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转子钢20Cr13表面硬质PVD涂层摩擦磨损性能分析
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作者 杨剑 沙鹏 +2 位作者 李伟 沈奎双 雷学林 《华东理工大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2024年第1期146-152,共7页
通过多弧离子镀与磁控溅射结合工艺在20Cr13表面分别制备CrN、TiN、TiAlCrN3种PVD涂层,研究3种涂层的摩擦磨损性能。结果表明,各类涂层均能提升基材性能,其中TiAlCrN涂层试样硬度较高(67 845 N/mm~2),CrN涂层试样薄膜结合力较高(30 N)... 通过多弧离子镀与磁控溅射结合工艺在20Cr13表面分别制备CrN、TiN、TiAlCrN3种PVD涂层,研究3种涂层的摩擦磨损性能。结果表明,各类涂层均能提升基材性能,其中TiAlCrN涂层试样硬度较高(67 845 N/mm~2),CrN涂层试样薄膜结合力较高(30 N)、表面质量较优,TiN涂层试样对比另外两种涂层试样性能较差。TiAlCrN涂层试样摩擦因数较高(0.619),其硬度高、结合力好、耐磨损能力较强。在摩擦磨损试验中TiAlCrN涂层与CrN涂层表面所形成的耐磨、抛光作用的氧化膜增强了基底耐磨性能。综合考虑,TiAlCrN涂层为转子表面理想耐磨涂层。 展开更多
关键词 转子 多弧离子镀 磁控溅射 pvd涂层 摩擦磨损
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用于PVD电源的新型三相LCC变换器
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作者 王欣 乐卫平 +2 位作者 刘涛 张香港 马泽鹤 《电力设备管理》 2024年第1期294-296,共3页
PVD直流等离子体电源在电源领域属于特种应用产品,广泛应用于集成电路制造中的金属及非金属材料溅射镀膜。针对集成电路制造产业中对PVD直流等离子体电源的应用需求,本文提出一种用于PVD电源的新型三相LCC变换器。
关键词 LCC变换器 pvd直流电源 第三代半导体 限流保护
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PS-PVD制备YSZ热障涂层的CMAS腐蚀行为研究
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作者 严刚 刘伟 +4 位作者 罗俊辉 谷凯凯 李聪 杨丽 周益春 《航空制造技术》 CSCD 北大核心 2023年第17期57-63,共7页
热障涂层(TBCs)广泛应用于先进航空发动机热端部件,有效延长了发动机热端部件的服役寿命,成为先进航空发动机必不可少的热防护材料。但在服役过程中一些大气沉积物CMAS加热后变为熔融体吸附在热障涂层表面,并沿着孔隙和裂纹等缺陷渗透... 热障涂层(TBCs)广泛应用于先进航空发动机热端部件,有效延长了发动机热端部件的服役寿命,成为先进航空发动机必不可少的热防护材料。但在服役过程中一些大气沉积物CMAS加热后变为熔融体吸附在热障涂层表面,并沿着孔隙和裂纹等缺陷渗透至涂层内部,诱导涂层过早失效。采用等离子-物理气相沉积技术(PS-PVD)制备YSZ热障涂层,利用XRD、SEM等表征手段,对不同腐蚀时间的涂层物相成分、微观结构进行了表征。研究结果表明,YSZ涂层在1250℃下经过CMAS腐蚀后发生了相变;随着腐蚀时间的增加,CMAS沉积物会沿着热障涂层类柱状晶间隙渗透至内部,导致涂层结构出现疏松,并且在陶瓷层上部区域出现了类柱状晶断裂现象,涂层宏观表现为部分陶瓷层剥落;腐蚀8 h后陶瓷层部分区域出现了类柱状晶从粘结层上整体剥离;CMAS渗透深度随腐蚀时间的增加不断加大,在腐蚀3 h内其渗透速度相对较快,腐蚀3 h以后其渗透速度会相对变得缓慢。 展开更多
关键词 等离子喷涂-物理气相沉积(PS-pvd) 热障涂层(TBCs) CMAS腐蚀 渗透速度 失效行为
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45钢表面TD-Cr/PVD-CrN复合涂层磨蚀性能
