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低转速下多弧离子镀制备的Mo-Ti-Al-N超晶格硬质涂层的微结构及背散射谱分析 被引量:2
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作者 王泽松 梁枫 +3 位作者 项燕雄 李松权 田灿鑫 邹长伟 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期160-167,共8页
目的研究低基片转速对纳米多层膜微结构和性能的影响。方法采用阴极多弧离子镀技术在单晶硅基片上沉积制备了MoTiAlN/MoN/Mo纳米复合结构涂层,借助X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、背散射谱(RBS)和纳米硬度计,分别对... 目的研究低基片转速对纳米多层膜微结构和性能的影响。方法采用阴极多弧离子镀技术在单晶硅基片上沉积制备了MoTiAlN/MoN/Mo纳米复合结构涂层,借助X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、背散射谱(RBS)和纳米硬度计,分别对样品的物相、形貌、组分和硬度进行表征分析。结果 XRD显示不同转速下制备的涂层的物相结构主要为六角密排结构的Mo N和面心立方(Ti,Al)N,较高基片转速下涂层的结晶性较好。SEM和TEM图像证实,2 r/min基片转速下的目标涂层具有平均调制周期26 nm的Ti AlN/MoN超晶格结构,总厚度为1.15μm,且界面清晰。纳米显微硬度测试表明,低基片转速下,涂层硬度和杨氏模量分别达到(30±2)GPa和(500±30)GPa。结论不同能量的~7Li^(2+)离子卢瑟福背散射谱结合SIMNRA拟合程序,可定量评估该超晶格结构涂层的原子百分比、每个子层的物理厚度及调制周期,这为纳米多层膜的微结构表征提供了一种有效的分析手段。 展开更多
关键词 多弧离子镀 纳米多层膜 mo-ti-al-n超晶格涂层 微结构 调制周期 背散射谱
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利用组合的受控弧蒸发和非平衡磁控管溅射技术沉积超晶格涂层
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作者 张正模 《等离子体应用技术快报》 1997年第1期8-9,共2页
关键词 磁控管溅射 PVD 晶格 涂层 金属
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深振荡磁控溅射复合沉积CrN/TiN超晶格涂层的摩擦学性能 被引量:3
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作者 欧伊翔 王浩琦 +5 位作者 庞盼 罗军 陈琳 廖斌 雷明凯 欧阳晓平 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第7期2476-2479,共4页
研究了IN718高温合金、WC-6%Co硬质合金和Si(100)基体上深振荡磁控溅射复合沉积CrN/TiN超晶格涂层的摩擦学性能。研究表明,涂层的生长对基体的类型没有选择性。随着基体硬度的升高,划痕结合力失效临界载荷增大,涂层结合力失效机制由翘... 研究了IN718高温合金、WC-6%Co硬质合金和Si(100)基体上深振荡磁控溅射复合沉积CrN/TiN超晶格涂层的摩擦学性能。研究表明,涂层的生长对基体的类型没有选择性。随着基体硬度的升高,划痕结合力失效临界载荷增大,涂层结合力失效机制由翘曲失效转变为基体/涂层协同变形,未发现涂层的剥落失效。载荷为2N时,磨损机制由磨粒磨损和氧化磨损转变为轻微磨粒磨损。载荷为4 N时,IN 718基体上涂层的磨损机制为严重的氧化磨损,WC-6%Co基体上的涂层的磨损机制为磨粒磨损和氧化磨损,氧化物的产生、堆积和转移导致摩擦系数的波动。 展开更多
关键词 深振荡磁控溅射 CrN/TiN晶格涂层 结合力 磨损
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纳米结构PVD涂层可保护精密机加工产品
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作者 杨英惠(摘译) 《现代材料动态》 2006年第4期12-13,共2页
台湾纳米超晶格工艺公司开发出一项工艺,利用该工艺可在高真空环境中以离子注入和磁控溅射结合用于钛、铝、钒等的氮化物薄膜沉积。该公司可以用纳米结构PVD涂层包覆半导体、精密机床和长途通信等设施元件。
关键词 PVD涂层 纳米结构 精密机床 加工产品 保护 纳米晶格 磁控溅射 离子注入 真空环境 薄膜沉积
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