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MgF_(2)助剂对MgAl_(1.9)Ga_(0.1)O_(4)透明陶瓷的制备与光学性能的影响
1
作者 吕朝阳 徐勇 +3 位作者 杨久延 涂广升 涂兵田 王皓 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期531-538,共8页
MgAl_(1.9)Ga_(0.1)O_(4)透明陶瓷具有优异的光学性能,其制备依赖于高质量坯体的凝胶注模成型和长时间的无压预烧。本研究选择MgF_(2)为烧结助剂,并通过瞬时液相调节无压预烧的致密化过程。采用干压成型、无压预烧和热等静压烧结制备了... MgAl_(1.9)Ga_(0.1)O_(4)透明陶瓷具有优异的光学性能,其制备依赖于高质量坯体的凝胶注模成型和长时间的无压预烧。本研究选择MgF_(2)为烧结助剂,并通过瞬时液相调节无压预烧的致密化过程。采用干压成型、无压预烧和热等静压烧结制备了不同尺寸的MgAl_(1.9)Ga_(0.1)O_(4)透明陶瓷样品,并系统分析了MgF_(2)对材料显微结构、光学和机械性能的影响。研究表明:MgF_(2)在~1230℃熔化形成的液相促使陶瓷的致密度与晶粒尺寸增大,后续烧结过程中残留的MgF_(2)氧化为MgO并固溶进入MgAl_(1.9)Ga_(0.1)O_(4)晶格。添加质量分数0.2%MgF_(2)的2.04 mm厚透明陶瓷样品在紫外和可见光区域具有76.5%~83.4%的直线透过率和较高的光学质量。此外,该陶瓷的特征抗弯强度为167.1 MPa,与细晶MgAl2O4透明陶瓷相近,但是前者的Weibull模数(8.81±0.29)更高。本研究为制备光学性能良好的大尺寸MgAl_(1.9)Ga_(0.1)O_(4)透明陶瓷提供了新的选择。 展开更多
关键词 透明陶瓷 mgal_(1.9)ga_(0.1)o_(4) MgF_(2) 瞬时液相烧结 光学性能
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Zn_(1.1)Ga_(1.8)Ge_(0.1)O_(4)透明陶瓷烧结过程的动力学研究
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作者 汪开强 杨康 +3 位作者 靖正阳 陈博文 涂兵田 王皓 《人工晶体学报》 CAS 2024年第11期1972-1980,共9页
尖晶石型Zn_(1.1)Ga_(1.8)Ge_(0.1)O_(4)是优秀的介电和长余辉基体材料,透明陶瓷的制备有望扩大其应用领域。本文对Zn_(1.1)Ga_(1.8)Ge_(0.1)O_(4)陶瓷的无压烧结动力学进行研究,结果表明Zn_(1.1)Ga_(1.8)Ge_(0.1)O_(4)陶瓷烧结过程的... 尖晶石型Zn_(1.1)Ga_(1.8)Ge_(0.1)O_(4)是优秀的介电和长余辉基体材料,透明陶瓷的制备有望扩大其应用领域。本文对Zn_(1.1)Ga_(1.8)Ge_(0.1)O_(4)陶瓷的无压烧结动力学进行研究,结果表明Zn_(1.1)Ga_(1.8)Ge_(0.1)O_(4)陶瓷烧结过程的致密化和晶粒生长均由O 2-晶界扩散控制,其烧结中期的致密化活化能为(426±35)kJ/mol,烧结末期的晶粒生长活化能为(439±14)kJ/mol。通过将烧结工艺参数控制在“烧结窗口”中,获得了良好的无压烧结体显微结构。经过高温热等静压处理后得到Zn_(1.1)Ga_(1.8)Ge_(0.1)O_(4)透明陶瓷,其光学透过范围为0.3~9μm,在2.5μm处直线透过率达到81.2%。 展开更多
关键词 Zn_(1.1)ga_(1.8)Ge_(0.1)o_(4)尖晶石 透明陶瓷 烧结路径 致密化活化能 晶粒生长活化能 光学透明性
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