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作者 罗银 万强 +5 位作者 曹道成 杨泽华 李善军 孟亮 肖洋轶 韩明兴 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第7期455-463,共9页
目的采用热扩散(TD)渗金属技术和物理气相沉积(PVD)技术对45钢表面进行强化,以提升45钢表面硬度和抗磨蚀性能,延长45钢的使用寿命。方法采用热扩散渗金属技术和物理气相沉积技术制备TD-Cr、PVD-CrN及TD-Cr/PVD-Cr N(Cr/CrN复合涂层)3种... 目的采用热扩散(TD)渗金属技术和物理气相沉积(PVD)技术对45钢表面进行强化,以提升45钢表面硬度和抗磨蚀性能,延长45钢的使用寿命。方法采用热扩散渗金属技术和物理气相沉积技术制备TD-Cr、PVD-CrN及TD-Cr/PVD-Cr N(Cr/CrN复合涂层)3种涂层。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)研究涂层的微观形貌、元素分布和物相组成。通过纳米压痕研究涂层的硬度、弹性模量。通过摩擦磨损实验和电化学腐蚀实验,研究涂层的摩擦性能和腐蚀性能。结果TD-Cr、PVD-Cr N、TD-Cr/PVD-Cr N 3种涂层的组织结构均致密均匀,厚度分别为19.78、1.075、32.24μm。TD-Cr/PVD-Cr N涂层的硬度达到28.7 GPa,高于其他涂层,同时,Cr/Cr N复合涂层的弹性模量和弹性恢复能力均优于其他涂层。在盐水环境下,TD-Cr、PVD-Cr N、TD-Cr/PVD-CrN的摩擦因数分别为0.52、0.38、0.35,磨损体积分别为26、0.15、0.05,TD-Cr/PVD-CrN展现出较好的耐磨性能。在盐水环境下,TD-Cr/PVD-CrN涂层的抗腐蚀性能略低于TD-CrN涂层。结论综合看来,TD-Cr/PVD-CrN复合涂层可以有效提升45钢的表面抗磨蚀能力,延长其使用寿命。 展开更多
关键词 45钢 TD-Cr/pvd-CrN涂层 力学性能 摩擦磨损 抗腐蚀性能
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铝掺杂对转子钢20Cr13表面PVD涂层防腐耐冲性能影响
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作者 沙鹏 吴志斌 +2 位作者 杨剑 雷学林 何云 《硬质合金》 CAS 2023年第3期200-208,共9页
为强化双螺杆压缩机转子表面防腐耐冲性能,本文通过多弧离子镀/磁控溅射复合工艺,在转子基材20Cr13表面分别制备CrN、TiN、TiAlCrN三类PVD涂层,研究三类涂层的力学性能及Al元素掺杂对硬质氮化物涂层防腐耐冲性能的影响。试验结果表明:Cr... 为强化双螺杆压缩机转子表面防腐耐冲性能,本文通过多弧离子镀/磁控溅射复合工艺,在转子基材20Cr13表面分别制备CrN、TiN、TiAlCrN三类PVD涂层,研究三类涂层的力学性能及Al元素掺杂对硬质氮化物涂层防腐耐冲性能的影响。试验结果表明:CrN、TiN、TiAlCrN三类PVD涂层能够显著提升转子基材20Cr13表面硬度。通过Al元素的掺杂,涂层发生固溶强化,从而显著提升氮化物涂层的硬度,但TiAlCrN涂层孔隙率较高,耐腐蚀性能较差。TiAlCrN涂层由于硬度较高、薄膜结合力高,其耐冲蚀性能较好。 展开更多
关键词 20Cr13 铝掺杂 pvd涂层 防腐耐冲
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PS-PVD热障涂层柱状结构沉积调控及表面改性
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作者 姚梦晨 黄璐 +1 位作者 刘梅军 杨冠军 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第7期50-60,共11页
