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大面积CVD金刚石膜的热铁板抛光 被引量：8
1
作者 刘敬明 蒋政 +2 位作者 张恒大 吕反修 唐伟忠 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期42-44,共3页
研制成功国内第１台大面积ＣＶＤ金刚石膜热铁板抛光机．它可以在１０^（－Ｐａ）真空条件下，加热到 １１００℃；抛光台可以在０－１０ｒ／ｍｉｎ间实现无级调速，一次完成３片φ１１０ｍｍ的金刚石膜的抛光．金刚石膜在９８０℃，２... 研制成功国内第１台大面积ＣＶＤ金刚石膜热铁板抛光机．它可以在１０^（－Ｐａ）真空条件下，加热到 １１００℃；抛光台可以在０－１０ｒ／ｍｉｎ间实现无级调速，一次完成３片φ１１０ｍｍ的金刚石膜的抛光．金刚石膜在９８０℃，２ｈ抛光的结果表明该装置有良好的抛光效果．金刚石膜在９８０℃抛光不同时间的Ｒａｍａｎ谱表明，金刚石热铁板抛光是金刚石石墨化和Ｃ原子不断扩散的过程． 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 热铁板抛光 化学气相沉积法 石墨化 碳原子扩散 抛光速率 化学抛光
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Cr过渡层沉积粘附型CVD金刚石膜的机理研究 被引量：5
2
作者 卢文壮 左敦稳 +2 位作者 王珉 黎向锋 徐锋 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第18期1676-1680,共5页
研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺 ,在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜。利用SEM分析了电沉积层的形貌 ,利用EPMA分析了H等离子处理后电沉积层的断面 ,利用SEM和Ra man分析了金刚石膜的表面形貌、成分 ... 研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺 ,在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜。利用SEM分析了电沉积层的形貌 ,利用EPMA分析了H等离子处理后电沉积层的断面 ,利用SEM和Ra man分析了金刚石膜的表面形貌、成分 ,利用XRD分析了过渡层和CVD金刚石膜的结合面 ,利用压痕法研究了金刚石薄膜与基体的结合力。结果表明 ,H等离子处理使得硬质合金与Cr镀层成为冶金结合 ,提高了电沉积层的结合强度 ;在Cr过渡层与金刚石膜之间形成的Cr3C2 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 硬质合金 电沉积Cr 过渡层 结合强度
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CVD金刚石膜与常用红外光学材料抗砂蚀性能对比研究 被引量：5
3
作者 段萌 张运强 +4 位作者 潘国庆 朱瑞华 魏俊俊 陈良贤 李成明 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期270-275,共6页
目的通过分析CVD金刚石膜与几种常用红外光学窗口材料在砂蚀过程中形貌特征以及红外透过率的变化规律,获得CVD金刚石膜在砂蚀过程中的材料去除机制及抗砂蚀性能的关键因素。方法采用喷射式冲蚀磨损系统,对CVD金刚石膜及其他几种常见红... 目的通过分析CVD金刚石膜与几种常用红外光学窗口材料在砂蚀过程中形貌特征以及红外透过率的变化规律,获得CVD金刚石膜在砂蚀过程中的材料去除机制及抗砂蚀性能的关键因素。方法采用喷射式冲蚀磨损系统,对CVD金刚石膜及其他几种常见红外光学材料进行砂蚀性能测试。通过扫描电子显微镜对材料冲蚀后表面形貌进行观察,电子天平测量红外材料砂蚀率。采用红外光谱仪对砂蚀前后红外光学材料进行测量,评价其冲蚀前后的红外性能变化。结果 CVD金刚石膜抗砂蚀能力远高于Ge、ZnS、MgF_2以及石英玻璃。在设定测试条件下,仅经过6 s冲蚀,除CVD金刚石膜外,其余光学材料的红外透过性能下降40%~60%。而CVD金刚石经受240 min的相同条件冲蚀,其红外透过率仅下降9.5%,显示出极佳的抗砂蚀能力。结论 CVD金刚石膜的冲蚀过程主要是微裂纹形成及扩张连接导致材料流失。其他材料的冲蚀过程既有裂纹扩展,也有反复的切削、犁削,而后者是这些材料被冲蚀的主要原因。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 红外窗口 砂蚀 冲蚀机制
