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半球谐振子镀膜残余应力对品质因数影响特性分析
被引量：
2
1
作者
楚建宁
朱蓓蓓
+4 位作者
秦琳
刘青
兰洁
陈肖
许剑锋
《飞控与探测》
2021年第1期52-59,共8页
针对半球谐振子表面金属薄膜残余应力分布情况,对半球谐振子Q值的影响特性进行了仿真。根据仿真结果,采用多自由度磁控溅射及基底均匀加热的方法进行了薄膜沉积工艺试验。控制多自由度旋转机构自转、公转、摆动参数分别为7r/min、12r/mi...
针对半球谐振子表面金属薄膜残余应力分布情况,对半球谐振子Q值的影响特性进行了仿真。根据仿真结果,采用多自由度磁控溅射及基底均匀加热的方法进行了薄膜沉积工艺试验。控制多自由度旋转机构自转、公转、摆动参数分别为7r/min、12r/min和15 (°)/s,将基体均匀加热至120℃,在时长为26min的溅射之后得到了厚度为100nm左右的膜层。在真空状态下对半球谐振子镀膜后的品质因数进行了检测,结果表明可有效控制镀膜后的Q值衰减不超过30%。
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关键词
半球谐振陀螺
多自由度转动机构
谐振子镀膜
q值仿真
残余应力
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职称材料
题名
半球谐振子镀膜残余应力对品质因数影响特性分析
被引量：
2
1
作者
楚建宁
朱蓓蓓
秦琳
刘青
兰洁
陈肖
许剑锋
机构
华中科技大学机械科学与工程学院
上海航天控制技术研究所
出处
《飞控与探测》
2021年第1期52-59,共8页
基金
装发部十三五共用技术预研项目(2017-2020)。
文摘
针对半球谐振子表面金属薄膜残余应力分布情况,对半球谐振子Q值的影响特性进行了仿真。根据仿真结果,采用多自由度磁控溅射及基底均匀加热的方法进行了薄膜沉积工艺试验。控制多自由度旋转机构自转、公转、摆动参数分别为7r/min、12r/min和15 (°)/s,将基体均匀加热至120℃,在时长为26min的溅射之后得到了厚度为100nm左右的膜层。在真空状态下对半球谐振子镀膜后的品质因数进行了检测,结果表明可有效控制镀膜后的Q值衰减不超过30%。
关键词
半球谐振陀螺
多自由度转动机构
谐振子镀膜
q值仿真
残余应力
Keywords
hemispherical resonator gyroscopes
multi-DOF rotating mechanism
coating of HRG
simulation of
q
factor
residual stress
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
TP391.9 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
半球谐振子镀膜残余应力对品质因数影响特性分析
楚建宁
朱蓓蓓
秦琳
刘青
兰洁
陈肖
许剑锋
《飞控与探测》
2021
2
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职称材料
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