等离子-物理气相沉积(PS-PVD)具有涂层多结构调控的特性,为高隔热、长寿命热障涂层的制备提供可能,是实现未来高性能航空发动机发展的关键技术之一。PS-PVD柱状结构涂层独特的微观结构使其兼具高隔热和热循环寿命长的双重优势,在航空发... 等离子-物理气相沉积(PS-PVD)具有涂层多结构调控的特性,为高隔热、长寿命热障涂层的制备提供可能,是实现未来高性能航空发动机发展的关键技术之一。PS-PVD柱状结构涂层独特的微观结构使其兼具高隔热和热循环寿命长的双重优势,在航空发动机热障涂层领域有着广阔的应用前景。但PS-PVD柱状结构涂层工艺调控是在大量的实验基础上实现的,缺少相关的理论研究,而且高孔隙率的柱状结构涂层面临的CaO-MgO-Al 2O 3-SiO 2(CMAS)腐蚀失效问题仍然限制着涂层的使用。本文从涂层结构特征入手,阐述了沉积单元相态对涂层结构的影响规律,揭示了柱状结构涂层的气相沉积机理。在此基础上分析了涂层结构的工艺影响,并基于涂层材料在射流内的相态转变,从理论层面阐明了工艺参数调控的本质。此外,分析了PS-PVD柱状结构涂层CMAS腐蚀失效机理,阐述了表面镀铝改性对涂层抗CMAS腐蚀性能的影响机制,并对PS-PVD涂层结构调控和性能提升以及PS-PVD技术在环境障涂层和功能薄膜等领域的应用进行了展望。 展开更多
关键词 等离子-物理气相沉积(PS-pvd) 沉积机理 结构调控 表面改性 CMAS腐蚀
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氦气纯度低导致PVD腔室冷泵异响问题的分析方法
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作者 武学伟 刘春光 李伯 《价值工程》 2023年第3期94-96,共3页
冷泵是PVD设备重要的组成部分,主要负责保持腔室内的真空环境,它利用高纯度氦气的压缩膨胀循环来达到冷板低温,通过低温冷板捕捉腔室内的气体达到高真空度的环境。若冷泵出现故障,将直接影响腔室内的真空度,间接地影响晶圆的加工质量;... 冷泵是PVD设备重要的组成部分,主要负责保持腔室内的真空环境,它利用高纯度氦气的压缩膨胀循环来达到冷板低温,通过低温冷板捕捉腔室内的气体达到高真空度的环境。若冷泵出现故障,将直接影响腔室内的真空度,间接地影响晶圆的加工质量;本文主要介绍由于氦气纯度低导致冷泵异响的一种分析方法。 展开更多
关键词 冷泵 pvd设备 氦气纯度 冷泵异响
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EB-PVD在热障涂层中的失效研究分析
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作者 程思远 潘娜 程鑫 《模具制造》 2023年第6期70-74,共5页
电子束物理气相沉积(EB-PVD)是航空发动机涡轮叶片热障涂层(TBCs)的先进制备技术。随着EB-PVD TBCs的深入研究,TBCs失效也引起了众多研究者的重视。对EB-PVD TBCs的TGO(热生长氧化物)生长失效和CMAS(钙、镁、铝和硅酸盐)高温侵蚀失效两... 电子束物理气相沉积(EB-PVD)是航空发动机涡轮叶片热障涂层(TBCs)的先进制备技术。随着EB-PVD TBCs的深入研究,TBCs失效也引起了众多研究者的重视。对EB-PVD TBCs的TGO(热生长氧化物)生长失效和CMAS(钙、镁、铝和硅酸盐)高温侵蚀失效两种主要机制进行了总结,分析了其失效机制和影响因素,以期为EB-PVD在TBCs中的应用提供理论基础。 展开更多
关键词 热障涂层 EB-pvd 失效 TGO CMAS
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PS-PVD工艺中非视线沉积对涂层微结构的影响 被引量:1
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作者 李新慧 何箐 +2 位作者 邹晗 由晓明 赵乾 《热喷涂技术》 2023年第2期34-41,共8页
