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Recent advances in non-π-conjugated nonlinear optical sulfates with deep-UV absorption edge 被引量:1
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作者 Xu Chen Yanqiang Li +1 位作者 Junhua Luo Sangen Zhao 《Chinese Journal of Structural Chemistry》 SCIE CAS CSCD 2023年第3期56-63,共8页
Deep-ultraviolet(deep-UV)nonlinear optical(NLO)crystals are of current interest because they play an indis-pensable role in modern scientific equipment.Searching these crystals was traditionally limited toπ-conjugate... Deep-ultraviolet(deep-UV)nonlinear optical(NLO)crystals are of current interest because they play an indis-pensable role in modern scientific equipment.Searching these crystals was traditionally limited toπ-conjugated systems,such as borates and carbonates.In 2019,our group reported two non-π-conjugated sulfates as new sources of deep-UV NLO crystals for the first time.In this mini review,we provide a comprehensive overview of the recent development of non-π-conjugated NLO sulfates with deep-UV absorption edge in aspect of synthesis methods,crystal structures,thermal stability,and optical performance.Besides,we conclude the crucial structure-property relationships,and further give some prospects for exploring non-π-conjugated NLO sulfates with deep-UV absorption edge with high thermal stability,enhanced second-order NLO effects,birefringence,etc.We believe that this mini review will not only facilitate researchers to design superior non-π-conjugated NLO sulfates with deep-UV absorption edge but also shed useful insights on the explorations of other non-π-conjugated deep-UV NLO crystal systems. 展开更多
关键词 Crystal structures Structure-property relationships deep-uv NLO crystals Sulfates
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基于1D-CNN提取Cl2紫外吸收谱特征的浓度反演方法研究
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作者 贾彤华 程光旭 +3 位作者 杨嘉聪 陈昇 王海容 胡海军 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期3109-3119,共11页
开放环境下氯气泄漏的准确检测一直是氯碱生产企业亟待解决的难题,差分吸收光谱技术(DOAS)可以实现大气中的污染气体的痕量远距离测量,而氯气的紫外吸收光谱呈现“慢变化”的特征,无法用差分的方法分离吸收特征与噪声信号。提出了一种... 开放环境下氯气泄漏的准确检测一直是氯碱生产企业亟待解决的难题,差分吸收光谱技术(DOAS)可以实现大气中的污染气体的痕量远距离测量,而氯气的紫外吸收光谱呈现“慢变化”的特征,无法用差分的方法分离吸收特征与噪声信号。提出了一种基于一维卷积神经网络(1D-CNN)的氯气浓度反演算法来充分利用光谱信息,通过逐层提取氯气的吸收特征,解决了传统算法容易受噪声干扰导致反演精度下降的问题。与常用的最小二乘法(LS)、多层感知机(MLP)、支持向量机(SVR)和k近邻(KNN)方法相比,该算法的反演结果相比实测数据的准确度最高(R2=0.996,RMSE=4.40,MAE=2.64,SMAPE=8.51%)。由于系统中不可避免的随机噪声会对检测产生干扰,对比了S-G滤波、傅里叶变换、奇异值分解和小波变换分解算法的预处理效果。结果表明,S-G滤波和小波分解算法可以在去除噪声的同时保留氯气的吸收特征信息,进一步提高氯气浓度反演模型的性能。所提出的浓度反演算法为实现开放环境下氯气泄漏的远距离定量检测提供了新的可行方法。 展开更多
关键词 氯气泄漏 远程检测 差分吸收光谱技术 深度学习 一维卷积神经网络
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Designing a deep-UV nonlinear optical monofluorophosphate
3
作者 Qingran Ding Xingyu Zhang +6 位作者 Zheshuai Lin Zheyao Xiong Yusong Wang Xifa Long Sangen Zhao Maochun Hong Junhua Luo 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第9期1710-1714,共5页
