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应变补偿InGaN/AlGaN超晶格改善近紫外LED性能
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作者 尹以安 章勇 +1 位作者 范广涵 李述体 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2015年第8期42-46,共5页
通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替... 通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替代量子阱中的Ga N垒层,二是作p型层的接触层。实验发现,该结构的应用不但可以减弱量子阱的Stark效应和抑制电子泄露,而且降低p型接触层的欧姆接触电阻。且发现不用电子阻挡层情况下,其输出功率、PL光谱和I-V特性等都得到极大改善。 展开更多
关键词 应变平衡 ingan/algan超晶格 应变补偿 极化效应 p型欧姆接触电阻 近紫外LED
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InGaN/AlGaN双异质结绿光发光二极管 被引量:6
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作者 陆大成 韩培德 +10 位作者 刘祥林 王晓晖 汪度 袁海荣 王良臣 徐萍 姚文卿 高翠华 刘焕章 葛永才 郑东 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期414-416,共3页
报道了用 LP- MOVPE技术在蓝宝石 ( α- Al2 O3)衬底上生长出以双掺 Zn和 Si的 In Ga N为有源区的绿光 In Ga N/Al Ga N双异质结结构 ,并研制成功发射波长为 52 0— 540 nm的绿光LED.
关键词 氮化镓 InGaA/algan 双异质结 绿光发光二极管
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量子阱数量变化对InGaN/AlGaN LED的影响 被引量:5
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作者 宋晶晶 张运炎 +2 位作者 赵芳 郑树文 范广涵 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1368-1372,共5页
采用软件理论分析的方法分析了InGaN/AlGaN量子阱数量变化对发光二极管内量子效率、电子空穴浓度分布、载流子溢出产生的影响。分析结果表明:量子阱的个数不是越多越好,LED的光学性质和量子阱的个数并不成线性关系。量子阱个数太少时,... 采用软件理论分析的方法分析了InGaN/AlGaN量子阱数量变化对发光二极管内量子效率、电子空穴浓度分布、载流子溢出产生的影响。分析结果表明:量子阱的个数不是越多越好,LED的光学性质和量子阱的个数并不成线性关系。量子阱个数太少时,电流溢出现象较明显;而当量子阱个数太多时,极化现象明显,且会造成材料浪费。因此应根据工作电流选择合适的量子阱个数。 展开更多
关键词 量子阱数量 数值模拟 ingan algan发光二极管 大功率
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InGaN/AlGaN双异质结构蓝光LED的电学和光学性质 被引量:1
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作者 陈志忠 沈波 +4 位作者 杨凯 施洪涛 陈鹏 郑有 李熹霖 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期256-259,共4页
研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质。实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发... 研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质。实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发光(EL)谱的测量,得到位于2.8eV的发射峰和位于3.2eV弱发射峰,随着电流增大而均出现蓝移。对大脉冲电流下LED的特性的退化作了研究。 展开更多
关键词 蓝发光二极管 双异质结构 电致发光 LED
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MOCVD生长InGaN/AlGaN双异质结构与GaN过渡层的工艺与特性 被引量:1
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作者 林秀华 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期324-329,共6页
评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,Ga... 评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,GaN薄膜生长速率主要依赖于反应炉温度 ,气流束源摩尔流量速率。若生长温度太高 ,引起PL发光谱峰向长波侧移动 ;GaN缓冲层生长温度必须控制在 5 5 0℃。高的Ⅴ /Ⅲ双气束流比率能够抑制GaN发光谱中 5 5 0nm辐射峰产生。为了获得高质量 p AlGaN、GaN层 ,控制生长温度和以Cp2 Mg为杂质源的Mg受主掺杂量 ,并在N2 气氛中 80 0℃快速退火 。 展开更多
