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应变导引的SiO_(2)晶体折射率变化研究
1
作者
马婕
缪庆元
《光学与光电技术》
2021年第4期93-97,共5页
采用第一性原理方法,对SiO_(2)晶体带隙及折射率随应变的变化进行了研究,并进一步计算了不同应变时SiO_(2)的光弹性系数。结果表明,z轴方向的张应变增大时,SiO_(2)带隙减小;z轴方向的压应变增大时,SiO_(2)带隙先增大后减小,在压应变量...
采用第一性原理方法,对SiO_(2)晶体带隙及折射率随应变的变化进行了研究,并进一步计算了不同应变时SiO_(2)的光弹性系数。结果表明,z轴方向的张应变增大时,SiO_(2)带隙减小;z轴方向的压应变增大时,SiO_(2)带隙先增大后减小,在压应变量为2%时取得极大值。从张应变过渡到压应变的过程中,折射率逐渐增大。光弹性系数各分量随应变量变化具有不同变化趋势。该研究结果有助于相关器件的优化设计。
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关键词
sio
_(
2
)
晶体
折射率
应变
带隙
非线性
光弹性系数
原文传递
题名
应变导引的SiO_(2)晶体折射率变化研究
1
作者
马婕
缪庆元
机构
武汉大学电子信息学院
出处
《光学与光电技术》
2021年第4期93-97,共5页
基金
国家自然科学基金(60877039)资助项目。
文摘
采用第一性原理方法,对SiO_(2)晶体带隙及折射率随应变的变化进行了研究,并进一步计算了不同应变时SiO_(2)的光弹性系数。结果表明,z轴方向的张应变增大时,SiO_(2)带隙减小;z轴方向的压应变增大时,SiO_(2)带隙先增大后减小,在压应变量为2%时取得极大值。从张应变过渡到压应变的过程中,折射率逐渐增大。光弹性系数各分量随应变量变化具有不同变化趋势。该研究结果有助于相关器件的优化设计。
关键词
sio
_(
2
)
晶体
折射率
应变
带隙
非线性
光弹性系数
Keywords
sio
_(
2
)
refractive index
strain
band gap
non-linear
photoelastic coefficient
分类号
O471 [理学—半导体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
应变导引的SiO_(2)晶体折射率变化研究
马婕
缪庆元
《光学与光电技术》
2021
0
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参考文献
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