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IBAD合成CN_x/NbN纳米多层膜 被引量:3
1
作者 王静 何建立 +1 位作者 李文治 李恒德 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期543-545,共3页
用离子束辅助沉积技术(IonBeamAssistedDeposition,IBAD)制成CNx/NbN纳米多层膜.研究了工艺参数(轰击能量,基片温度)对股的结构和性能的影响,分析表明,多层膜内的NbN为多晶结构.在轰击能量为400eV,基片温度为600℃时,得到... 用离子束辅助沉积技术(IonBeamAssistedDeposition,IBAD)制成CNx/NbN纳米多层膜.研究了工艺参数(轰击能量,基片温度)对股的结构和性能的影响,分析表明,多层膜内的NbN为多晶结构.在轰击能量为400eV,基片温度为600℃时,得到了与β—C3N的晶面间距相对应的三条电子衍射环.基片温度的上升,膜层的硬度上升;轰击能量增大.炒股层的硬度表现为先上升后下降,最大显微硬度达41.81GPa. 展开更多
关键词 纳米 多层膜 结构微组装 ibad 氮化碳/氮化铌
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铜薄膜与Al_2O_3陶瓷界面结合力的IBAD过渡层增强 被引量:4
2
作者 杨杰 王晨 +1 位作者 陶琨 范毓殿 《真空科学与技术》 CSCD 1993年第5期352-355,共4页
利用离子束辅助淀积(IBAD)方法在Al_2O_3陶瓷基片上镀制过渡金属层,然后在此过渡层上进一步用电子束蒸发镀制铜导电薄膜。这种复合方法镀制的铜膜在具有低电阻率的同时,界面附着力有大幅度增加。在本文实验条件下,有IBAD铜或钛过渡层薄... 利用离子束辅助淀积(IBAD)方法在Al_2O_3陶瓷基片上镀制过渡金属层,然后在此过渡层上进一步用电子束蒸发镀制铜导电薄膜。这种复合方法镀制的铜膜在具有低电阻率的同时,界面附着力有大幅度增加。在本文实验条件下,有IBAD铜或钛过渡层薄膜的附着力比没有过渡层的薄膜附着力分别增加了5倍和8倍。 展开更多
关键词 陶瓷基片 薄膜 ibad 镀膜
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离子束辅助沉积技术(IBAD)在冷作模具表面改性上的应用 被引量:2
3
作者 丁晓非 曾葆青 +1 位作者 林艾光 陈宝清 《真空》 CAS 北大核心 2010年第4期51-54,共4页
IBAD是离子注入及沉积技术发展起来的材料表面改性方面的综合技术,工模具经IBAD处理后现场使用寿命可提高2~4倍。材料经IBAD处理后改性层的硬度明显提高、摩擦系数减小、耐磨性增强;改性层是由(Ti2N+TiN)、(α-Fe+TiN)、(α-Fe(N)+Cr7... IBAD是离子注入及沉积技术发展起来的材料表面改性方面的综合技术,工模具经IBAD处理后现场使用寿命可提高2~4倍。材料经IBAD处理后改性层的硬度明显提高、摩擦系数减小、耐磨性增强;改性层是由(Ti2N+TiN)、(α-Fe+TiN)、(α-Fe(N)+Cr7C3)三层次组成,与基体间附着性好、晶粒细化呈纳米相。 展开更多
关键词 ibad 离子注入 沉积 表面改性 冷作模具钢
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IBAD制备非晶碳膜与CrN镀层的耐磨性能比较及机理分析 被引量:7
4
作者 杜军 田林海 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期255-258,共4页
采用离子束辅助溅射沉积(IBAD)法,在高速钢基体上制备非晶碳膜(-αC)及CrN镀层,对两者的耐磨性能分析比较,并对其耐磨机理进行分析。结果表明:非晶碳膜的耐磨性能优于CrN镀层;文中讨论了摩擦系数和硬度对镀层耐磨损性能的影响,并通过分... 采用离子束辅助溅射沉积(IBAD)法,在高速钢基体上制备非晶碳膜(-αC)及CrN镀层,对两者的耐磨性能分析比较,并对其耐磨机理进行分析。结果表明:非晶碳膜的耐磨性能优于CrN镀层;文中讨论了摩擦系数和硬度对镀层耐磨损性能的影响,并通过分析动态膜基结合强度,证明两种镀层的磨损由不同磨损机理引起。 展开更多
关键词 离子束辅助溅射沉积(ibad) 耐磨镀层 磨损机理
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IBAD技术制备薄膜改性碳钢的耐蚀性研究 被引量:1
5
作者 翁端 王日中 +1 位作者 李西峰 张国卿 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 1998年第5期274-278,共5页
利用IBAD技术在核材料模拟基体(A3钢)上制备ZrN和ZrC薄膜,为作对比又用射频溅射法制备Teflon薄膜.对不同条件下获得的镀膜试样进行耐腐蚀性能测试.结果表明:各种膜层的耐腐蚀性能都较好;对同种材料其膜层的耐... 利用IBAD技术在核材料模拟基体(A3钢)上制备ZrN和ZrC薄膜,为作对比又用射频溅射法制备Teflon薄膜.对不同条件下获得的镀膜试样进行耐腐蚀性能测试.结果表明:各种膜层的耐腐蚀性能都较好;对同种材料其膜层的耐腐蚀性能随厚度的增加而增强;ZrC膜层的耐腐蚀性能远好于ZrN和Teflon膜层. 展开更多