关键词 氮化镓薄膜 ingan/A1GaN双异质结构 MOCVD技术 掺杂 薄膜生长 发光二极管 生长动力学 金属有机物化学沉积 铟镓氮化合物 铝镓氮化合物
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MOCVD生长高质量InGaN/AlGaN MQW紫光LED的研究
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作者 唐健江 刘波波 +1 位作者 杨建锋 白俊春 《科技视界》 2018年第13期177-178,共2页
本文利用LP MOCVD系统生长了InGaN/AlGaN MQW紫光LED外延片、并使紫光LED外延的产业化。通过XRD、PL、EL等测试手段对其性能进行表征。结果表明,室温光致发光谱的峰值波长为380-400nm之间,XRD测试半高宽FWHM为17.34 nm波长均匀性良好。... 本文利用LP MOCVD系统生长了InGaN/AlGaN MQW紫光LED外延片、并使紫光LED外延的产业化。通过XRD、PL、EL等测试手段对其性能进行表征。结果表明,室温光致发光谱的峰值波长为380-400nm之间,XRD测试半高宽FWHM为17.34 nm波长均匀性良好。制成的LED管芯,正向电流20m A时,EL测试正向电压Vf小于3.4V,反向电压Vz大于18V,亮度大于1.9mcd,漏电流小于0.02m A。并研究了Al掺杂垒含量对MQW紫光LED发光效率的影响,当Al含量为5%时,得到的多量子阱结构的晶体质量最佳。随着Al含量的继续增加,晶体质量下降和正向电压变小,同时发光效率也降低。 展开更多
关键词 ingan/algan 多量子阱 紫光LED MOCVD
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Observation of a Current Plateau in the Transfer Characteristics of InGaN/AlGaN/AlN/GaN Heterojunction Field Effect Transistors
7
作者 闫俊达 王权 +11 位作者 王晓亮 肖红领 姜丽娟 殷海波 冯春 王翠梅 渠慎奇 巩稼民 张博 李百泉 王占国 侯洵 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第12期113-116,共4页
Direct-current transfer characteristics of (InGaN)/A1GaN/A1N/GaN heterojunction field effect transistors (HFETs) are presented. A drain current plateau (IDs = 32.0 mA/mm) for Vcs swept from +0.7 V to -0. 6 V is... Direct-current transfer characteristics of (InGaN)/A1GaN/A1N/GaN heterojunction field effect transistors (HFETs) are presented. A drain current plateau (IDs = 32.0 mA/mm) for Vcs swept from +0.7 V to -0. 6 V is present in the transfer characteristics of InGaN/AIGaN/AIN/GaN HFETs. The theoretical calculation shows the coexistence of two-dimensional electron gas (2DEG) and two-dimensional hole gas (2DHG) in InGaN/AIGaN/A1N/GaN heterostructures, and the screening effect of 2DHG to the 2DEG in the conduction channel can explain this current plateau. Moreover, the current plateau shows the time-dependent behavior when IDs Vcs scans repeated are conducted. The obtained insight provides indication for the design in the fabrication of GaN-based super HFETs. 展开更多
关键词 algan Observation of a Current Plateau in the Transfer Characteristics of ingan/algan/AlN/GaN Heterojunction Field Effect Transistors ingan AlN
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InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱中应变对光致发光特性的影响
