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MWPCVD低温合成纳米碳管的生长机理 被引量:4
1
作者 王升高 汪建华 +2 位作者 满卫东 马志彬 王传新 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第6期611-614,共4页
The synthesis of carbon nanotubes£¨CNTs £(c)at low temperature has received a gre at deal of attention and be-comes a challenging issue£(r)But few mo del which accounts for the growth of C NTs is suited for th... The synthesis of carbon nanotubes£¨CNTs £(c)at low temperature has received a gre at deal of attention and be-comes a challenging issue£(r)But few mo del which accounts for the growth of C NTs is suited for the synthesis of CNTs by microwave plasma chemical vapor deposition£¨MWPCVD£(c)at low temperature because most rese archers conclude that the growth mechanism is determi ned by the catalyst-supporter interaction while ignored the diffusion o f carbon in the catalyst£(r)In this paper,under the catalytic effect of cobalt supported by SiO 2 and Al 2 O 3 ,CNTs are synthe-sized by MWPCVD at about 500℃,and tip-growth,the model which accounts fo r the catalytic growth of CNTs is outlined£(r)It is the temperature difference between the upper and bottom o f the catalytic particle that results in the diffusion of carbon atoms from upper to the bottom,and precipitation of s aturated carbon on the bottom surface to form CNTs£(r) 展开更多
关键词 mwpcvd 低温合成 钠米碳管 生长机理 微波等离子体化学气相沉积法
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MWPCVD合成金刚石 被引量:1
2
作者 杨中海 吴坚强 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第3期313-319,共7页
综述了微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD:Microwave Plasma Chenical Vapor Deposi-tion)新技术在人工合成金刚石方面的最新工作;阐述了人工合成金刚石的历史、金刚石的分类和类金刚石;着重介绍了微波等离子体系统的一种实验装置、原理... 综述了微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD:Microwave Plasma Chenical Vapor Deposi-tion)新技术在人工合成金刚石方面的最新工作;阐述了人工合成金刚石的历史、金刚石的分类和类金刚石;着重介绍了微波等离子体系统的一种实验装置、原理及沉积金刚石的机理。 展开更多
关键词 人造金刚石 合成法 mwpcvd
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水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜装置研制 被引量:1
3
作者 舒兴胜 邬钦崇 《真空与低温》 2001年第1期15-17,20,共4页
微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积,研制成功了水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜的装置。装置在微波输入功率为 3.0 kW时能长时间稳定运行,并在硅衬底上沉积出金... 微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积,研制成功了水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜的装置。装置在微波输入功率为 3.0 kW时能长时间稳定运行,并在硅衬底上沉积出金刚石膜。 展开更多
关键词 mwpcvd装置 稳定运行 金刚石膜 制备装置 微波等离子体化学气相沉积
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MWPCVD制备金刚石膜装置的大功率稳定运行的研究
4
作者 舒兴胜 邬钦崇 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2001年第7期88-90,共3页