关键词 ibad技术 薄膜 腐蚀 表面改性 碳钢
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合金元素(Ti,Cr,Ni)对IBAD制备的碳膜性质的影响
6
作者 李璞 关凯书 《真空》 CAS 北大核心 2007年第2期27-31,共5页
本文采用离子束辅助沉积技术(IBAD)制备一系列碳膜,重点分析添加合金元素(Ti,Cr,Ni)对薄膜性质的影响。实验结果表明添加Ti,Cr,Ni元素对碳膜厚度,硬度无明显影响,但提高了薄膜的结合强度,其中加入Ni后,薄膜的结合强度最好;添加合金元素... 本文采用离子束辅助沉积技术(IBAD)制备一系列碳膜,重点分析添加合金元素(Ti,Cr,Ni)对薄膜性质的影响。实验结果表明添加Ti,Cr,Ni元素对碳膜厚度,硬度无明显影响,但提高了薄膜的结合强度,其中加入Ni后,薄膜的结合强度最好;添加合金元素可以显著减小碳膜的摩擦系数;添加Ti元素碳膜的组织以非晶态为主,与纯碳膜相当。相对于类金刚石薄膜,本实验制备的碳膜试样更接近于类石墨膜。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积技术(ibad) 碳膜 结合强度 合金元素
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用IBAD方法合成ZrN/W纳米多层膜 被引量:2
7
作者 张晶晶 王明霞 +2 位作者 杨瑾 刘谦祥 李德军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期133-136,154,共5页
本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)在室温下制备具有纳米尺寸的ZrN/W多层膜,通过改变双靶的沉积时间,合成一系列的具有不同调制周期(3 nm^10 nm)的纳米多层膜。利用AES,XRD和纳米力学测试系统,表面形貌仪表征了薄膜的成分、结构... 本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)在室温下制备具有纳米尺寸的ZrN/W多层膜,通过改变双靶的沉积时间,合成一系列的具有不同调制周期(3 nm^10 nm)的纳米多层膜。利用AES,XRD和纳米力学测试系统,表面形貌仪表征了薄膜的成分、结构和机械性能,分析了不同调制周期对薄膜结构与机械性能的影响。结果表明:多层膜的机械性能普遍优于两种个体材料的混合相;在调制周期为8.6 nm时,显示出强的ZrN(111),W(110)织构和较弱的ZrN(220)峰,与其他条件下制备的样品比较,它具有较高的硬度(~26 GPa),较高的弹性模量(~310 GPa)和较强的膜基结合力(~80 mN)。低角度XRD分析证明了薄膜的多层结构。 展开更多
关键词 ibad ZrN/W 多层膜 超晶格
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IBAD法沉积TiN薄膜的机械和耐腐性 被引量:4
8
作者 李立 王娟 《中国民航学院学报》 2005年第2期42-46,共5页
用离子束辅助沉积(IBAD)方法在医用不锈钢317L基底上沉积TiN陶瓷薄膜。通过X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的微结构;测试了薄膜的耐磨性及薄膜与基底的附着力;运用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在H ank's模拟体液... 用离子束辅助沉积(IBAD)方法在医用不锈钢317L基底上沉积TiN陶瓷薄膜。通过X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的微结构;测试了薄膜的耐磨性及薄膜与基底的附着力;运用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在H ank's模拟体液中的耐腐蚀性能。研究结果表明:用高、低能氮离子束兼用的IBAD方法沉积TiN多晶薄膜后,材料表面结构和性能发生明显改变,表面硬度和耐磨性有明显提高,在H ank's模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积(ibad) 氮化钛(TiN) 机械性能 腐蚀
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IBAD MoS_2-Ta膜的电子显微与能谱分析 被引量:3
9
作者 王培录 刘仲阳 +2 位作者 廖小东 孙官清 郑思孝 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期143-148,共6页