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CVD金刚石膜X射线探测器的研制及性能研究 被引量：4
4
作者 刘健敏 夏义本 +3 位作者 王林军 张明龙 苏青峰 史伟民 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期669-672,共4页
金刚石以其独特的性能成为辐射探测器的理想材料。采用HFCVD方法制备了高质量、(100)取向的CVD金刚石膜,在此基础上研制出X射线探测器。使用55Fe 5.9keV X射线研究了CVD金刚石膜探测器的光电流和电荷收集效率。结果表明,探测器在偏压加... 金刚石以其独特的性能成为辐射探测器的理想材料。采用HFCVD方法制备了高质量、(100)取向的CVD金刚石膜,在此基础上研制出X射线探测器。使用55Fe 5.9keV X射线研究了CVD金刚石膜探测器的光电流和电荷收集效率。结果表明,探测器在偏压加到100V还具有好的欧姆接触;电场为50kV.cm-1时的暗电流与光电流分别为16.3和16.8nA;电荷收集效率η为45.1%,对应的电荷收集距离δ(CCD)为9.0μm。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 X射线探测器 光电流 电荷收集效率
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激光切割CVD金刚石膜的工艺研究 被引量：4
5
作者 严垒 吴飞飞 +2 位作者 邓煜恒 湛玉龙 马志斌 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2012年第5期6-9,14,共5页
利用Nd:YAG型金刚石精密激光切割机对表面经机械抛光的CVD金刚石膜进行切割,研究了激光焦点位置、重复频率、充电电压以及切割速率对切割面质量的影响,并利用扫描电子显微镜(SEM)、TR200型粗糙度仪和XJP-3C型金相显微镜对切割结果进行... 利用Nd:YAG型金刚石精密激光切割机对表面经机械抛光的CVD金刚石膜进行切割,研究了激光焦点位置、重复频率、充电电压以及切割速率对切割面质量的影响,并利用扫描电子显微镜(SEM)、TR200型粗糙度仪和XJP-3C型金相显微镜对切割结果进行了表征。研究表明:将激光焦点置于金刚石膜表面进行切割时,切割面锥度最小;切割面的粗糙度随着激光切割速率、重复频率的增加而减小;充电电压越高,切缝越宽;激光重复频率在80～100 Hz范围内,其变化对切缝宽度影响较小;切割2.7 mm厚的金刚石厚膜时,选取充电电压850 V,重复频率90 Hz,切割速率10 mm/min,能够达到高效率高质量的理想切割效果。 展开更多
关键词 激光 切割 cvd金刚石膜
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CVD金刚石膜激光打孔温度场有限元仿真 被引量：3
6
作者 吴小军 左敦稳 +3 位作者 徐锋 王珉 何家源 袁佳晶 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期83-88,共6页
化学气相沉积金刚石膜是聚优异力学、电学、热学性能于一体的材料。金刚石激光打孔过程中存在特有的石墨化现象使得其温度场的分布有别于其他材料,因而,开展CVD金刚石膜激光打孔温度场研究对于理解热加工机理和进行参数优化具有重要的... 化学气相沉积金刚石膜是聚优异力学、电学、热学性能于一体的材料。金刚石激光打孔过程中存在特有的石墨化现象使得其温度场的分布有别于其他材料,因而,开展CVD金刚石膜激光打孔温度场研究对于理解热加工机理和进行参数优化具有重要的指导意义。本文首先建立了考虑金刚石石墨化过程的激光打孔热力学模型,根据有限元模型开展对CVD金刚石膜激光打孔有限元仿真研究,得到激光打孔温度场和金刚石石墨化的分布规律,并讨论激光能量、脉冲宽度、重复频率对单个脉冲去除量和石墨化程度的影响。仿真结果表明:单个脉冲平均去除量和石墨化程度均随着激光能量、脉冲宽度、重复频率的增加而增加,但激光能量的影响最为显著;当激光能量取0.5～1.6J,脉冲宽度取300～800ns,重复频率取30～60Hz时既可以得到很高的加工效率同时又可以获得热影响区域较小的加工效果。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 调QNd:YAG激光 打孔 温度场 有限元
