隙约为2.37eV;光电流响应曲线显示该薄膜的光电导最高为2.94×10-2Ω-1·cm-1,光暗电导比为38.23,具有最佳的光敏性. 展开更多
关键词 化学浴沉积法 cds薄膜 光电流响应 光电导 光暗电导比 光敏性
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CdS薄膜的光学及其电学性能的研究 被引量:5
10
作者 何智兵 韩高荣 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期125-128,132,共5页
本论文研究了真空热蒸发制备的不同衬底温度下CdS薄膜的光学及电学性能。重点讨论了不同衬底温度下CdS薄膜的光透过性能、光学带隙及其和薄膜结构的关系。研究了CdS薄膜因高度定向生长而出现的薄膜平面与截面电阻率的差别。进一步阐释了... 本论文研究了真空热蒸发制备的不同衬底温度下CdS薄膜的光学及电学性能。重点讨论了不同衬底温度下CdS薄膜的光透过性能、光学带隙及其和薄膜结构的关系。研究了CdS薄膜因高度定向生长而出现的薄膜平面与截面电阻率的差别。进一步阐释了CdS作为理想的光电材料所具有的良好光敏性 。 展开更多
关键词 cds薄膜 硫化镉薄膜 光学 电学 真空热蒸发 衬底温度 截面电阻率 平面电阻率 光电材料 光敏性
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对低温下制得的CdS薄膜电学性质的研究 被引量:2
11
作者 陈婷婷 王瑞林 +3 位作者 姜春萍 赵北君 朱世富 王育伟 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期746-748,共3页
采用化学水浴沉积法研究在低温条件下以及硫尿浓度不同的溶液中生长出的硫化镉薄膜的电学性质。采用X-射线衍射(XRD)仪确定退火后的样品是六方相,在(002)、(112)和(004)方向优势生长;使用紫外-可见分光光度计发现各样品的光学性质符合... 采用化学水浴沉积法研究在低温条件下以及硫尿浓度不同的溶液中生长出的硫化镉薄膜的电学性质。采用X-射线衍射(XRD)仪确定退火后的样品是六方相,在(002)、(112)和(004)方向优势生长;使用紫外-可见分光光度计发现各样品的光学性质符合硫化镉作为窗口材料的要求;利用原子力显微镜发现各样品的晶粒形状、均匀性和致密性差异较大;利用化学工作站进行样品的电容-电压测试发现,各样品的掺杂浓度差异很大,其中有的样品掺杂浓度为1.2×1017cm-3,这样的掺杂浓度适合制造光电器件。 展开更多
关键词 cds薄膜 化学水浴沉积法(CBD) 电容-电压测试
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化学水浴沉积参数对CdS薄膜生长速率的影响 被引量:2
12
作者 王智平 赵静 王克振 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期1311-1316,共6页
采用化学水浴法,在醋酸镉、硫脲、氨水、醋酸铵的体系中制备CdS薄膜,设计L2556正交实验,研究各沉积参数对CdS薄膜生长速率的影响。结果表明,温度、醋酸铵浓度、搅拌强度为主要影响因素,醋酸镉、硫脲、氨水的浓度为次要因素,生长速率最小... 采用化学水浴法,在醋酸镉、硫脲、氨水、醋酸铵的体系中制备CdS薄膜,设计L2556正交实验,研究各沉积参数对CdS薄膜生长速率的影响。结果表明,温度、醋酸铵浓度、搅拌强度为主要影响因素,醋酸镉、硫脲、氨水的浓度为次要因素,生长速率最小为0.68nm/min,最大达到43.12nm/min。各沉积参数对CdS薄膜生长速率的影响规律各不相同,随温度升高而单调增加,随醋酸铵浓度增大而单调下降;随着转速的加快生长速率先增大后减小最后保持稳定;醋酸镉、硫脲和氨水浓度对生长速率的影响规律较为复杂,存在一临界浓度,在临界浓度两侧生长速率变化差异较大,当浓度过大时,生长速率开始下降。 展开更多
关键词 化学水浴沉积(CBD) cds薄膜 正交实验 生长速率
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超声搅拌化学浴沉积法制备大颗粒和致密的CdS薄膜(英文) 被引量:1
13
作者 史成武 陈柱 +1 位作者 史高杨 孙人杰 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第12期2821-2825,共5页
采用超声搅拌化学浴法(UCBD)在SnO2:F透明导电玻璃衬底上制备了CdS薄膜.研究了退火和CdCl2处理对UCBD-CdS薄膜的表面形貌、晶体结构和直接带隙的影响,比较了沉积时间对UCBD-CdS薄膜中CdS聚集体颗粒大小和堆积致密性的影响.结果表明,CdCl... 采用超声搅拌化学浴法(UCBD)在SnO2:F透明导电玻璃衬底上制备了CdS薄膜.研究了退火和CdCl2处理对UCBD-CdS薄膜的表面形貌、晶体结构和直接带隙的影响,比较了沉积时间对UCBD-CdS薄膜中CdS聚集体颗粒大小和堆积致密性的影响.结果表明,CdCl2处理可使CdS聚集体中的小颗粒重新熔合在一起,但CdS聚集体的大小并没有改变.在UCBD-CdS薄膜的沉积过程中,CdS薄膜的横向和纵向生长速率之比会随着沉积时间的不同而改变,且沉积时间是获得大颗粒的CdS聚集体和致密的UCBD-CdS薄膜的重要影响因素.当沉积时间为40min时,获得的UCBD-CdS薄膜较致密,CdS聚集体的大小为180nm,膜厚为80.8nm,适合作为薄膜太阳电池的窗口层. 展开更多