用透射电子显微镜与能谱技术对离子束辅助沉积的MoSo2-Ta膜的形态、结构、组成以及元素的化学态等进行了观察和分析。发现膜在沉积过程中已产生部分晶化,膜体出现衬度鲜明的白色“团簇”点缀的两相特殊形态。TEM与XPS分... 用透射电子显微镜与能谱技术对离子束辅助沉积的MoSo2-Ta膜的形态、结构、组成以及元素的化学态等进行了观察和分析。发现膜在沉积过程中已产生部分晶化,膜体出现衬度鲜明的白色“团簇”点缀的两相特殊形态。TEM与XPS分析确定白色“团簇”属析出的第二相TaS2。两区都具有(002)、(100)和(110)取向,面间距与晶格常数都比MoS2单晶增大,“白区”的参数又比膜基体略大。去离子水浸泡和高温氧化实验表明,MoS2-Ta膜的耐水解、抗氧化能力远比同一条件沉积的MoS2膜优越。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 TEM XPS 复合膜 二氧化钼
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IBAD薄膜与基体界面的显微结构 被引量:2
10
作者 陶琨 何向军 +2 位作者 江海 范玉殿 李恒德 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 1996年第2期187-190,共4页
采用中能离子束辅助沉积(IBAD)技术,在单晶Al2O3(0001)基片上沉积Mo膜,在GaAS(001)基片12合成Fe16N2薄膜用HREM等研究了Mo膜-Al2O3(0001)、Fe16N2膜-GaAs(001... 采用中能离子束辅助沉积(IBAD)技术,在单晶Al2O3(0001)基片上沉积Mo膜,在GaAS(001)基片12合成Fe16N2薄膜用HREM等研究了Mo膜-Al2O3(0001)、Fe16N2膜-GaAs(001)界面的显微结构结果表明:Mo膜的晶粒呈细小性状或纤维状,晶粒平均尺寸约8nm,Fe16N2薄膜为等轴晶,晶粒平均尺寸约为10nm,在Mo膜-Al2O3(0001)界面及Fe16N2薄膜-GaAs(001)界面处存在厚10~15nm的由基片原子及膜层原子组成的非晶过渡层在过渡层与薄膜界面处存在台阶,增加了薄膜的形核点,薄膜的致密度较高。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 界面 显微结构 薄膜
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Tribological Properties of DLC Film Prepared by C^+ Ion Beam-assisted Deposition (IBAD) 被引量:1
11
作者 白秀琴 Peter Bhm 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2006年第1期49-52,共4页
C ^+ ion beam-assisted deposition was utilized to prepare deposit diamond-like carbon ( DLC ) film. With the help of a series of experiments such as Raman spectroscopy, FT-IR spectroscopy, AFM and nanoindentation ,... C ^+ ion beam-assisted deposition was utilized to prepare deposit diamond-like carbon ( DLC ) film. With the help of a series of experiments such as Raman spectroscopy, FT-IR spectroscopy, AFM and nanoindentation , the DLC film has been recognized as hydrogenated DLC film and its tribologicul properties have been evaluated. The bull-on-disc testing results show that the hardness and the tribologicul properties of the DLC film produced by C^ + ion beam- assisted deposition are improved significantly. DLC film produced by C ^+ ion beam- assisted deposition is positive to have a prosperous tribologicul application in the near future. 展开更多
关键词 DLC film C ^+ ion beam- assisted deposition ibad tribological properties
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IBAD技术的开发 被引量:1
12