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CVD金刚石膜高效超精密抛光技术 被引量：3
7
作者 苑泽伟 金洙吉 +1 位作者 王坤 温泉 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2011年第5期451-458,共8页
CVD金刚石膜作为光学透射窗口和新一代计算机芯片的材料,其表面必须得到高质量抛光,但是现存方法难以满足既高效又超精密的加工要求.本文提出机械抛光与化学机械抛光相结合的方法.首先,采用固结金刚石磨料抛光盘和游离金刚石磨料两种机... CVD金刚石膜作为光学透射窗口和新一代计算机芯片的材料,其表面必须得到高质量抛光,但是现存方法难以满足既高效又超精密的加工要求.本文提出机械抛光与化学机械抛光相结合的方法.首先,采用固结金刚石磨料抛光盘和游离金刚石磨料两种机械抛光方法对CVD金刚石膜进行粗加工,然后采用化学机械抛光的方法对CVD金刚石膜进行精加工.结果表明,采用游离磨料抛光时材料去除率远比固结磨料高,表面粗糙度最低达到42.2 nm.化学机械抛光方法在CVD金刚石膜的超精密抛光中表现出较大的优势,CVD金刚石膜的表面粗糙度为4.551 nm. 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 化学机械抛光 固结磨料 机械抛光
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渗硼高速钢表面CVD金刚石膜制备研究 被引量：3
8
作者 王浩 卢文壮 +3 位作者 薛海鹏 孙达飞 张林 左敦稳 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期572-576,共5页
直接在高速钢表面生长CVD金刚石非常困难。为了克服高速钢中Fe元素对金刚石生长的不利影响,在高速钢表面利用渗硼技术先生成B、Fe的化合物的中间层然后再制备CVD金刚石膜。采用显微维氏硬度计、XRD衍射仪、扫描电子显微镜、激光拉曼光... 直接在高速钢表面生长CVD金刚石非常困难。为了克服高速钢中Fe元素对金刚石生长的不利影响,在高速钢表面利用渗硼技术先生成B、Fe的化合物的中间层然后再制备CVD金刚石膜。采用显微维氏硬度计、XRD衍射仪、扫描电子显微镜、激光拉曼光谱和洛氏硬度计对渗硼基体和金刚石膜进行检测,研究渗硼处理对高速钢基体和金刚石膜生长的影响。结果表明:渗硼热处理可以在高速钢表面形成一层致密的B、Fe化合物层,能有效降低Fe元素的不利影响,有利于金刚石的生长,在高速钢表面形成一层高附着的致密金刚石膜。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 高速钢 渗硼
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稀土金属Ce抛光CVD金刚石膜的研究 被引量：2
9
作者 孙玉静 王翼虹 田莳 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z2期826-829,共4页
研究了一种快速有效地抛光CVD金刚石厚膜的技术.该技术是利用化学活性很强的稀土金属铈(Ce)与金刚石(碳)的固相化学反应,在一定的工艺条件下对金刚石膜进行的快速有效的抛光.讨论了金刚石膜抛光效果的影响因素及初步探讨了固态稀土Ce抛... 研究了一种快速有效地抛光CVD金刚石厚膜的技术.该技术是利用化学活性很强的稀土金属铈(Ce)与金刚石(碳)的固相化学反应,在一定的工艺条件下对金刚石膜进行的快速有效的抛光.讨论了金刚石膜抛光效果的影响因素及初步探讨了固态稀土Ce抛光金刚石膜的抛光机理.此外,还对抛光前后的金刚石膜以及反应产物进行了Raman光谱和X射线衍射谱(XRD)分析,从而初步得到了该方法抛光金刚石的抛光机理.研究表明:抛光速率和质量与抛光温度、时间和加载的压力有关;在680℃抛光2h就已出现抛光效果;经过700℃,2h,加载为1N抛光条件的处理后表面粗糙度(Ra)由原来的5.9762μm降低到2.0247μm;在750℃时获得了较高的抛光率,约35μm/h. 展开更多
关键词 稀土 CE 抛光 cvd金刚石膜