介绍了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜装置的结构和工作原理 ,着重讨论了该装置长时间大功率稳定运行的措施。该装置在微波输入功率为 3 0kW时能长时间稳定运行。
关键词 mwpcvd装置 稳定运行 微波功率 金刚石膜 薄膜制备装置 结构
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纳米碳管对MWPCVD过程增强金刚石形核的影响 被引量:3
5
作者 俞世吉 丁振峰 +1 位作者 马腾才 邬钦崇 《新技术新工艺》 北大核心 2000年第6期33-34,共2页
利用石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积 ( MWPCVD)实验装置 ,研究了硅基体表面沉积金刚石薄膜时纳米碳管对金刚石形核过程的影响。扫描电子显微镜 ( SEM)形貌分析结果显示 ,纳米碳管处理能够促进金刚石形核。对非研磨基体而言 ,这是... 利用石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积 ( MWPCVD)实验装置 ,研究了硅基体表面沉积金刚石薄膜时纳米碳管对金刚石形核过程的影响。扫描电子显微镜 ( SEM)形貌分析结果显示 ,纳米碳管处理能够促进金刚石形核。对非研磨基体而言 ,这是一种有效的增强金刚石形核的表面预处理方式。 展开更多
关键词 MWPVCD 纳米碳管 金钢石形核 金刚石薄膜
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反应气压对MWPCVD金刚石膜中非金刚石相碳含量的影响 被引量:2
6
作者 舒兴胜 邬钦崇 梁荣庆 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第2期162-165,共4页
在水冷反应室式MWPCVD装置中以CH4 和H2 为反应气体进行了金刚石膜的沉积实验 ,研究了反应气体的压强对金刚石膜中非金刚石碳相含量的影响。实验发现 ,当微波输入功率较小时 ,随着反应气压的上升 ,沉积膜中非金刚石相碳的含量单调下降 ... 在水冷反应室式MWPCVD装置中以CH4 和H2 为反应气体进行了金刚石膜的沉积实验 ,研究了反应气体的压强对金刚石膜中非金刚石碳相含量的影响。实验发现 ,当微波输入功率较小时 ,随着反应气压的上升 ,沉积膜中非金刚石相碳的含量单调下降 ;当微波输入功率较大时 ,沉积膜中非金刚石相碳的含量先随着反应气压的上升而降低 。 展开更多
关键词 微波等离子体化学气相沉积 金刚石膜 气压 非金刚石相 碳含量 制备
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Synthesis of Carbon Nanotubes by MWPCVD at Low Temperature
7
作者 王升高 汪建华 +2 位作者 王传新 马志彬 满卫东 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2002年第1期1135-1140,共6页
Growth of carbon nanotubes (CNTs) at low temperature is very important to the ap- plications of nanotubes. In this paper, under the catalytic effect of cobalt nanoparticles supported by SiO2, CNTs were synthesized by ... Growth of carbon nanotubes (CNTs) at low temperature is very important to the ap- plications of nanotubes. In this paper, under the catalytic effect of cobalt nanoparticles supported by SiO2, CNTs were synthesized by microwave plasma chemical vapor deposition (MWPCVD) below 500°C. lt demonstrates that MWPCVD can be a very efficient process for the synthesis of CNTs at low temperature. 展开更多
关键词 CNTS Synthesis of Carbon Nanotubes by mwpcvd at Low Temperature
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Study on Diamond Thin Films Deposition in a Quartz Bell-jar Type System for MWPCVD
8
作者 俞世吉 丁振峰 +1 位作者 马滕才 邬钦崇 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2000年第1期161-165,共5页