As structural variants of famous hexagonal tungsten bronzes,hexagonal tungsten oxides(HTO)represent an important family with fascinating functional properties,such as piezoelectric,ferroelectric,pyroelectric,and nonli... As structural variants of famous hexagonal tungsten bronzes,hexagonal tungsten oxides(HTO)represent an important family with fascinating functional properties,such as piezoelectric,ferroelectric,pyroelectric,and nonlinear optical(NLO)properties.However,none of them are transparent in the deep-UV spectral region,which limits their applications.Herein,we report the first HTO-type monofluorophosphate K_(3)Sc_(3)(PO_(4))(PO_(3)F)_(2)F_(5)(I)with deep-UV transparency.Such a monofluorophosphate is NLO-active with a phase-matchable powder second harmonic generation efficiency of 0.9 times that of KH_(2)PO_(4)at 1,064 nm.Importantly,the UV-Vis reflectance spectrum indicates that it is deep-UV transparent down to 200 nm.This work pushes the transparent window of NLO materials with HTO-type structures down to the deep-UV spectral region for the first time and opens up a new door for HTO materials. 展开更多
关键词 MONOFLUOROPHOSPHATE hexagonal tungsten oxides deep-uv nonlinear optics CRYSTAL
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Deep-UV fluorescence lifetime imaging microscopy
4
作者 Christiaan J.de Jong Alireza Lajevardipour +6 位作者 Mindaugas Gecevicius Martynas Beresna Gediminas Gervinskas Peter G.Kazansky Yves Bellouard Andrew H.A.Clayton Saulius Juodkazis 《Photonics Research》 SCIE EI 2015年第5期283-288,共6页
A novel fluorescence lifetime imaging microscopy(FLIM) working with deep UV 240–280 nm wavelength excitations has been developed. UV-FLIM is used for measurement of defect-related fluorescence and its changes upon an... A novel fluorescence lifetime imaging microscopy(FLIM) working with deep UV 240–280 nm wavelength excitations has been developed. UV-FLIM is used for measurement of defect-related fluorescence and its changes upon annealing from femtosecond laser-induced modifications in fused silica. This FLIM technique can be used with microfluidic and biosamples to characterize temporal characteristics of fluorescence upon UV excitation, a capability easily added to a standard microscope-based FLIM. UV-FLIM was tested to show annealing of the defects induced by silica structuring with ultrashort laser pulses. Frequency-domain fluorescence measurements were converted into the time domain to extract long fluorescence lifetimes from defects in silica. 展开更多
关键词 UV deep-uv fluorescence lifetime imaging microscopy
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光刻胶材料的研究进展 被引量:2
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作者 刘巧云 祁秀秀 +2 位作者 杨怡 朱翔宇 周勇 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第3期378-384,共7页
简单介绍了光刻胶的组成部分,综述了近年来国内外光刻胶成膜树脂合成、开发的研究进展,并根据不同曝光波长所需的不同光刻胶(包括紫外(UV)光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶等)进行了介绍。重点介绍了各光源下分子量和分子量分散指数... 简单介绍了光刻胶的组成部分,综述了近年来国内外光刻胶成膜树脂合成、开发的研究进展,并根据不同曝光波长所需的不同光刻胶(包括紫外(UV)光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶等)进行了介绍。重点介绍了各光源下分子量和分子量分散指数对光致抗蚀剂的影响,并对国内外研究中通过不同聚合工艺制备的不同分子量光致抗蚀剂性能进行了评述,总结了近年来含有特定化学结构的光致抗蚀剂以及其制备工艺的研究进展。最后对国内外光刻胶的发展和应用进行了展望,指出进一步提高光刻胶的分辨率、改善其综合性能是今后的研究重点。 展开更多
关键词 紫外(UV)光刻胶 深紫外光刻胶 极紫外光刻胶 成膜树脂 分辨率
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一种基于金阴极MCP的冷阴极电子源的研制 被引量:1