等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)工艺由于具有非视线沉积效果,在加工复杂型面和多联体导向叶片表面热障涂层具有高均匀性的优势而被广泛关注。为了进一步研究PS-PVD高能、高速射流的非视线沉积效果,验证固定直径圆柱挡杆(Φ22 mm)不同... 等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)工艺由于具有非视线沉积效果,在加工复杂型面和多联体导向叶片表面热障涂层具有高均匀性的优势而被广泛关注。为了进一步研究PS-PVD高能、高速射流的非视线沉积效果,验证固定直径圆柱挡杆(Φ22 mm)不同距离遮蔽对平面沉积样品沉积行为的影响。结果表明:无遮蔽条件下,基体表面涂层厚度分布呈中部厚而四周薄,呈现高斯峰分布特征,涂层最大厚度为135μm;有遮挡条件下,涂层厚度呈现双峰的结构特征,在15 mm的遮挡距离时,遮挡区域基体沉积的涂层最薄,其他遮挡距离下,涂层厚度在0~40μm之间变化。对遮蔽区域位置涂层显微形貌进行分析,发现不同位置的遮蔽区域正后方,气相的速率和浓度明显降低,导致柱状结构生长时形成气相沉积为主的结构,同时扩散速率较低导致气相生长较慢;在遮蔽区域的边缘,由于遮蔽效应,涂层中的冷凝颗粒明显增多;遮蔽区域涂层厚度明显降低,且挡杆距基体距离越远,遮蔽区域的厚度分布越不规则,受射流的扰动影响越大。 展开更多
关键词 等离子喷涂-物理气相沉积 非视线沉积 遮蔽效应 显微结构
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团聚粉末粒度对PS-PVD制备GYbZ热障涂层的性能影响
10
作者 杨朔 毛杰 +3 位作者 邓子谦 胡方 邓春明 邓畅光 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第2期395-403,共9页
目的探究不同粒度的微米级团聚粉末对等离子喷涂–物理气相沉(PS-PVD)制备GYbZ热障涂层性能的影响。方法以微米团聚的(Gd_(0.9)Yb_(0.1))_(2)Zr_(2)O_(7)(GYbZ)粉末为原料,通过PS-PVD工艺在镍基高温合金表面用3种不同粒径团聚粉末制备G... 目的探究不同粒度的微米级团聚粉末对等离子喷涂–物理气相沉(PS-PVD)制备GYbZ热障涂层性能的影响。方法以微米团聚的(Gd_(0.9)Yb_(0.1))_(2)Zr_(2)O_(7)(GYbZ)粉末为原料,通过PS-PVD工艺在镍基高温合金表面用3种不同粒径团聚粉末制备GYbZ热障涂层。采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析GYbZ热障涂层的微观结构及相组成,采用电子万能试验机测试涂层的结合强度,采用自动水淬机对涂层的抗热震性能进行测试。结果随着团聚粉末粒度的减小,团聚粉末的球形度会变低,且粉末的孔隙率逐渐变大,团聚粉末粒度越小,喷涂的气化率越高,涂层中未熔粒子越少,涂层羽–柱状结构越明显。D50=13μm的团聚粉末在喷涂时,因粉末粒度过小,以及流动性较差,送粉过程中部分粉末未能顺利地通过喷嘴到达等离子焰流的中心,涂层的沉积率会略微降低。GYbZ团聚粉末衍射图呈现出Gd_(2)Zr_(2)O_(7)与Yb_(2)O_(3)这2种相的堆叠,而GYbZ涂层衍射图呈现单一的缺陷萤石结构。同时随着团聚粉末粒度的减小,制备出相应涂层的力学性能和抗热震性能有着明显的提高。结论采用D50=13μm的团聚粉末制备的涂层具有完整的羽毛–柱状结构,且拥有最高的结合强度及最好的抗热震性能。 展开更多
关键词 粉末粒径 等离子喷涂–物理气相沉积 GYbZ 热障涂层
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国内PVD技术应用与研究现状 被引量:10
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作者 梁红樱 赵海波 +2 位作者 王辉 张欣苑 李祝 《工具技术》 北大核心 2007年第6期33-36,共4页
在总结目前国内商业应用刀具PVD技术的发展状况的基础上,介绍了国内纳米超硬薄膜的研究现状及特点;分析了国内当前PVD技术应用与研究所存在的问题,提出了研究、开发的新思路。
关键词 pvd 超硬薄膜 纳米 制备技术
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EB-PVD热障涂层对IC10合金力学性能的影响 被引量:10
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作者 吴小梅 贺世美 +1 位作者 李建平 何利民 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期77-80,共4页