作者 杨杰 陶琨 范玉殿 《微细加工技术》 1993年第1期42-48,共7页
IBAD(离子束辅助淀积)是一种很有潜力的材料表面改性和优质薄膜合成技术。本文在论述它在薄膜科学研究中的特点和应用基础上,提出了IBAD技术的开发方向,给出了利用IBAD—PVD复合镀膜技术进行异质材料界面设计和利用IBAD—PVD复合淀积多... IBAD(离子束辅助淀积)是一种很有潜力的材料表面改性和优质薄膜合成技术。本文在论述它在薄膜科学研究中的特点和应用基础上,提出了IBAD技术的开发方向,给出了利用IBAD—PVD复合镀膜技术进行异质材料界面设计和利用IBAD—PVD复合淀积多层膜技术进行CoSi_2薄膜合成的研究实例。这些研究为合成满足需要的优质薄膜提出了优化的技术路线。 展开更多
关键词 离子束辅助淀积 离子注入 薄膜 镀膜
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Amorphous Alloy Forming in the Fe-Hf Films by IBAD Technique
13
作者 Research Notes Feng PAN, Min DING and Eei ZENG Laboratory of Advanced Materials, Dept. of Materials Science and Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2001年第5期577-578,共1页
Amorphization in the Fe/Hf multilayered films was achieved by Ar+ ion beam assisted deposition (IBAD) technique. The Ar+ ion energy used was from 4 to 12 keV. Several amorphous alloys were obtained in Hf-rich films an... Amorphization in the Fe/Hf multilayered films was achieved by Ar+ ion beam assisted deposition (IBAD) technique. The Ar+ ion energy used was from 4 to 12 keV. Several amorphous alloys were obtained in Hf-rich films and their compositions were located in a range of 50 similar to 80 at. pct Hf. The amorphization mechanism was also discussed. 展开更多
关键词 FE ibad HF
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氟氧化锆薄膜的反应性IBAD
14
作者 运德 《等离子体应用技术快报》 1997年第6期4-6,共3页
关键词 氟氧化锆 薄膜 离子束辅助沉积 ibad
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用IBAD沉积磁性薄膜
15
作者 民了 《等离子体应用技术快报》 2000年第7期9-11,共3页
关键词 ibad 沉积 磁性薄膜
全文增补中
IBAD钼膜与Al_2O_3(0001)单晶界面的HREM研究
16
作者 何向军 陶琨 范玉殿 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第5期321-325,共5页
采用中等能量离子束辅助沉积(IBAD)技术在单晶Al2O3(0001)基片上沉积钼膜,通过HREM等分析手段,在原子尺度上,对于钼膜及其与Al2O3单晶基体界面的显微结构进行了研究。结果表明:钼膜的晶粒呈细小柱状或纤维状,平均晶粒尺寸约为... 采用中等能量离子束辅助沉积(IBAD)技术在单晶Al2O3(0001)基片上沉积钼膜,通过HREM等分析手段,在原子尺度上,对于钼膜及其与Al2O3单晶基体界面的显微结构进行了研究。结果表明:钼膜的晶粒呈细小柱状或纤维状,平均晶粒尺寸约为8nm,钼膜的致密度较高,膜内存在非晶组织。在钼膜与Al2O3单晶基片之间存在厚约10~15nm的非晶过渡层,在界面处未发现原子的长程扩散。非晶过渡层与钼膜界面处存在台阶,增加了钼膜的形核点。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 界面 显微结构 氧化物半导体
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IBAD氮化钛中N/Ti对膜层性能影响研究 被引量:1
17
作者 徐龙堂 谭俊 朱绍华 《装甲兵工程学院学报》 1997年第1期53-57,共5页
研究了离子束辅助沉积(IBAD)制备氮化钛(TiN)重要参数氮钛到达比(N/Ti)对膜层性能的影响,并且采用俄歇谱分析(AES)、光电子谱分析(XPS)、X射线衍射分析(XRD)对膜层进行了相组成与成分分析,摸索了N/Ti对膜层的影响规律.