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作者 于彤军 康香宁 +4 位作者 秦志新 陈志忠 杨志坚 胡晓东 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期20-24,共5页
对蓝宝石衬底上的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构和经激光剥离去除衬底的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构薄膜样品,进行了光致发光谱、高分辨XRD和喇曼光谱测量.PL测量结果表明,相对于带有蓝宝石衬底的样品,InGaN/GaN多量子阱... 对蓝宝石衬底上的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构和经激光剥离去除衬底的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构薄膜样品,进行了光致发光谱、高分辨XRD和喇曼光谱测量.PL测量结果表明,相对于带有蓝宝石衬底的样品,InGaN/GaN多量子阱薄膜样品的PL谱峰值波长发生较小的蓝移,而InGaN/AlGaN多量子阱薄膜样品的PL谱峰值波长发生明显的红移;喇曼光谱的结果表明,激光剥离前后E2模的峰值从569.1减少到567.5cm-1.这说明激光剥离去除衬底使得外延层整体的压应力得到部分释放,但InGaN/GaN与InGaN/AlGaN多量子阱结构中阱层InGaN的应力发生了不同的变化.XRD的结果证实了这一结论. 展开更多
关键词 光致发光谱 ingan algan 多量子阱 应变
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Electrical and Optical Properties of InGaN/AlGaN Double Heterostructure Blue Light-Emitting Diodes
9
作者 SHEN Bo SHI Hong-Tao +2 位作者 ZHANG Rong CHEN Zhi-Zhong ZHENG You-Dou 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2001年第2期283-285,共3页
Electrical and optical properties of InGaN/AlGaN double heterostructure blue light-emitting diodes were investigated.Measurement of the forward bias current-voltage behaviour of the device demonstrated a departure fro... Electrical and optical properties of InGaN/AlGaN double heterostructure blue light-emitting diodes were investigated.Measurement of the forward bias current-voltage behaviour of the device demonstrated a departure from the Shockley model of a p-n diode,and it was observed that the dominant mechanism of carrier transport across the junction is associated with carrier tunnelling.Electroluminescence experiments indicated that there was a main emission band around 2.80 eV and a relatively weaker peak at 3.2 eV.A significant blueshift of the optical emission band was observed,which was consistent with the tunnelling character of electrical characteristics.Furthermore,the degradation in I-V characteristics and the low resistance ohmic short of the device were observed. 展开更多
关键词 GaN/algan Shockley ohmic
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InGaN/GaN量子阱悬空微盘发光二极管
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作者 朱刚毅 宁波 +8 位作者 仇国庆 郭春祥 杨颖 李欣 李炳辉 施政 戴俊 秦飞飞 王永进 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期207-214,共8页