采用电弧离子镀技术在IC10合金基体上制备NiCrAlYSi粘结层,利用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术在粘结层上制备YSZ陶瓷面层。研究了YSZ热障涂层对IC10合金拉伸、持久、疲劳性能的影响。结果表明:IC10合金沉积YSZ热障涂层后,980℃/200MP... 采用电弧离子镀技术在IC10合金基体上制备NiCrAlYSi粘结层,利用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术在粘结层上制备YSZ陶瓷面层。研究了YSZ热障涂层对IC10合金拉伸、持久、疲劳性能的影响。结果表明:IC10合金沉积YSZ热障涂层后,980℃/200MPa高温持久寿命与IC10合金相当;900℃高温抗拉强度σb、屈服强度σ0.2、伸长率δ和断面收缩率ψ与基体相比,基本保持不变;室温抗拉强度σb、屈服强度σ0.2与基体相比稍有下降;800℃/447MPa疲劳寿命与基体合金相当。因此,IC10合金沉积TBCs涂层后,对IC10合金力学性能无明显影响,不影响合金的实际使用。 展开更多
关键词 IC10合金 EB—pvd热障涂层 力学性能
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摩擦力—划痕法评定PVD多层薄膜结合强度研究 被引量:4
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作者 朱有利 黄元林 +1 位作者 石宗利 李重庵 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期984-986,共3页
采用摩擦力 -划痕法评定了 PVD Ag- Cu/Ti/stainless!steel双层薄膜的结合强度 ,测得其顶层与底层及底层与基体间的临界荷载值分别为 LC1、LC2 ,其中 LC1随膜厚的增加而减小 ,LC2 随膜厚的增加变化不大 ,且和Ti单层膜的 LC值相近。这与... 采用摩擦力 -划痕法评定了 PVD Ag- Cu/Ti/stainless!steel双层薄膜的结合强度 ,测得其顶层与底层及底层与基体间的临界荷载值分别为 LC1、LC2 ,其中 LC1随膜厚的增加而减小 ,LC2 随膜厚的增加变化不大 ,且和Ti单层膜的 LC值相近。这与膜厚及膜内应力变化有关。实验结果表明 ,采用摩擦力 -划痕法评定多层薄膜结合强度有其独特的优点。可以确定多层膜中不同膜层的 LCi值 ,并以此来表征各层或某些层的结合强度值。 展开更多
关键词 摩擦力-划痕法 pvd 多层薄膜 综合强度
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PVD法及与电镀复合制备光纤腐蚀传感器的Fe-C合金敏感膜 被引量:7
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作者 雒娅楠 邱志刚 +3 位作者 宋诗哲 董飒英 王洪仁 于辉 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期947-951,共5页
用PVD法制备光纤腐蚀传感器 (FOCS)的Fe C合金敏感膜 ,在光纤纤芯上得到厚度大约 1 μm的Fe C合金膜 ,而且光信号对敏感膜的腐蚀信息有响应 .为了增加敏感膜的厚度 ,根据平面波导与圆柱波导的相似性 ,采用PVD与电镀复合的方法在平板石... 用PVD法制备光纤腐蚀传感器 (FOCS)的Fe C合金敏感膜 ,在光纤纤芯上得到厚度大约 1 μm的Fe C合金膜 ,而且光信号对敏感膜的腐蚀信息有响应 .为了增加敏感膜的厚度 ,根据平面波导与圆柱波导的相似性 ,采用PVD与电镀复合的方法在平板石英玻璃上制备Fe C合金膜 ,研究该膜层的形貌、结构和在不同NaCl溶液中的耐蚀性 .结果表明 :复合制备的Fe C合金膜的结构和耐蚀性与普通碳钢近似 ,并初步监测了光信号对敏感膜腐蚀信息的响应 。 展开更多
关键词 pvd 光纤腐蚀传感器(FOCS) 电镀 FE-C合金
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Kinetic Monte Carlo模拟PVD薄膜生长的算法研究 被引量:3