Diamond thin films were prepared in a modified quartz bell-jar type microwave chemical vapor deposition (MWPCVD) system. The influences of process parameters on MWPCVD diamond thin films quality such as substrate pre... Diamond thin films were prepared in a modified quartz bell-jar type microwave chemical vapor deposition (MWPCVD) system. The influences of process parameters on MWPCVD diamond thin films quality such as substrate pretreatment, deposition gas ratio, deposition pressure and substrate position were examined and studied. The deposited films were characterized by using Scanning electron microscopy(SEM) and Raman spectroscopy. It was shown that this quartz bell-jar type MWPCVD system is beneficial to the deposition of high quality diamond thin films. 展开更多
关键词 Study on Diamond Thin Films Deposition in a Quartz Bell-jar Type System for mwpcvd
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Influence of Pretreatment Conditions of Stainless Steel Substrates on Field Emission Properties of Carbon Nanotubes Films 被引量:4
9
作者 樊志琴 张兵临 +3 位作者 姚宁 鲁占灵 杨仕娥 马丙现 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期1349-1354,共6页
Carbon nanotubes (CNTs) are synthesized from methane and hydrogen gas mixture directly on stainless steel plates by microwave plasma chemical vapor deposition (MWPCVD).By varying pretreatment conditions of the substra... Carbon nanotubes (CNTs) are synthesized from methane and hydrogen gas mixture directly on stainless steel plates by microwave plasma chemical vapor deposition (MWPCVD).By varying pretreatment conditions of the substrates such as mechanically polishing and acid washing,it is found the polishing and acid washing can lower the turn-on field and improve the emission current density.The current density of the un-pretreated sample attains 1.2mA/cm 2,but the polished sample and polished acidly washed sample attain 3.2 and 2.75mA/cm 2,respectively,at the electric field of 6.25V/μm. 展开更多
关键词 carbon nanotube mwpcvd field emission Raman spectroscopy
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WC-Co硬质合金表面不同去钴预处理方法的比较研究 被引量:1
10
作者 俞世吉 丁振峰 +1 位作者 马腾才 邬钦崇 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第1期71-73,70,共4页
用微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)制备金刚石薄膜涂层之前 ,采用盐酸、硝酸化学腐蚀和氢 氧等离子体对WC Co硬质合金 (YG6 )基体表面进行去钴预处理。扫描电子显微镜形貌观察和X射线衍射谱分析都表明 ,与化学腐蚀方法相比 ,氢 氧等... 用微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)制备金刚石薄膜涂层之前 ,采用盐酸、硝酸化学腐蚀和氢 氧等离子体对WC Co硬质合金 (YG6 )基体表面进行去钴预处理。扫描电子显微镜形貌观察和X射线衍射谱分析都表明 ,与化学腐蚀方法相比 ,氢 氧等离子体处理具有独特的表面去钴效果 ,沉积金刚石薄膜的喇曼谱分析更证实其对涂层质量的改善 ,且对MW PCVD过程而言有其技术上的一些优越性。 展开更多
关键词 WC-CO硬质合金 去钴预处理 氢-氧等离子体 表面处理 金刚石薄膜 mwpcvd
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C_(60)作为石英衬底过渡层气相生长金刚石薄膜 被引量:1
11
作者 杨国伟 刘大军 +2 位作者 何金田 张兵临 毛友德 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 1997年第4期5-7,共3页