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CVD金刚石膜场发射机制的探讨 被引量：2
10
作者 王必本 王万录 廖克俊 《重庆大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期145-149,共5页
通过分析CVD金刚石膜的结构 ,对CVD金刚石膜的场发射机制进行了研究。结果表明金刚石膜内含有一定数量的石墨 ,当电子通过石墨时从石墨的电场中获得能量增大了电子隧穿金刚石晶粒的系数 ,据此提出了金刚石膜内石墨相增强电子隧穿金刚石... 通过分析CVD金刚石膜的结构 ,对CVD金刚石膜的场发射机制进行了研究。结果表明金刚石膜内含有一定数量的石墨 ,当电子通过石墨时从石墨的电场中获得能量增大了电子隧穿金刚石晶粒的系数 ,据此提出了金刚石膜内石墨相增强电子隧穿金刚石颗粒以增强金刚石膜场电子发射的机制 ,并且根据该机制解释了一些实验现象。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 石墨 场发射机制
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CVD金刚石膜散热性能的实验及仿真分析 被引量：2
11
作者 何江 林贵平 庞丽萍 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2010年第3期22-27,共6页
本文基于化学气相沉积(CVD)金刚石膜的超高热导率,设计并搭建了一套实验系统,分析其对于小空间高热流密度电子元件的散热效果。通过测量加热器及材料表面的温度值可知,相同工况下,金刚石膜温度梯度小,温度分布均匀性好,表面最大温差仅... 本文基于化学气相沉积(CVD)金刚石膜的超高热导率,设计并搭建了一套实验系统,分析其对于小空间高热流密度电子元件的散热效果。通过测量加热器及材料表面的温度值可知,相同工况下,金刚石膜温度梯度小,温度分布均匀性好,表面最大温差仅为铜的一半且加热面温度相比于铜更低。实验结果说明CVD金刚石膜的散热性能明显优于传统散热材料铜。实验验证了经过Ti-Ni-Au金属化处理的CVD金刚石薄膜具有可焊性。在实验基础上,利用Flotherm软件对系统进行仿真建模,进一步探讨了材料厚度、热导率及接触热阻对加热面温度和最大热流密度的影响。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 散热 热导率 接触热阻
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激光轴向偏焦法平整化CVD金刚石膜 被引量：1
12
作者 严垒 马志斌 +2 位作者 张璋 邓煜恒 王兴立 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期1916-1920,共5页
利用Nd:YAG型金刚石精密激光切割机,采用激光轴向偏焦法对化学气相沉积(CVD)法制备的金刚石膜表面进行扫描式平整化处理,利用扫描电子显微镜(SEM)、粗糙度仪和金相显微镜对平整化后的金刚石表面进行表征,研究了激光充电电压和焦点位置... 利用Nd:YAG型金刚石精密激光切割机,采用激光轴向偏焦法对化学气相沉积(CVD)法制备的金刚石膜表面进行扫描式平整化处理,利用扫描电子显微镜(SEM)、粗糙度仪和金相显微镜对平整化后的金刚石表面进行表征,研究了激光充电电压和焦点位置对扫描凹槽宽度和深度的影响,以及扫描间距对平整化效果的影响。研究结果表明:扫描凹槽宽度随激光充电电压的升高而增大;凹槽深度随激光充电电压的升高而增大,随偏焦量的增大而增大。激光轴向偏焦法对CVD金刚石膜进行平整化处理后,其粗糙度显著减小,利用氢等离子体对其表面进行刻蚀处理,能够有效去除表层石墨,从而达到理想的平整化效果。 展开更多
关键词 激光 轴向偏焦法 平整化 cvd金刚石膜
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计算机编程控制CVD金刚石膜生长系统的研制与应用 被引量：1
13
作者 方容川 常超 +9 位作者 廖源 叶祉渊 薛剑耿 王冠中 马玉蓉 尚乃贵 牛晓滨 王代冕 吴气虹 揭建胜 《材料导报》 EI CAS CSCD 2001年第1期74-76,共3页
在863"九五”计划期间,我们研制成功"计算机编程控制CVD金刚石膜生长系统”,并用此设备在无人值守的情况下,生长出毫米级金刚石和金刚石/硅碳氮多层膜,证明该设备安全可靠,性能优良.