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作者 赫晓东 单英春 +1 位作者 李明伟 史丽萍 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1542-1544,共3页
提出kinetic Monte Carlo模拟物理气相沉积(physical vapor deposition,简写为PVD)薄膜生长的新算法:用红黑树搜索实现跃迁路径选择及系统跃迁概率更新,通过比较红黑树搜索、线性查找、满二元树搜索的计算效率,综合分析了这3种方法的时... 提出kinetic Monte Carlo模拟物理气相沉积(physical vapor deposition,简写为PVD)薄膜生长的新算法:用红黑树搜索实现跃迁路径选择及系统跃迁概率更新,通过比较红黑树搜索、线性查找、满二元树搜索的计算效率,综合分析了这3种方法的时间复杂度和空间复杂度。结果表明红黑树搜索优于其它两种搜索方法,模拟效率最高,更适合用于执行大系统的kinetic Monte Carlo模拟。 展开更多
关键词 KINETIC MONTE Carlo 红黑树 pvd 薄膜
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低温PVD法制备多组分超硬薄膜研究 被引量:6
16
作者 彭志坚 齐龙浩 +2 位作者 刘大鹏 李文治 苗赫濯 《材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2003年第1期110-116,共7页
对薄膜淀积的各种PVD技术和新型薄膜研究进展进行了综述 ,讨论了多组分硬质薄膜低温制备存在的问题 ,指出了解决的办法 ;归纳了影响多组分硬质薄膜在三维基体上均匀、均质淀积的因素 ,重点讨论了基体旋转与靶源配置问题 ;指出了用低温PV... 对薄膜淀积的各种PVD技术和新型薄膜研究进展进行了综述 ,讨论了多组分硬质薄膜低温制备存在的问题 ,指出了解决的办法 ;归纳了影响多组分硬质薄膜在三维基体上均匀、均质淀积的因素 ,重点讨论了基体旋转与靶源配置问题 ;指出了用低温PVD法淀积多组分超硬薄膜研究方向。 展开更多
关键词 低温pvd 制备 多组分超硬薄膜 物理气相沉积
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PVD-TiAlN和PVD-TiAlSiN涂层氮化硅刀具的切削性能研究 被引量:9
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作者 曾俊杰 龙莹 伍尚华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第9期2450-2455,共6页
采用物理气相沉积(Physical vapor deposition,PVD)工艺在氮化硅陶瓷刀具表面分别沉积Ti Al N和Ti Al Si N涂层。采用扫描电子显微镜(SEM)研究Ti Al N和Ti Al Si N涂层表面形貌和微观结构,X射线衍射仪(XRD)研究涂层晶体结构,显微硬度计... 采用物理气相沉积(Physical vapor deposition,PVD)工艺在氮化硅陶瓷刀具表面分别沉积Ti Al N和Ti Al Si N涂层。采用扫描电子显微镜(SEM)研究Ti Al N和Ti Al Si N涂层表面形貌和微观结构,X射线衍射仪(XRD)研究涂层晶体结构,显微硬度计表征涂层硬度。采用Ti Al N和Ti Al Si N涂层氮化硅刀具对灰铸铁进行连续干切削试验,分别研究Ti Al N和Ti Al Si N涂层对刀具寿命、磨损性能的影响,并探讨涂层刀具磨损机理。实验结果表明:Ti Al Si N涂层晶粒比Ti Al N涂层细小,从而具有更高的表面硬度。Ti Al N涂层可将氮化硅陶瓷刀具寿命提高50%左右,Ti Al Si N涂层可将刀具寿命提高1倍。切削过程中,Ti Al N涂层刀具在磨损初期的主要磨损机理是磨粒磨损和少量粘结磨损,而后转为严重的粘结磨损;而Ti Al Si N涂层刀具主要的磨损机制为磨粒磨损和粘结磨损。 展开更多
关键词 pvd涂层 氮化硅刀具 切削性能