设计并制备了三种不同结构的电泵浦InGaN/GaN量子阱微盘发光器件,对其光增益和光损耗进行了分析和优化。以p型层的结构为分类标准,器件Ⅰ为圆柱形;器件Ⅱ为器件Ⅰ的悬空结构;器件Ⅲ是悬空的圆环形结构。实验和仿真结果表明,三种器件结构... 设计并制备了三种不同结构的电泵浦InGaN/GaN量子阱微盘发光器件,对其光增益和光损耗进行了分析和优化。以p型层的结构为分类标准,器件Ⅰ为圆柱形;器件Ⅱ为器件Ⅰ的悬空结构;器件Ⅲ是悬空的圆环形结构。实验和仿真结果表明,三种器件结构中,器件Ⅱ的结果最好。电极布局为内p外n型的圆柱形器件表面电流分布能够保证发光区和微腔高增益区重合,悬空结构能够降低微盘在垂直方向上的光损耗,有利于更好的光学增益。考虑到共振模式,器件Ⅱ在注入电流大于0.7 mA时,器件Ⅱ实现了峰值波长为408.2 nm、半峰宽为2.62 nm的振荡模式输出。这种电泵浦InGaN/GaN量子阱悬浮微盘二极管器件的设计思路对电泵浦微盘或微环激光器的研制具有重要参考意义。 展开更多
关键词 GaN微腔 损耗和增益竞争 ingan/GaN量子阱 片上光源
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AlGaN基深紫外LED光源灭活柯萨奇病毒研究
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作者 吴郁 蓝习瑜 +6 位作者 张梓睿 吴章鑫 刘忠宇 杨玲佳 张山丽 徐可 贲建伟 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第8期1391-1397,共7页
为探究在高温热处理AlN模板上制备的不同发光波长AlGaN基LED器件对病毒的灭活效率,本工作在发光波长257~294 nm范围内制备了7组不同发光波长AlGaN基深紫外LED器件,并探究其对柯萨奇病毒灭活效率。实验结果表明,高温热处理AlN模板可以将... 为探究在高温热处理AlN模板上制备的不同发光波长AlGaN基LED器件对病毒的灭活效率,本工作在发光波长257~294 nm范围内制备了7组不同发光波长AlGaN基深紫外LED器件,并探究其对柯萨奇病毒灭活效率。实验结果表明,高温热处理AlN模板可以将AlN模板位错密度降低至1.33×10^(7)cm^(-2),为制备高效率AlGaN基LED器件奠定了良好基础;基于高温热处理AlN模板制备的AlGaN基LED器件,在灭活距离2 cm、紫外辐照时间30 s实验条件下,发光中心波长在257~278 nm之间的AlGaN基LED器件对柯萨奇病毒灭活率≥99.90%,而发光中心波长为288 nm、294 nm的LED对柯萨奇病毒灭活率仅为99.47%及96.15%。根据以上研究结果,波长在257~278 nm之间的AlGaN基LED器件适合在病毒消杀领域应用;在本工作实验条件下,波长大于288 nm的AlGaN基深紫外LED器件对病毒灭活效果较差。 展开更多
关键词 高温热处理 AlN模板 algan LED 病毒灭活
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AlGaN/GaN HEMT器件高温栅偏置应力后栅极泄漏电流机制分析 被引量:1
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作者 陈欢欢 张贺秋 +9 位作者 邢鹤 夏晓川 张振中 蔡涛 叶宇帆 郭文平 席庆南 黄慧诗 梁晓华 梁红伟 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第1期90-95,共6页
AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅特性会受到温度应力和电应力的影响.在高温栅偏置(HTGB)应力下,器件的栅特性会发生退化,如栅极泄漏电流增大.为了研究退化机理,分析了AlGaN/GaN HEMT在栅电压为-2 V时,250℃高温应力作用后的栅极... AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅特性会受到温度应力和电应力的影响.在高温栅偏置(HTGB)应力下,器件的栅特性会发生退化,如栅极泄漏电流增大.为了研究退化机理,分析了AlGaN/GaN HEMT在栅电压为-2 V时,250℃高温应力作用后的栅极泄漏电流机制.随着HTGB时间的增加,栅极泄漏电流持续增大,受到应力器件在室温下静置后栅极泄漏电流密度恢复约20%.结果表明,在正向偏置范围内,栅极泄漏电流是由热电子发射(TE)引起的.在反向偏置范围内,普尔-弗伦克尔(PF)发射在小电压范围内占主导地位.阈值电压附近的范围由势垒层中的陷阱辅助隧穿(TAT)引起;在大电压范围内,福勒-诺德海姆(FN)隧穿导致栅极发生泄漏. 展开更多
关键词 algan/GaN HEMT 高温栅偏置应力 栅极泄漏电流机制
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AlGaN基深紫外LED的可靠性研究及寿命预测 被引量:1
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作者 宫明峰 孙雪娇 +5 位作者 雷程 梁庭 李丰超 谢宇 李开心 刘乃鑫 《光电子技术》 CAS 2024年第2期106-115,共10页
