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新型智能电化学微加工系统的研究
被引量:
4
1
作者
刘品宽
孙立宁
+2 位作者
荣伟彬
蒋利民
田昭武
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第6期83-87,共5页
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻...
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 。
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关键词
智能电化学微加工系统
约束刻蚀剂层技术
压电陶瓷驱动器
半导体
三维超微图形复制加工技术
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职称材料
题名
新型智能电化学微加工系统的研究
被引量:
4
1
作者
刘品宽
孙立宁
荣伟彬
蒋利民
田昭武
机构
哈尔滨工业大学机器人研究所
厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第6期83-87,共5页
基金
国家自然科学基金 ( 2 98330 70
50 1750 19)资助项目
文摘
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 。
关键词
智能电化学微加工系统
约束刻蚀剂层技术
压电陶瓷驱动器
半导体
三维超微图形复制加工技术
Keywords
confined etchant layer technique
,
nanopositioning
,
piezo actuator
分类号
TH705 [机械工程—精密仪器及机械]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
新型智能电化学微加工系统的研究
刘品宽
孙立宁
荣伟彬
蒋利民
田昭武
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002
4
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