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刀具 PVD 涂层技术的发展 被引量:5
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作者 李忠厚 刘小平 徐重 《工具技术》 北大核心 1999年第2期3-6,共4页
介绍了刀具PVD涂层技术和材料的发展现状及趋势,指出在进一步开发新型超硬涂层的同时,具有良好应用前景的软涂层已成为研究开发的另一热点。
关键词 刀具 pvd 涂层 超硬材料 软涂层 发展趋势 化学气相沉积 硬质合金
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普通碳钢的一种PVD镀膜及其耐蚀性研究 被引量:2
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作者 王煦 许露之 +2 位作者 张明 韦进勇 周丽娜 《西南石油大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期143-146,213-214,共4页
为了提高水力喷射压裂中喷嘴的耐蚀耐磨性,使用普通碳钢进行PVD镀膜,研究了3种镀膜试样的表面物理性能和脉冲负偏压的影响,采用失重法、电化学法和XRD等测试了PVD镀膜的耐蚀性。结果表明:脉冲负偏压在–400~–700 V,镀层的沉积速率和... 为了提高水力喷射压裂中喷嘴的耐蚀耐磨性,使用普通碳钢进行PVD镀膜,研究了3种镀膜试样的表面物理性能和脉冲负偏压的影响,采用失重法、电化学法和XRD等测试了PVD镀膜的耐蚀性。结果表明:脉冲负偏压在–400~–700 V,镀层的沉积速率和显微硬度随负偏压的增大而降低,膜基结合力先增加后减小;在高流速下,3种试样均表现出良好的耐磨蚀性,模拟地层水流速为6 m/s时,碳钢的磨蚀速率是镀膜试样的4倍;单因素条件下,3种镀膜的腐蚀速率随Cl浓度增加先增加后减小,随pH值增加而减小;3种镀膜中AlCrN(厚)镀膜的耐蚀性最佳,这与镀膜的致密性和牺牲阳极保护作用有关。 展开更多
关键词 碳钢 pvd 镀膜 地层水 腐蚀
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入射角度对PVD Ni薄膜微观结构的影响 被引量:2
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作者 单英春 徐久军 +2 位作者 赫晓东 何飞 李明伟 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期583-586,共4页
采用动态蒙特卡罗(kinetic Monte Carlo,简称KMC)方法研究物理气相沉积(physical vapor deposition,简称PVD)制备Ni薄膜过程中入射角度对薄膜微观结构的影响。该KMC模型中既包括入射原子与表面之间的碰撞,又包括被吸附原子的扩散。模拟... 采用动态蒙特卡罗(kinetic Monte Carlo,简称KMC)方法研究物理气相沉积(physical vapor deposition,简称PVD)制备Ni薄膜过程中入射角度对薄膜微观结构的影响。该KMC模型中既包括入射原子与表面之间的碰撞,又包括被吸附原子的扩散。模拟中用动量机制确定被吸附原子在表面上的初始构型,用分子稳态(molecular statics,简称MS)计算方法计算扩散模型中跃迁原子的激活能。对于模拟结果,采用表面粗糙度和堆积密度作为沉积构型评价指标。研究结果表明:当沉积速率是5μm/min,基板温度是300K和500K时,表面粗糙度和堆积密度曲线在入射角度等于35?时出现拐点;入射角度小于35?时,入射角度增大对表面粗糙度增加和堆积密度减小的影响很少;但是入射角度大于35?时,随入射角度增大表面粗糙度迅速增加、堆积密度迅速减小。另外,当基板温度是300K时,入射角度对薄膜微观结构的影响程度大于基板温度为500K时的影响程度。说明高基板温度促使原子更加充分地扩散,从而能削弱自阴影效应的作用。但是,在保证足够高基板温度和合理沉积速率的情况下,入射角度过大同样不利于致密结构形成。 展开更多
关键词 动态蒙特卡罗 入射角度 pvd Ni薄膜
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