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Synthesis of Flower-Like Bi2Te3 Nano Structure and Studying Its Structural and Thermo-electric Properties
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作者 Emad Kh. Al-shakarchi Manal A. Abbood Ali M. Moussa 《Journal of Physical Science and Application》 2016年第1期76-81,共6页
Flower-like Bi2Te3 nanostructures were successfully synthesised for the first time by a simple magnetron technique or D.C. sputtering method. The phase and morphology of the products were characterized by X-ray diffra... Flower-like Bi2Te3 nanostructures were successfully synthesised for the first time by a simple magnetron technique or D.C. sputtering method. The phase and morphology of the products were characterized by X-ray diffraction (XRD), manning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM). It was found that the as-deposited Bi2Te3 has a well re-crystallized Rhombohedral phase and consisted of a wealth of flower-like structure, also the thermo-electric properties of Bi2Te3 were examined and we find that the Seebeck coefficient is 136.6μ volt/K. 展开更多
关键词 Flower-like Bi2Te3 d.c. sputtering thin film.
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直流溅射法制备电致变色WO_3膜 被引量:6
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作者 丘思畴 黄汉尧 +1 位作者 舒兴胜 徐彦忠 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第2期127-135,共9页
采用WO3陶瓷靶直流溅射制作了电致变色膜.介绍了制膜工艺.分析测试表明,膜有无定形结构;除有正常成分WO3外,还含有来自衬底及反应室内的微量杂质.电致变色谱响应特性和电化学特性的测量证明,膜的电色活性良好.还对实验结... 采用WO3陶瓷靶直流溅射制作了电致变色膜.介绍了制膜工艺.分析测试表明,膜有无定形结构;除有正常成分WO3外,还含有来自衬底及反应室内的微量杂质.电致变色谱响应特性和电化学特性的测量证明,膜的电色活性良好.还对实验结果作了理论分析. 展开更多
关键词 电致变色 直流溅射 氧化钨 薄膜
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WO_(3)/PEDOT双层复合空心纳米球阵列的设计生长与电致变色/储能双功能特性
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作者 史英迪 马凯 +6 位作者 范梦祥 王丽荣 汤凯 柯香 刘太康 廖钊莹 董迎春 《复合材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期3060-3069,共10页
本文采用模板辅助磁控溅射和电化学沉积技术,构建了WO_(3)/聚(3,4-乙烯二氧噻吩)(PEDOT)双层复合空心纳米球阵列。独特的空心纳米阵列结构可以提供与电解液较大的接触面积,有利于电极与电解液之间的离子传输,所制备的WO3层属于对小离子... 本文采用模板辅助磁控溅射和电化学沉积技术,构建了WO_(3)/聚(3,4-乙烯二氧噻吩)(PEDOT)双层复合空心纳米球阵列。独特的空心纳米阵列结构可以提供与电解液较大的接触面积,有利于电极与电解液之间的离子传输,所制备的WO3层属于对小离子具有大容量的非晶相,提供了大量的离子结合位点,PEDOT层则形成了一个独特的导电网络,可以有效地促进电子传递并连接原本分离的色心。所制备的空心纳米球复合薄膜在可见光波段具有较高光学调制能力(633 nm处77.4%),较快的响应速度(着色3.2 s,褪色4.2 s),良好的循环稳定性(2000次循环后失去14.5%的光调制幅度),在低电位下-1.0/1.0 V下具有良好的着色效率(116.2 cm^(2)·C^(-1)),所获得的有机无机复合材料还具有较高的面电容(54.6 mF/cm^(2))、出色的倍率性能和循环稳定性(经历2000次循环后的面积电容仍保持为原来的79.6%)。 展开更多
关键词 WO_(3) 聚(3 4乙烯二氧噻吩) 纳米结构 磁控溅射 电沉积 电致变色 能量存储
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退火处理对离子束溅射WO_(3-x)薄膜结构和特性的影响 被引量:3