围绕AlGaN基深紫外LED的外延生长、工艺制备等因素对深紫外LED可靠性的影响以及加速寿命预测等方面开展了系统的研究。探索了量子垒(Quantum Barrier,简称QB)中Al组分、电子阻挡层(Electron Barrier Layer,简称EBL)中Al组分、同尺寸芯... 围绕AlGaN基深紫外LED的外延生长、工艺制备等因素对深紫外LED可靠性的影响以及加速寿命预测等方面开展了系统的研究。探索了量子垒(Quantum Barrier,简称QB)中Al组分、电子阻挡层(Electron Barrier Layer,简称EBL)中Al组分、同尺寸芯片不同台面面积等因素对深紫外LED可靠性的影响,确定QB结构Al组分为74%,EBL结构Al组分为75%,台面面积为P68。对优化后的深紫外LED设计了热、电应力老化试验,结合阿伦纽斯模型、逆幂律模型、指数最小二乘拟合对深紫外LED的寿命进行预测。实验结果表明,随着电、热应力的增加,深紫外LED可靠性随之降低,阿伦纽斯模型预测寿命为5027 h,逆幂律模型预测寿命为5400 h,正常工作电流40 mA下,深紫外LED实际寿命为5582 h,逆幂律模型预测精度较阿伦纽斯模型提升了6.7%。本研究将为提高深紫外LED的可靠性和产品应用普及提供坚实的理论基础。 展开更多
关键词 algan 深紫外发光二极管 可靠性 寿命预测
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AlGaN双势垒结构对高In组分InGaN/GaN MQWs太阳能电池材料晶体质量和发光性能的影响
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作者 单恒升 李明慧 +4 位作者 李诚科 刘胜威 梅云俭 宋一凡 李小亚 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第1期83-88,124,共7页
本文利用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在(001)面图形化蓝宝石衬底(PSS)上生长了一种含有AlGaN-InGaN/GaN MQWs(multiple quantum wells)-AlGaN双势垒结构的高In组分太阳能电池外延材料。高分辨率X射线衍射(HRXRD)和光致发光(... 本文利用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在(001)面图形化蓝宝石衬底(PSS)上生长了一种含有AlGaN-InGaN/GaN MQWs(multiple quantum wells)-AlGaN双势垒结构的高In组分太阳能电池外延材料。高分辨率X射线衍射(HRXRD)和光致发光(PL)谱分析表明,与含有AlGaN电子阻挡层的低In组分的量子阱结构太阳能电池外延材料相比,该结构材料具有较小的半峰全宽(FWHM),计算表明:此结构材料的位错密度降低了一个数量级,达到10^(7)cm^(-2);同时,有源区中的应变弛豫降低了51%;此外,此结构材料的发光强度增强了35%。研究结果表明含有AlGaN双势垒结构的外延材料可以减小有源区的位错密度,降低非辐射复合中心的数目,增大有源区有效光生载流子的数目,为制备高质量太阳能电池提供实验依据。 展开更多
关键词 金属有机化合物化学气相沉积 太阳能电池外延材料 algan双势垒结构 ingan/GaN MQWs 位错密度 光生载流子
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基于分离多量子垒电子阻挡层的AlGaN基深紫外发光二极管
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作者 申国文 鲁麟 +3 位作者 许福军 吕琛 高文根 代广珍 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期1156-1162,共7页
通过分离多量子垒电子阻挡层(EBL)结构,实现了AlGaN基DUV-LED器件性能的提升。由仿真结果可得,与传统的块状EBL相比,采用分离多量子垒结构的EBL可以获得更高的空穴浓度和辐射复合速率。这得益于EBL中间的夹层形成了空穴加速区,使得空穴... 通过分离多量子垒电子阻挡层(EBL)结构,实现了AlGaN基DUV-LED器件性能的提升。由仿真结果可得,与传统的块状EBL相比,采用分离多量子垒结构的EBL可以获得更高的空穴浓度和辐射复合速率。这得益于EBL中间的夹层形成了空穴加速区,使得空穴在加速区获得能量,从而提高了空穴注入效率。另外,多量子势垒结构还能够通过提高电子势垒有效抑制电子泄漏,从而大幅度提升器件性能。综上所述,多量子垒电子阻挡层的引入可以显著提升AlGaN基DUV-LED器件的性能。 展开更多
关键词 algan 深紫外发光二极管 电子阻挡层
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AlGaN/GaN HEMT小信号放大电路设计及放大增益预测
16
作者 叶宇帆 张贺秋 +4 位作者 夏晓川 郭文平 黄慧诗 梁晓华 梁红伟 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期412-417,共6页
采用计算机辅助设计技术(TCAD)对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件进行了仿真,并利用Multisim设计了AlGaN/GaN HEMT器件的低频小信号放大电路.由于GaN材料的宽带隙和高载流子迁移率,HEMT器件可以在空间科学应用中取代Si基MOSFET.T... 采用计算机辅助设计技术(TCAD)对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件进行了仿真,并利用Multisim设计了AlGaN/GaN HEMT器件的低频小信号放大电路.由于GaN材料的宽带隙和高载流子迁移率,HEMT器件可以在空间科学应用中取代Si基MOSFET.TCAD的仿真结果通过与测试结果的比较进行了修正.通过Multisim仿真结果与搭建的AlGaN/GaN HEMT共源共栅放大电路的测试结果对放大电路的放大特性进行了验证.以此为基础,利用TCAD模拟改变了结构参数的器件特性并采用改进了结构参数的AlGaN/GaN HEMT设计共源共栅放大电路.仿真结果表明,该放大电路在低频和室温下的电压放大能力可达6 200倍. 展开更多