6
作者 姚文静 刘术林 +4 位作者 闫保军 张斌婷 韦雯露 彭华兴 杨玉真 《质谱学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第1期96-104,共9页
采用深紫外光子激发金阴极产生的冷阴极电子源具有诸多优点,将其应用于电子轰击离子源(EI)有助于获得高质量的离子源。本实验分别采用在JGS2石英玻璃上蒸镀金薄膜构成透射式金阴极、在微通道板(MCP)输入面蒸镀金薄膜构成反射式金阴极,... 采用深紫外光子激发金阴极产生的冷阴极电子源具有诸多优点,将其应用于电子轰击离子源(EI)有助于获得高质量的离子源。本实验分别采用在JGS2石英玻璃上蒸镀金薄膜构成透射式金阴极、在微通道板(MCP)输入面蒸镀金薄膜构成反射式金阴极,将二者以不同的组合方式装配在一起,通过施加不同的间隙电压,从而获得较大范围的电子流输出,研制出电子束流可调(10^(-11)~10^(-5) A)、均匀分布(非均匀度6.5%)的稳定输出(稳定工作时间大于5 h)电子源,有望在高质量EI源中得到推广和应用。 展开更多
关键词 电子源 深紫外 金阴极 微通道板(MCP) 电子束流
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A Systematic Study of the Forbidden Pitch in the CD Through-Pitch Curve for Beyond 130nm
7
作者 赵宇航 朱骏 曹永峰 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期889-892,共4页
The forbidden pitch "dip" in the critical dimension (CD) through the pitch curve is a well-known optical proximity effect. The CD and CD process window near the "dip",usually found near a pitch range of 1.1 to 1... The forbidden pitch "dip" in the critical dimension (CD) through the pitch curve is a well-known optical proximity effect. The CD and CD process window near the "dip",usually found near a pitch range of 1.1 to 1.4 wavelength/ NA (numerical aperture),is smaller when compared with other pitches. This is caused by inadequate imaging contrast for an unequal line and space grating. Although this effect is relatively well-known, its relationship with typical process condition parameters,such as the effective image blur caused by the photo-acid diffusion during the post exposure bake or the aberration in the imaging lens, has not been systematically studied. In this paper, we will examine the correlation between the image blur and the effect on the CD, including the decrease in the CD value (the depth of the "dip") and the CD process window. We find that both the decrease in the CD value and the focus latitude near the forbidden pitch correlate very well with the effective Gaussian image blur. Longer effective diffusion length correlates well with a smaller process window and a deeper CD "dip". We conclude that the dip depth is very sensitive to the change in image contrast. 展开更多
关键词 forbidden pitch effective resist diffusion length OPC OAI deep-uv
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高Al组分AlGaN多量子阱结构材料发光机制探讨 被引量:4
8
作者 李金钗 季桂林 +5 位作者 杨伟煌 金鹏 陈航洋 林伟 李书平 康俊勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期513-518,共6页
紫外LED的发光功率和效率还远不能令人们满意,波长短于300 nm的深紫外LED的发光效率普遍较低。厘清高Al组分Al Ga N多量子阱结构的发光机制将有利于探索改善深紫外LED的发光效率的新途径、新方法。为此,本文通过金属有机气相外延技术外... 紫外LED的发光功率和效率还远不能令人们满意,波长短于300 nm的深紫外LED的发光效率普遍较低。厘清高Al组分Al Ga N多量子阱结构的发光机制将有利于探索改善深紫外LED的发光效率的新途径、新方法。为此,本文通过金属有机气相外延技术外延生长了表面平整、界面清晰可辨且陡峭的高Al组分AlGa N多量子阱结构材料,并对其进行变温光致发光谱测试,结合数值计算,深入探讨了Al Ga N量子阱的发光机制。研究表明,量子阱中具有很强的局域化效应,其发光和局域激子的跳跃息息相关,而发光的猝灭则与局域激子的解局域以及位错引起的非辐射复合有关。 展开更多
关键词 ALGAN 多量子阱结构 深紫外LED 发光机制
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248nm深紫外光刻胶 被引量:9
9
作者 郑金红 黄志齐 侯宏森 《感光科学与光化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期346-356,共11页
本文从化学增幅技术的产生,深紫外248nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248nm胶的发展与进步.