关键词 金刚石薄膜 计算机编程控制cvd金刚石膜生长系统 应用 膜生长
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干法刻蚀图形化CVD金刚石膜研究进展 被引量：2
14
作者 刘聪 汪建华 熊礼威 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2014年第2期29-35,共7页
CVD金刚石膜因其极高的强度和耐磨特性在微机电系统(MEMS)领域具有极好的应用前景,然而其极高的硬度和化学惰性又使其很难被加工成型,这极大地限制了CVD金刚石膜在MEMS领域的应用。本文主要介绍了近年来干法刻蚀图形化CVD金刚石膜的研... CVD金刚石膜因其极高的强度和耐磨特性在微机电系统(MEMS)领域具有极好的应用前景,然而其极高的硬度和化学惰性又使其很难被加工成型,这极大地限制了CVD金刚石膜在MEMS领域的应用。本文主要介绍了近年来干法刻蚀图形化CVD金刚石膜的研究进展,系统地分析了激光刻蚀,等离子体刻蚀,等离子体辅助固体刻蚀的原理及其各自优缺点,着重论述了国内外采用等离子体刻蚀CVD金刚石膜的研究现状。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 激光刻蚀 等离子体刻蚀 等离子体辅助固体刻蚀
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ECR等离子体刻蚀CVD金刚石膜的研究 被引量：1
15
作者 潘鑫 马志斌 吴俊 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2013年第1期23-25,30,共4页
在自主设计的具有非对称磁镜场位形的ECR等离子体装置上进行CVD金刚石膜的刻蚀实验,研究了基片温度、工作气压和磁场位形三个工艺参数对刻蚀效果的影响。实验结果表明:通过此方法刻蚀的CVD金刚石膜,其晶粒顶端被优先刻蚀,表面粗糙度降... 在自主设计的具有非对称磁镜场位形的ECR等离子体装置上进行CVD金刚石膜的刻蚀实验,研究了基片温度、工作气压和磁场位形三个工艺参数对刻蚀效果的影响。实验结果表明:通过此方法刻蚀的CVD金刚石膜,其晶粒顶端被优先刻蚀,表面粗糙度降低。实际数据显示,刻蚀温度为20℃和150℃时,后者的刻蚀效果更好;工作气压为2×10-3Pa和3×10-2Pa时,前者的刻蚀效果更好;磁场强度为0.2T和0.15 T时,前者的刻蚀效果更强。 展开更多
关键词 ECR等离子体 cvd金刚石膜 刻蚀 基片温度 工作气压 磁场位形
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氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜 被引量：1
16
作者 吴振辉 马志斌 +2 位作者 谭必松 郑先锋 汪建华 《武汉工程大学学报》 CAS 2009年第1期65-68,共4页
分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层... 分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层理论出发建立了刻蚀模型. 展开更多
关键词 氧等离子体 cvd金刚石膜 刻蚀机理
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小型化热丝CVD金刚石膜沉积设备的研究与开发 被引量：1
17
作者 吴小军 左敦稳 +2 位作者 徐锋 卢文壮 林欢庆 《机械制造与自动化》 2010年第2期35-38,79,共5页
对传统HFCVD金刚石膜沉积设备进行小型化改进,分析了传统沉积设备在真空系统和衬底机构结构上的不足之处;介绍了小型化CVD金刚石膜沉积设备的系统构成;详细描述了该小型化设备的真空系统和衬底摆动机构。该系统具有均匀的表面温度场和... 对传统HFCVD金刚石膜沉积设备进行小型化改进,分析了传统沉积设备在真空系统和衬底机构结构上的不足之处;介绍了小型化CVD金刚石膜沉积设备的系统构成;详细描述了该小型化设备的真空系统和衬底摆动机构。该系统具有均匀的表面温度场和很高的运行稳定性,可以用于纳米金刚石薄膜和金刚石厚膜的沉积,制备的纳米金刚石薄膜晶粒大小基本上都在200 nm以下,纳米硬度为（450-700）GPa;沉积的金刚石厚膜直径达93 mm,晶粒完整均匀。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 小型化 热丝化学气相沉积 摆动衬底