关键词 cds薄膜 超声搅拌 化学浴沉积 沉积时间 退火 cdCl2处理
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化学水浴法制备CdS薄膜的研究 被引量:1
14
作者 李志山 蒋志 +4 位作者 杨敏 刘思佳 唐语 郝瑞亭 王书荣 《云南师范大学学报(自然科学版)》 2016年第5期9-13,共5页
采用化学水浴法在不同衬底上制备了CdS薄膜.测试表明,所制备薄膜具有良好的致密性且晶粒大小均匀、表面平整;随着薄膜厚度的增加,薄膜的结晶质量提高但透过率有所下降;在钠钙玻璃上制备的CdS薄膜的电阻率最小(42.15Ω·cm).将最优... 采用化学水浴法在不同衬底上制备了CdS薄膜.测试表明,所制备薄膜具有良好的致密性且晶粒大小均匀、表面平整;随着薄膜厚度的增加,薄膜的结晶质量提高但透过率有所下降;在钠钙玻璃上制备的CdS薄膜的电阻率最小(42.15Ω·cm).将最优工艺制备的CdS薄膜应用于CZTS吸收层上,得到了效率为3.0%且具有高开路电压(701 mV)的CZTS薄膜太阳电池. 展开更多
关键词 cds薄膜 化学水浴 不同衬底 透过率
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退火温度对化学水浴沉积CdS薄膜性能的影响 被引量:1
15
作者 薛钰芝 管玉鑫 《大连交通大学学报》 CAS 2012年第2期57-61,共5页
采用化学水浴沉积法(CBD)制备了CdS薄膜,用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度计进行检测.研究了退火温度对CdS薄膜表面形貌、成分、晶体结构和光学性能的影响.研究表明,CdS薄膜为微晶或是非晶态,S/Cd原子比在0.8左... 采用化学水浴沉积法(CBD)制备了CdS薄膜,用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度计进行检测.研究了退火温度对CdS薄膜表面形貌、成分、晶体结构和光学性能的影响.研究表明,CdS薄膜为微晶或是非晶态,S/Cd原子比在0.8左右,可见光透过率较高;随着退火温度的升高,薄膜结晶明显,但是透光率下降,禁带宽度范围在2.42~2.59eV之间. 展开更多
关键词 cds薄膜 化学水浴沉积(CBD) 退火温度
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CdS薄膜及Si基底对CdS/Si异质结太阳电池性能影响的数值模拟 被引量:1
16
作者 段春艳 赵影文 +1 位作者 班群 林涛 《中国高新科技》 2019年第4期10-13,共4页
文章采用AFORS-HET(automat for simulation of heterojunctions)2.4.1版软件模拟CdS/p-Si太阳电池的结构工艺参数,如CdS半导体材料的电子亲和势、禁带宽度、p-Si和CdS的厚度对其光电性能的影响。模拟结果显示,CdS的电子亲和势不能低于3... 文章采用AFORS-HET(automat for simulation of heterojunctions)2.4.1版软件模拟CdS/p-Si太阳电池的结构工艺参数,如CdS半导体材料的电子亲和势、禁带宽度、p-Si和CdS的厚度对其光电性能的影响。模拟结果显示,CdS的电子亲和势不能低于3.8eV;随着CdS禁带宽度的增加,Voc、Jsc和Eff均逐渐减小;随着CdS厚度的增加,电池的FF、Jsc、Eff均明显下降;随着硅片厚度的增加,Jsc、Voc及Eff都有不同程度的提升。 展开更多
关键词 异质结太阳电池 cds薄膜 数值模拟
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稀土元素(Gd,Y)掺杂CdS薄膜的制备及其性能研究
17
作者 邹凯 李蓉萍 +2 位作者 刘永生 冯松 田磊 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期1505-1510,共6页
采用化学水浴法两次沉积CdS,结合电子束真空蒸发法在两层CdS之间引入稀土层,制备含有不同厚度稀土Gd、Y掺杂层的CdS多晶薄膜。利用XRD、SEM、EDX、UV-VIS透射光谱和霍尔效应测试仪对薄膜的晶型、表面形貌、化学组成、光学及电学性能进... 采用化学水浴法两次沉积CdS,结合电子束真空蒸发法在两层CdS之间引入稀土层,制备含有不同厚度稀土Gd、Y掺杂层的CdS多晶薄膜。利用XRD、SEM、EDX、UV-VIS透射光谱和霍尔效应测试仪对薄膜的晶型、表面形貌、化学组成、光学及电学性能进行研究。结果表明:未掺杂的薄膜为沿(111)晶面择优生长的立方相闪锌矿结构,导电类型为n型。含有稀土Gd(Y)掺杂层的CdS多晶薄膜为立方相和六方相的混合结构,导电类型仍为n型,薄膜的均匀性和致密性得到改善,薄膜中Cd和S的原子比更接近CdS的化学计量比,稀土掺杂可提高CdS薄膜在可见光范围内的透过率,使薄膜载流子浓度增大、导电性能明显增强。 展开更多