关键词 离子束辅助沉积(ibad) 氮化钛(TiN)
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灯丝型辅助离子源的设计及其对薄膜参数的改善研究
18
作者 任翼 张殷 +1 位作者 周亚东 金尚忠 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2024年第7期99-106,共8页
为了以较低成本的技术提高磁控溅射沉积薄膜的纯度、致密性和均匀性,设计出一种可以活化氧气的双腔室直流加热灯丝型辅助离子源。通过实验改变辅助离子源的工作参数,探究其对磁控溅射镀膜机所沉积薄膜的光学参数的影响。通过对比不同工... 为了以较低成本的技术提高磁控溅射沉积薄膜的纯度、致密性和均匀性,设计出一种可以活化氧气的双腔室直流加热灯丝型辅助离子源。通过实验改变辅助离子源的工作参数,探究其对磁控溅射镀膜机所沉积薄膜的光学参数的影响。通过对比不同工艺条件下所沉积薄膜的透过率、折射率、基板上膜层不同位置的相对厚度,最终证明设计提出的辅助离子源可以一定程度改善Ta_(2)O_(5)和SiO_(2)单层镀膜的透过率、折射率以及均匀性,提升了原磁控溅射镀膜机的镀膜质量和有效镀膜面积,对提高镀膜生产效率具有一定指导意义。 展开更多
关键词 离子源 结构设计 离子束辅助沉积(ibad) 光学薄膜
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不同能量离子束辅助沉积对形成氮化钛薄膜性能的影响 被引量:13
19
作者 李立 赵杰 +1 位作者 李德军 顾汉卿 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期520-523,526,共5页
 用不同能量离子束辅助沉积方法在医用不锈钢317L和Si(100)基底上沉积TiN薄膜。通过X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的结构特征;测试了薄膜与基底的附着力和耐磨性;用电化学腐蚀的方法检测了...  用不同能量离子束辅助沉积方法在医用不锈钢317L和Si(100)基底上沉积TiN薄膜。通过X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的结构特征;测试了薄膜与基底的附着力和耐磨性;用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank′s模拟体液中的耐腐蚀性能;最后采用成纤维细胞、骨髓细胞体外培养试验考察了生长于不同薄膜表面的细胞粘附、增殖、展布情况及细胞的形态。研究结果表明:用高、低能氮离子兼用的IBAD方法制备的TiN多晶薄膜比只用高能或低能沉积的薄膜具有更强的附着力和耐磨性,在Hank′s模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力,并在细胞体外培养中显示出良好的细胞相容性。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积(ibad) 氮化钛(TiN) 附着力 耐腐蚀 细胞体外培养
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离子束辅助磁控溅射制备类石墨碳膜的结构与性能研究 被引量:7
20
作者 赵蕾 付永辉 +2 位作者 刘登益 朱晓东 何家文 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期181-186,共6页
采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等... 采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等.结果表明:采用IBMSD制备的GLC是一种以sp2键为主的非晶硬质碳膜.CH4辅助轰击较Ar有利于提高沉积速率.辅助轰击能量的增大使薄膜表面粗糙度先减小后增大,硬度的变化一定程度上与粗糙度相关. 展开更多
关键词 离子束辅助沉积(ibad) 磁控溅射 类石墨碳膜 结构
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