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不同CO_2流量对CVD金刚石膜生长的影响研究 被引量：1
18
作者 吴骁 汪建华 +4 位作者 翁俊 孙祁 陈义 刘辉 刘繁 《真空与低温》 2016年第6期340-343,364,共5页
采用微波等离子体化学气相沉积法，以CH4-CO2为气源，通过改变CO2的流量，探讨了此气源下金刚石膜的生长情况。利用扫描电子显微镜对制备的金刚石膜表面形貌和断面进行了表征，采用Raman和X射线衍射仪对金刚石膜的质量和晶体结构进行分... 采用微波等离子体化学气相沉积法，以CH4-CO2为气源，通过改变CO2的流量，探讨了此气源下金刚石膜的生长情况。利用扫描电子显微镜对制备的金刚石膜表面形貌和断面进行了表征，采用Raman和X射线衍射仪对金刚石膜的质量和晶体结构进行分析。结果表明，CH4流量为50mL/min时，CO2流量在20～40mL/min范围内可以沉积出完整的金刚石膜，CO2的流量对金刚石膜的表面形貌影响较大，在CO2/CH4=30∶50条件下，沉积速率可达到3.4μm/h，同时可以制备出高质量的金刚石膜。 展开更多
关键词 CO2 MPcvd cvd金刚石膜
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CVD金刚石膜的产业化应用与目前存在的问题 被引量：37
19
作者 吕反修 《新材料产业》 2003年第7期63-67,共5页
在863计划的大力支持下,我国CVD金刚石膜研究在工具、热沉和光学应用等方面都取得了十分显著的进展,不仅显著缩小了与先进工业化国家的差距,而且已使我国开始进入产业化应用进程。目前国内已有一些小型高技术型公司和企业出现,但大都仅... 在863计划的大力支持下,我国CVD金刚石膜研究在工具、热沉和光学应用等方面都取得了十分显著的进展,不仅显著缩小了与先进工业化国家的差距,而且已使我国开始进入产业化应用进程。目前国内已有一些小型高技术型公司和企业出现,但大都仅局限于金刚石厚膜工具(金刚石厚膜钎焊工具和金刚石拉丝模模芯)。在金刚石薄膜涂层工具、金刚石膜热沉和金刚石光学应用研究等方面已取得实质性进展,尽管离产业化应用仍有一定距离,但已具备产业化开发和市场应用的条件。本文针对我国CVD金刚石膜的产业化前景和目前存在的问题进行了讨论,并提出了建议。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 产业化应用 中国 化学气相沉积
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CVD金刚石膜/硅为基板的微条气体室性能研究
20
作者 张明龙 夏义本 +3 位作者 王林军 顾蓓蓓 杨莹 汪琳 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期187-191,共5页
提出了一种新型的CVD金刚石膜/硅(ρ～1010Ω·cm)为基板的微条气体室,阳极宽度7μm阴极100μm,间距200μm。室温下,充以1.01×10-5PaAr+CH4混合气体时,采用5.9keV55FeX射线测量了探测器在不同高压和气体比例时的脉冲高度分布,... 提出了一种新型的CVD金刚石膜/硅(ρ～1010Ω·cm)为基板的微条气体室,阳极宽度7μm阴极100μm,间距200μm。室温下,充以1.01×10-5PaAr+CH4混合气体时,采用5.9keV55FeX射线测量了探测器在不同高压和气体比例时的脉冲高度分布,详细讨论了高压和气体比例对能量分辨率的影响,结果表明该探测器具有较高的信噪比和能量分辨率。在Ar+10%CH4混合气体、-1100V漂移电压和-650V阴极电压工作条件下,微条气体室能量分辨率可达12.2%。 展开更多
关键词 微条气体室 气体探测器 cvd金刚石膜 X射线
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