关键词 cds薄膜 稀土掺杂 化学水浴法 光学特性
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水浴法制备CdS薄膜产生的本征缺陷对光电学性质的影响
18
作者 徐娜 陈哲 +1 位作者 索忠源 谭乃迪 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2016年第1期111-116,共6页
采用化学水浴沉积法(CBD)在钠钙玻璃衬底上制备硫化镉(CdS)薄膜,研究不同硫酸镉(CdSO_4)浓度下产生的本征缺陷对CdS薄膜光电学性质的影响。采用光致发光光谱、紫外-可见分光光度计及霍尔效应测试系统对薄膜的本征缺陷、光学及电学性质... 采用化学水浴沉积法(CBD)在钠钙玻璃衬底上制备硫化镉(CdS)薄膜,研究不同硫酸镉(CdSO_4)浓度下产生的本征缺陷对CdS薄膜光电学性质的影响。采用光致发光光谱、紫外-可见分光光度计及霍尔效应测试系统对薄膜的本征缺陷、光学及电学性质进行分析,发现CdS薄膜主要存在镉间隙(Cdi)及硫空位(VS)等本征缺陷,且VS随CdSO_4浓度的降低而逐渐减少。同时,VS缺陷的减少有利于薄膜透过率的提高,但在一定程度上降低了薄膜的电导率。根据透过率及其相关公式可知,半导体材料中透过率与电导率成e指数反比关系,适当减小薄膜的电导率可以使其透过率得到大幅度的提高,理论解释与实验结果相一致。 展开更多
关键词 本征缺陷 cds薄膜 化学水浴沉积法 电学性质 光学性质
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电子束蒸发法制备CdS薄膜光电特性研究
19
作者 陈哲 董连和 +2 位作者 孙艳军 冷雁冰 王丽 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期1137-1143,共7页
采用电子束蒸发法,以高纯CdS块料为膜料在玻璃基底上制备了CdS薄膜,设计了L9(34)正交实验,研究了各工艺参数对薄膜光电性能的影响。结果表明,随着基底温度,蒸发速率的提高,薄膜的电阻值呈降低趋势达到最小值后稍有升高;薄膜的阻值随真... 采用电子束蒸发法,以高纯CdS块料为膜料在玻璃基底上制备了CdS薄膜,设计了L9(34)正交实验,研究了各工艺参数对薄膜光电性能的影响。结果表明,随着基底温度,蒸发速率的提高,薄膜的电阻值呈降低趋势达到最小值后稍有升高;薄膜的阻值随真空度的降低而降低,达到一定程度后阻值基本保持不变。薄膜的暗亮电阻比即光敏性,随基底温度的增大先增大达到最大值后开始减小;而随蒸发速率的提高光敏性先缓后急的增加;真空度对光敏性的影响与蒸发速率对光敏性的影响正好相反,表现为随真空度的增加光敏性先急后缓的降低。正交实验表明:当基底温度为150℃,蒸发速率为1 nm·s-1,真空度为3×10-3Pa时,薄膜的光电性能最好。CdS薄膜的光敏性达到7.7×102,其中亮电阻的最小值为1350Ω/□。 展开更多
关键词 cds薄膜 电子束蒸发法 正交实验 光电性能
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ILGAR法制备CdS薄膜新工艺的研究
20
作者 邱继军 靳正国 +2 位作者 武卫兵 刘晓新 程志捷 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期371-375,共5页
采用一种薄膜制备的新方法一离子层气相反应法(ILGAR),以CdCl2为前驱体,H2S为硫源制备了CdS薄膜。利用XRD、SEM、AFM、XPS及UV-VIS透射光谱等测试分析方法对薄膜的晶型、表面化学组成、表面形貌、膜厚增长速度及光学性能进行了研究。实... 采用一种薄膜制备的新方法一离子层气相反应法(ILGAR),以CdCl2为前驱体,H2S为硫源制备了CdS薄膜。利用XRD、SEM、AFM、XPS及UV-VIS透射光谱等测试分析方法对薄膜的晶型、表面化学组成、表面形貌、膜厚增长速度及光学性能进行了研究。实验结果表明:ILGAR法制备的CdS薄膜表面较致密、均匀、附着性好;在0.05MCdCl2前驱体溶液浸渍处理,薄膜以-2.8nm/cycle的恒定速率增长,且薄膜晶体沿立方(111)面具有明显的择优取向生长;400℃热处理1h,发生立方→六方晶型转变,最终为六方与立方混相结构,择优方向转为六方(002)面;薄膜经热处理后在可见光处的吸收峰发生红移,其禁带宽度降低,并且会随着膜厚的增加进一步降低。 展开更多
关键词 cds薄膜 ILGAR法制备 热处理
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