本文采用微波等离子体化学气相沉积方法(MWPCVD),以C60膜作为过渡层,在石英(StO2)衬底表面,首次在等离子体预处理中无衬底负偏压条件下生长出金刚石晶粒。通过扫描电镜观察到金刚石晶粒呈菜花关,生长表面为(100)晶面。
关键词 石英 过渡层 金刚石薄膜 碳60 mwpcvd
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C_(60)作为石英衬底过渡层汽相生长金刚石薄膜
12
作者 杨国伟 张兵临 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期205-207,共3页
采用微波等离子体化学气相沉积方法(MWPCVD),以C60膜作为过渡层,在石英(SiO2)衬底表面,首次在等离子体预处理中,无衬底负偏压条件下,生长出金刚石晶粒。通过扫描电镜(SEM)观察到金刚石晶粒呈菜花状,生长表... 采用微波等离子体化学气相沉积方法(MWPCVD),以C60膜作为过渡层,在石英(SiO2)衬底表面,首次在等离子体预处理中,无衬底负偏压条件下,生长出金刚石晶粒。通过扫描电镜(SEM)观察到金刚石晶粒呈菜花状,生长表面为(100)晶面。 展开更多
关键词 石英 金刚石薄膜 碳60 mwpcvd 薄膜
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刻线镍膜上沉积的碳纳米管场发射特性 被引量:10
13
作者 樊志琴 张兵临 +4 位作者 姚宁 鲁占灵 杨仕娥 马丙现 邓记才 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期743-747,共5页
利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在刻线的镍膜上沉积碳纳米管膜。通过SEM和拉曼光谱表征,讨论了催化剂厚度、制备温度、反应时间以及甲烷浓度对碳纳米管场发射的影响。结果表明:不同条件下制备的碳纳米管的场发射性能有很大... 利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在刻线的镍膜上沉积碳纳米管膜。通过SEM和拉曼光谱表征,讨论了催化剂厚度、制备温度、反应时间以及甲烷浓度对碳纳米管场发射的影响。结果表明:不同条件下制备的碳纳米管的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100sccm)不变,当甲烷流量为5sccm、生长时间为5min、催化剂膜厚为150nm、温度为700~800℃时,场发射性能最好,开启场强为1.3V/μm,最大发射电流达到6.8mA/cm2。 展开更多
关键词 碳纳米管 微波等离子体化学气相沉积 场发射 拉曼光谱
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微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜涂层钻头 被引量:2
14
作者 谢鹏 汪建华 +2 位作者 满卫东 王传新 孙蕾 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第S2期309-311,318,共4页
在微波等离子体CVD中,在直径为0.8mm硬质合金钻头上进行沉积金刚石涂层的研究。在沉积前,用硝酸(HNO3:H2O=1:4)腐蚀60s,以去除表面的Co。在金刚石涂层沉积过程中,钻头尖端在微波电磁场中产生辉光放电现象,导致钻头尖端刃部很难获得金刚... 在微波等离子体CVD中,在直径为0.8mm硬质合金钻头上进行沉积金刚石涂层的研究。在沉积前,用硝酸(HNO3:H2O=1:4)腐蚀60s,以去除表面的Co。在金刚石涂层沉积过程中,钻头尖端在微波电磁场中产生辉光放电现象,导致钻头尖端刃部很难获得金刚石涂层。通过使用金属丝屏蔽的方法改变钻头周围的微波电磁场分布,成功地采用微波等离子体CVD法在钻头上沉积出了金刚石涂层。用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)和激光拉曼光谱对基体和薄膜进行了表征。结果表明,金刚石薄膜表面比较光滑,晶粒尺寸较小,涂层质量良好;在铝基复合材料上钻孔测试表明,薄膜的附着力也较高。 展开更多
关键词 金刚石涂层 钻头 微波等离子体化学气相沉积 硬质合金
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微波等离子体CVD方法制备金刚石薄膜 被引量:1
15
作者 顾长志 金曾孙 +3 位作者 吕宪义 邹广田 高谷松文 坂本幸弘 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1997年第3期67-69,共3页
采用微波等离子体化学气相沉积方法分别在CH4/H2,CO/H2和(CH4+CO)/H2气体体系下合成了金刚石薄膜.结果表明,所合成的金刚石薄膜具有明显的柱状生长特性和较高的品质,(CH4+CO)/H2体系合成的金刚石薄膜具有较高的生长速率和... 采用微波等离子体化学气相沉积方法分别在CH4/H2,CO/H2和(CH4+CO)/H2气体体系下合成了金刚石薄膜.结果表明,所合成的金刚石薄膜具有明显的柱状生长特性和较高的品质,(CH4+CO)/H2体系合成的金刚石薄膜具有较高的生长速率和(100)晶面定向生长的特性. 展开更多
关键词 金刚石 薄膜 微波等离子体 化学气相沉积 制备
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微波等离子体化学气相沉积法制备的新型纳米片状碳膜(英文) 被引量:1
16
作者 金哲 顾广瑞 《延边大学学报(自然科学版)》 CAS 2009年第3期223-226,共4页