关键词 化学增幅 KRF激光 深紫外光刻 248 nm光刻胶 主体树脂 酸催化 光致产酸剂
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离子束溅射、热舟和电子束法制备深紫外LaF_3薄膜 被引量:3
10
作者 时光 梅林 +2 位作者 高劲松 张立超 张玲花 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期592-595,共4页
为了满足深紫外光刻物镜对薄膜的要求,得到低损耗、高稳定性、长寿命的深紫外薄膜,需要选用适当的镀膜工艺方法。分别选取了离子束溅射法、热舟蒸发法和电子束蒸发法优化后的最佳工艺参量,在融石英基底上使用3种方法镀制了单层LaF3薄膜... 为了满足深紫外光刻物镜对薄膜的要求,得到低损耗、高稳定性、长寿命的深紫外薄膜,需要选用适当的镀膜工艺方法。分别选取了离子束溅射法、热舟蒸发法和电子束蒸发法优化后的最佳工艺参量,在融石英基底上使用3种方法镀制了单层LaF3薄膜。首先,利用光度法得出3种方法镀制LaF3薄膜在185nm~800nm范围内的折射率n和消光系数k。然后,采用原子力显微镜对薄膜表面粗糙度进行了测量。最后,薄膜的微结构使用X射线衍射仪进行了分析。结果表明,离子束溅射镀制的LaF3薄膜折射率最高、表面粗糙度最低,但吸收较大;电子束蒸发法虽然吸收最小,但是折射率偏低且表面粗糙度较高;热舟蒸发法镀制的LaF3薄膜无论折射率、消光系数还是表面粗糙度都处于3种方法中间位置。综合各项指标,热舟蒸发法最适合于沉积深紫外LaF3薄膜。 展开更多
关键词 薄膜 LAF3 热蒸发 离子束溅射 深紫外
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聚羟基苯乙烯在光致抗蚀剂中的应用及其合成 被引量:6
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作者 刘建国 郑家燊 李平 《感光科学与光化学》 EI CAS CSCD 2006年第1期67-74,共8页
主要综述了聚羟基苯乙烯用作深紫外光致抗蚀剂主体成膜树脂的发展历程、应用现状以及一些最新的研究进展,并简要介绍了聚羟基苯乙烯的单体衍生物及其聚合物的制备方法.
关键词 聚羟基苯乙烯 深紫外光致抗蚀剂 主体成膜树脂
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深紫外非线性光学晶体及全固态深紫外相干光源研究进展 被引量:8
12
作者 王晓洋 刘丽娟 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第3期427-441,共15页
全固态深紫外相干光源在前沿科学、高技术等领域均有重要应用。产生全固态深紫外相干光源的一种有效而可行的技术途径是将商业化的可见、近红外全固态激光作为基频光源,通过非线性光学晶体的多级变频技术产生深紫外激光。本文系统地介... 全固态深紫外相干光源在前沿科学、高技术等领域均有重要应用。产生全固态深紫外相干光源的一种有效而可行的技术途径是将商业化的可见、近红外全固态激光作为基频光源,通过非线性光学晶体的多级变频技术产生深紫外激光。本文系统地介绍了深紫外非线性光学晶体及全固态深紫外相干光源的研究进展。主要以KBBF晶体为代表,详细介绍了发现KBBF晶体的过程,晶体生长技术,棱镜耦合器件技术,KBBF晶体的主要光学性质以及产生深紫外相干光源的能力,同时证实了KBBF晶体是目前能使用直接倍频方法实现深紫外激光输出的非线性光学晶体。此外,文中还详细介绍了基于KBBF晶体及棱镜耦合技术的深紫外相干光源的应用情况,尤其是在超高分辨率光电子能谱仪方面的应用及取得的重要成果。最后,展望了深紫外非线性光学晶体及全固态深紫外激光技术的发展方向。 展开更多
关键词 深紫外非线性光学晶体 深紫外激光 KBBF 晶体生长
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新型深紫外非线性光学晶体RbBe_2BO_3F_2的研究 被引量:5
13
作者 罗思扬 余金秋 +2 位作者 王晓洋 温小红 陈创天 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第B06期28-30,共3页
采用固相合成法制备了纯相RbBe2BO3F2(RBBF)粉末,并采用高温助熔剂自发成核生长出大块高质量RBBF单晶。利用X光单晶衍射法确定RBBF的空间群是R32;晶胞参数a=b=0.44341(9)nm,c=1.9758(5)nm,Z=3。其紫外截止边是160nm,双折射率约为0.075。