关键词 algan/GaN HEMT TCAD仿真 放大增益 小信号模型
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日盲型AlGaN紫外阵列探测器研制
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作者 刘海军 张靖 +3 位作者 申志辉 周帅 周建超 姚彬彬 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第4期72-74,共3页
针对日盲紫外波段光信号的探测,研制了1 280×1 024/15μm×15μm AlGaN阵列型紫外探测器。像元采用共用N面电极的PIN台面结构,介绍了器件的结构、材料生长和制作工艺,并对器件进行了光电性能测试。结果表明:器件的正向开启电... 针对日盲紫外波段光信号的探测,研制了1 280×1 024/15μm×15μm AlGaN阵列型紫外探测器。像元采用共用N面电极的PIN台面结构,介绍了器件的结构、材料生长和制作工艺,并对器件进行了光电性能测试。结果表明:器件的正向开启电压大于10 V,反向击穿电压大于90 V;0.5 V偏压时单像元暗电流约为0.1 fA,1 V偏压时光谱响应范围为255~282 nm, 270 nm峰值波长响应度约为0.12 A/W。器件实现了日盲紫外成像演示。 展开更多
关键词 algan 日盲紫外 阵列探测器 成像
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4H-SiC衬底上生长参数对AlGaN基深紫外多量子阱受激辐射特性的影响
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作者 张睿洁 郭亚楠 +4 位作者 吴涵 刘志彬 闫建昌 李晋闽 王军喜 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期894-904,共11页
SiC衬底是制备高性能AlGaN基深紫外激光器的良好候选衬底。采用金属有机化学气相沉积方法在4H-SiC衬底上生长了深紫外AlGaN/AlN多量子阱结构(MQWs),系统研讨了MQWs生长参数对深紫外激光结构自发辐射和受激辐射特性的影响规律。综合分析M... SiC衬底是制备高性能AlGaN基深紫外激光器的良好候选衬底。采用金属有机化学气相沉积方法在4H-SiC衬底上生长了深紫外AlGaN/AlN多量子阱结构(MQWs),系统研讨了MQWs生长参数对深紫外激光结构自发辐射和受激辐射特性的影响规律。综合分析MQWs的表面形貌和发光性能后发现,随着NH_(3)流量增加和生长温度升高,MQWs表面粗糙度降低,内量子效率提升。经优化,MQWs的内量子效率达到74.1%,室温下的激射阈值光功率密度和线宽分别为1.03 MW/cm~2和1.82 nm,发光波长为248.8 nm。这主要归因于高的NH3流量和生长温度抑制了有源区中的碳杂质并入,载流子辐射复合效率和材料增益增加;同时生长速率降低,改善了MQWs结构的表面形貌,降低了界面散射损耗。采用干法刻蚀和湿法腐蚀的复合工艺制备了光滑陡直的谐振腔,激光器的腔面损耗降低,阈值光功率密度和线宽进一步降低至889 kW/cm~2和1.39 nm。 展开更多
关键词 algan SIC 光泵浦激光器 Ⅴ/Ⅲ比 生长温度
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硅基InGaN/GaN多量子阱微盘器件的发光、探测和数据传输
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作者 秦飞飞 卢雪瑶 +6 位作者 王潇璇 吴佳启 曹越 张蕾 樊学峰 朱刚毅 王永进 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期978-985,共8页
光源和探测器的集成可有效促进轻量化和小型化光电系统的发展,InGaN/GaN多量子阱器件中发光与探测共存现象为收发一体芯片的设计提供了可能。本文采用标准半导体工艺制备了硅片上集成的圆盘形InGaN/GaN多量子阱阵列器件,并对其发光、探... 光源和探测器的集成可有效促进轻量化和小型化光电系统的发展,InGaN/GaN多量子阱器件中发光与探测共存现象为收发一体芯片的设计提供了可能。本文采用标准半导体工艺制备了硅片上集成的圆盘形InGaN/GaN多量子阱阵列器件,并对其发光、探测以及基本通信特性进行了研究。微盘型器件中的共振模式有助于提升其探测特性,同时各向同性的辐射特性有助于器件作为光源时与探测器在空间上的耦合。作为光源,该器件的开启电压为2.5 V,中心波长455 nm,-3 dB带宽为5.4 MHz。作为探测器,该器件对紫外到蓝光波段的光有响应,探测性能随波长增加而减弱,截止波长450 nm。在365 nm光源激发下,该器件具有最高开关比7.2×10^(4),下降沿时间为0.41 ms。同时,基于单个微盘器件,本文构建并演示了半双工通信系统,在不同频段实现数据传输。这项研究对于电驱动光源制备以及收发一体的光通信具有重要意义。 展开更多
关键词 硅基ingan/GaN 多量子阱器件 发光与探测 半双工通信
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