在甲烷和氢气的混合系统中,利用石英管型微波等离子体化学气相沉积方法,在硅片上制备了新型的纳米片状碳膜.利用场发射扫描电子显微镜和拉曼光谱仪对碳膜的结构进行了表征,结果表明碳膜是由长1μm、宽100 nm的纳米碳片相互缠绕而成.最... 在甲烷和氢气的混合系统中,利用石英管型微波等离子体化学气相沉积方法,在硅片上制备了新型的纳米片状碳膜.利用场发射扫描电子显微镜和拉曼光谱仪对碳膜的结构进行了表征,结果表明碳膜是由长1μm、宽100 nm的纳米碳片相互缠绕而成.最后简单讨论了新型碳纳米片的形成机理. 展开更多
关键词 碳膜 纳米片 微波等离子体化学气相沉积 场发射扫描电子显微镜 拉曼光谱
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多壁碳纳米管定向生长参数的研究
17
作者 张铁军 陈泽祥 《现代显示》 2009年第5期26-29,共4页
研究了利用微波等离子体化学气相沉积法制备碳纳米管时各种工艺参数的影响。在化学气相沉积中催化剂起着至关重要的作用,为分析催化剂对碳纳米管生长情况的影响,采用常用的催化剂Fe和Ni作对比实验,并利用扫描电子显微镜表征手段分析不... 研究了利用微波等离子体化学气相沉积法制备碳纳米管时各种工艺参数的影响。在化学气相沉积中催化剂起着至关重要的作用,为分析催化剂对碳纳米管生长情况的影响,采用常用的催化剂Fe和Ni作对比实验,并利用扫描电子显微镜表征手段分析不同催化层对碳纳米管生长情况的影响,发现使用Fe催化层在较高温度下,碳纳米管生长形貌较Ni催化层要好。而沉积温度在制备碳纳米管的过程中也起这重要的作用,所以实验针对不同沉积温度进行碳纳米管生长,结果发现600℃左右温度较适合碳纳米管生长。 展开更多
关键词 碳纳米管 催化剂 化学气相沉积 扫描电子显微镜
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金刚石在C_(60)薄膜表面的气相成核 被引量:8
18
作者 杨国伟 刘大军 +3 位作者 袁放成 何金田 张兵临 毛友德 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第13期1181-1184,共4页
金刚石薄膜是一种性能优异的功能薄膜,比颗粒状金刚石材料有着更为广泛的应用领域,尤其是在光学和微电子学方面,因此近年来受到极大的关注。然而,在气相沉积金刚石薄膜中,金刚石在光滑非金刚石衬底表面难以成核。为了提高金刚石在光滑... 金刚石薄膜是一种性能优异的功能薄膜,比颗粒状金刚石材料有着更为广泛的应用领域,尤其是在光学和微电子学方面,因此近年来受到极大的关注。然而,在气相沉积金刚石薄膜中,金刚石在光滑非金刚石衬底表面难以成核。为了提高金刚石在光滑衬底上的成核密度,一般需要破坏衬底表面,使之布满宏观缺陷,如划痕、蚀坑等以提供成核点,或在衬底表面预沉积有助于金刚石成核的过渡层如DLC,β-SiC等。因此,寻找增强金刚石在光滑非金刚石衬底上成核的有效方法一直是近年来气相沉积金刚石研究的重要内容。最近,Meilunas等人发现Fuller烯中的C60,C70作为过渡层可以显著提高金刚石在光滑Si衬底表面的成核密度。由于Fuller烯是一种新型的光学和半导体材料,因此,研究Fuller烯表面气相生长金刚石薄膜不仅为增强光滑衬底表面上的成核提供了一种新方法,更为重要的是有可能为金刚石薄膜和Fuller烯提供新的应用领域。 展开更多
关键词 金刚石 薄膜 碳60 气相生长 mwpcvd
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微波方法制备(100)晶面取向的金刚石薄膜 被引量:2
19
作者 顾长志 金曾孙 +3 位作者 吕宪义 邹广田 坂本幸弘 高谷松文 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第6期647-651,共5页
采用MWPCVD制备金刚石膜的方法 ,以甲烷和一氧化碳为碳源气体 ,在适当的衬底温度与反应气体配比条件下 ,通过使衬底匀速转动 ,合成出具有 (10 0 )晶面取向的均匀生长的金刚石薄膜 ,在优化的工艺条件下这种定向金刚石膜的生长与单晶硅衬... 采用MWPCVD制备金刚石膜的方法 ,以甲烷和一氧化碳为碳源气体 ,在适当的衬底温度与反应气体配比条件下 ,通过使衬底匀速转动 ,合成出具有 (10 0 )晶面取向的均匀生长的金刚石薄膜 ,在优化的工艺条件下这种定向金刚石膜的生长与单晶硅衬底的类型没有明显的直接关系 . 展开更多
关键词 金刚石膜 定向生长 mwpcvd 微波法 制备
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微波等离子体增强化学气相沉积方法制备碳氮纳米管及其结构表征 被引量:4
20
作者 马旭村 徐贵昌 王恩哥 《中国科学(E辑)》 CSCD 2000年第2期117-121,共5页
利用微波等离子体增强化学气相沉积方法 ,在多孔二氧化硅基底上制备了大面积取向一致的碳氮纳米管薄膜 .采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜和能量散射X射线能谱仪分别进行了纳米管的形貌、结构和成分的研究 .结果表明这种纳米管的直... 利用微波等离子体增强化学气相沉积方法 ,在多孔二氧化硅基底上制备了大面积取向一致的碳氮纳米管薄膜 .采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜和能量散射X射线能谱仪分别进行了纳米管的形貌、结构和成分的研究 .结果表明这种纳米管的直径一般为 10 0nm ,长度可达 2 0 μm ,为纳米钟的线性聚合物 .纳米管的成分中同时均匀含有C ,N两种元素 .进一步的X射线光电子能谱结果证明了C与N之间以成键结合 .这预示着一种新的C1-xNx(x =0 .16± 0 .0 1)相出现在纳米管结构中 . 展开更多
关键词 碳氮纳米管 微波等离子体 结构 mwpcvd
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