关键词 RbBe2BO3F2 非线性光学晶体 深紫外激光
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KBBF深紫外非线性光学晶体最新研究进展 被引量:2
14
作者 王晓洋 刘丽娟 李如康 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2019年第10期1790-1798,共9页
本文系统介绍了我国KBBF深紫外非线性光学晶体的最新研究进展。包括从KBBF晶体的发现历程,KBBF晶体生长、棱镜耦合器件技术的发展,以及产生深紫外相干光源的能力,到这些深紫外相干光源的应用,尤其在超高分辨率光电子能谱仪方面的应用及... 本文系统介绍了我国KBBF深紫外非线性光学晶体的最新研究进展。包括从KBBF晶体的发现历程,KBBF晶体生长、棱镜耦合器件技术的发展,以及产生深紫外相干光源的能力,到这些深紫外相干光源的应用,尤其在超高分辨率光电子能谱仪方面的应用及最新研究成果。 展开更多
关键词 KBBF 深紫外非线性光学晶体 深紫外激光 晶体生长
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新型深紫外非线性光学晶体KBe_2BO_3F_2族的研究进展 被引量:6
15
作者 刘丽娟 陈创天 《中国材料进展》 CAS CSCD 2010年第10期16-20,共5页
深紫外非线性光学晶体KBe2BO3F2(KBBF)发展至今,已有将近20年的历史。首先简单回顾了KBBF化合物的发现、晶体生长以及基本光学性质,同时对KBBF族(MBe2BO3F2,M=K,Rb,Cs)的其它化合物如:RbBe2BO3F2和CsBe2BO3F2的晶体生长和其基本光学性... 深紫外非线性光学晶体KBe2BO3F2(KBBF)发展至今,已有将近20年的历史。首先简单回顾了KBBF化合物的发现、晶体生长以及基本光学性质,同时对KBBF族(MBe2BO3F2,M=K,Rb,Cs)的其它化合物如:RbBe2BO3F2和CsBe2BO3F2的晶体生长和其基本光学性质进行了报道,然后对这些新晶体产生深紫外谐波光输出的能力做了评估,最后介绍了利用KBBF晶体器件产生的深紫外相干光源在先进仪器等方面的应用。 展开更多
关键词 非线性光学晶体 晶体生长 深紫外激光
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紫外、深紫外非线性光学晶体探索十年回顾 被引量:17
16
作者 陈创天 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期36-42,共7页
本文讨论了近 10年来我们研究组在探索紫外、深紫外非线性光学晶体方面的经历。这些经历中有成功的一面 ,也有不成功的一面。成功的一面包括KBBF晶体的发现及最短倍频波的输出( 184 .7nm) ,以及最近使用的一种特殊的器件设计 ,使KBBF晶... 本文讨论了近 10年来我们研究组在探索紫外、深紫外非线性光学晶体方面的经历。这些经历中有成功的一面 ,也有不成功的一面。成功的一面包括KBBF晶体的发现及最短倍频波的输出( 184 .7nm) ,以及最近使用的一种特殊的器件设计 ,使KBBF晶体能够产生有效的深紫外谐波光输出 ;KABO晶体的发现及厘米级晶体的获得 ,有可能使此晶体在Nd∶YAG激光的 4、5倍频器件中得到应用。而我们没有想到的是线性和非线性光学性能均很优秀的SBBO晶体 ,却发现结构的完整性有问题 ,目前还不能得到实际的应用 ,在今后仍需花很大的精力去研究它。最后 ,我们虽然已花了 10年时间 ,但深紫外非线性光学晶体仍旧没有得到理想的解决 ,还需我们继续努力。由此可见 ,一个科学问题的认真解决 ,是需要花非常长的时间。本文希望把我们研究组的近 10年来的经验写出来 ,供大家参考 ,以求共勉。 展开更多
关键词 非线性光学晶体 紫外 深紫外 结构性能关系 KBBF KABO
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SU-8紫外深度光刻的误差及修正(英文) 被引量:4
17
作者 郑津津 陈有梅 +4 位作者 周洪军 田杨超 刘刚 李晓光 沈连婠 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期1926-1931,共6页
在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易。本文深入研究... 在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易。本文深入研究了影响紫外深度光刻图形转移精度的如下因素:衍射效应、曝光剂量、紫外光波长和蝇眼透镜的分布等等。建立了基于模型区域的校正系统,该校正系统采用了分类分区域的思想将掩模图形按其畸变的特点进行了分类,在校正过程中对不同的类别分别建立校正区域,在每一校正区域内进行校正优化处理和校正评价,这种基于模型的分类分区域评价思想,使得校正过程有效且实时,该校正方法不仅降低了校正的复杂性,同时提高了校正的效率。 展开更多
关键词 SU-8光刻胶 紫外深度光刻 掩模 图形转移 误差修正
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SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟 被引量:1
18
作者 冯明 黄庆安 +2 位作者 李伟华 周再发 朱真 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第05A期1470-1472,1476,共4页
本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以... 本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以近似作为光刻胶形貌的最后近似. 展开更多
关键词 菲涅尔衍射 深紫外光强度分布 SU-8胶
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一种高透过率,深截止的UVc波段(200~280nm)有机材料的研究(Ⅰ) 被引量:1
19
作者 吕文波 许强 +5 位作者 杜为民 吴思诚 叶学敏 赵太平 孟广政 宋增福 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期209-212,共4页
本文阐述了一种专用有机材料(粉末)在不同酸性溶液中的光谱特征,研究表明,这种材料在λ=252 nm处,透过率T=56.5%,带宽约为16nm,而在λ=290nm处有一个很强的吸收峰(ε>10L·(mol·cm)^(-1)),吸光度A_(280~298nm)>8,即透... 本文阐述了一种专用有机材料(粉末)在不同酸性溶液中的光谱特征,研究表明,这种材料在λ=252 nm处,透过率T=56.5%,带宽约为16nm,而在λ=290nm处有一个很强的吸收峰(ε>10L·(mol·cm)^(-1)),吸光度A_(280~298nm)>8,即透过率T_(280~298nm)<10^(-8)。这种有机材料在UVc波段(200~280nm)具有高透过率,深截止的明显特点。实验中还发现,通过调节溶剂的pH值和选取不同极性的溶剂,原来的两个吸收峰消失,而在λ=290nm处出现一个新的强吸收峰,并且透过峰可以在251~260nm范围内移位。利用材料的这种特征,再配合传统的镀膜和色玻璃技术,有可能制备出性能优良的紫外滤光片。 展开更多
关键词 有机材料 质子化 光谱特征 酸性溶液 紫外滤光片 紫外材料
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高级氧化法对城市污水深度处理过程中的影响因素 被引量:2
20
作者 孙贤波 陈琳玲 +2 位作者 徐美燕 侯惠奇 赵庆祥 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期51-53,61,共4页
本文考察了UV/O3法对城市污水深度处理过程中的主要影响因素。结果表明有机污泥对COD去除率基本没有影响,但无机悬浮物Si O2对COD去除率影响较大,投加70mg/L的Si O2后COD氧化速率和去除率有较明显下降。UV/O3法处理城市污水生化处理水时... 本文考察了UV/O3法对城市污水深度处理过程中的主要影响因素。结果表明有机污泥对COD去除率基本没有影响,但无机悬浮物Si O2对COD去除率影响较大,投加70mg/L的Si O2后COD氧化速率和去除率有较明显下降。UV/O3法处理城市污水生化处理水时,在pH=6~9范围内,COD去除率随pH值的升高而降低,说明较低pH值(pH=5)有利于COD的去除。随溶液碱度的增加,COD的去除率下降,碱度越高对COD去除的影响也越明显。SS、pH和碱度对UV260去除的影响均小于对COD去除的影响。 展开更多
关键词 城市污水 UV/O3 深度处理 影响因素
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