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作者 苏江滨 王智伟 +3 位作者 祁昊 潘鹏 朱贤方 蒋美萍 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2021年第1期65-71,共7页
利用离子束溅射结合后退火处理的方法制备了WO_(3-x)(0≤x≤1)薄膜,系统研究了不同退火气氛、退火温度和退火时间等条件对WO_(3-x)薄膜的晶体结构以及电学、光学和电致变色特性的影响。研究发现,当退火温度超过WO3结晶温度后,特别是在... 利用离子束溅射结合后退火处理的方法制备了WO_(3-x)(0≤x≤1)薄膜,系统研究了不同退火气氛、退火温度和退火时间等条件对WO_(3-x)薄膜的晶体结构以及电学、光学和电致变色特性的影响。研究发现,当退火温度超过WO3结晶温度后,特别是在湿氧气氛下,退火温度越高、退火时间越长,WO_(3-x)薄膜的结晶度越好,除WO3主晶相显著增强以外,还会陆续出现O29W10、O49W18和WO_(2)等缺氧相;在干氧条件下,更高的退火温度和更长的退火时间都有助于降低WO_(3-x)薄膜的电阻值,也都有助于WO_(3-x)薄膜可见光透过率的提升;WO_(3-x)薄膜电致变色器件在632.8 nm波长处的光学调制值达到了70%左右,表现出良好的电致变色特性。 展开更多
关键词 氧化钨(WO_(3-x))薄膜 电致变色器件 离子束溅射 光学调制 可见光透过率
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不同溶液中浸泡处理对WO_(3)薄膜的影响
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作者 祁昊 朱秀梅 +2 位作者 苏江滨 何祖明 蒋美萍 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2022年第5期480-488,共9页
WO_(3)是一种重要的电致变色材料,可应用于屏幕显示、航天热控及智能窗等诸多领域。然而在实际应用中,WO_(3)的稳定性不足,这极大地制约了其进一步发展。利用磁控溅射法制备了非晶WO_(3)薄膜,系统研究了在去离子水、盐酸、氢氧化钠、丙... WO_(3)是一种重要的电致变色材料,可应用于屏幕显示、航天热控及智能窗等诸多领域。然而在实际应用中,WO_(3)的稳定性不足,这极大地制约了其进一步发展。利用磁控溅射法制备了非晶WO_(3)薄膜,系统研究了在去离子水、盐酸、氢氧化钠、丙酮和乙醇等不同溶液中浸泡处理对WO_(3)薄膜的表面形貌、微观结构、光学性质和电致变色特性的影响。研究结果表明,在去离子水、丙酮和乙醇中浸泡后,WO_(3)薄膜有少量溶解,表面形貌无明显变化,微观结构仍然是非晶的;在盐酸中浸泡后,WO_(3)薄膜从氧化铟锡(ITO)衬底上脱落,样品被破坏;在氢氧化钠溶液中浸泡后,WO_(3)与之反应生成晶态Na_(2)WO_(4)。在上述五种溶液中浸泡后,样品的可见光透过率都有所提升,样品的禁带宽度都变宽了。在去离子水、氢氧化钠、丙酮和乙醇溶液中浸泡后,样品的可见光透过率范围为79%~85%,其中WO_(3)的禁带宽度范围为3.22~3.40 eV,在盐酸溶液中浸泡后的样品只剩下衬底ITO,其禁带宽度为3.76 eV。在丙酮、乙醇和氢氧化钠溶液中浸泡后,样品的光学调制均显著,尤其是在乙醇中浸泡后的WO_(3)薄膜以及在氢氧化钠溶液中浸泡后得到的Na_(2)WO_(4)薄膜,它们在676.2 nm波长处的着色态与褪色态的透过率之差均为85%,显示出良好的电致变色特性。 展开更多
关键词 WO_(3)薄膜 稳定性 液体环境 电致变色 磁控溅射
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中频磁控溅射制备氧化钨薄膜及电致变色性能研究 被引量:1
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作者 魏梦瑶 王辉 +5 位作者 韩文芳 王红莉 苏一凡 唐春梅 代明江 石倩 《真空》 CAS 2021年第5期50-56,共7页
采用中频磁控溅射方法,在氧化铟(ITO)玻璃上采用氧化钨(WO_(3))陶瓷靶沉积薄膜,研究溅射气压对WO_(3)薄膜结构与光学性能的影响规律,并对其电致变色行为进行了探讨。采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了WO_(3)薄膜的成分结... 采用中频磁控溅射方法,在氧化铟(ITO)玻璃上采用氧化钨(WO_(3))陶瓷靶沉积薄膜,研究溅射气压对WO_(3)薄膜结构与光学性能的影响规律,并对其电致变色行为进行了探讨。采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了WO_(3)薄膜的成分结构和表面形貌,紫外可见分光光度计和电化学工作站对薄膜的光调制性能、电致变色伏安特性、以及循环寿命性能进行了研究,并利用X射线光电子能谱(XPS)对WO_(3)薄膜在着色、褪色状态下进行了化学成分及氧化状态分析。结果表明:随着溅射气压的增大,WO_(3)薄膜的形貌结构变得疏松、粗糙,更有利于Li+的注入与脱出,响应速度变快、调制幅度增大、电致变色性能优异,但循环寿命性能有所降低。当溅射气压为4Pa时WO_(3)薄膜的电致变色综合性能最好,在550nm处的调制幅度可达81.0%,着色、褪色响应时间分别为7.8s、5.85s,且在1500次循环后,仍保持较高的电致变色性能。 展开更多
关键词 WO_(3)薄膜 中频磁控溅射 电致变色 溅射气压 循环寿命
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极薄钨单质种子层制备形貌疏松的三氧化钨薄膜的电致变色性能研究 被引量:1
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作者 高嘉豪 陈浩霖 +4 位作者 黎泽锐 李华 张泽辉 温启峰 唐秀凤 《五邑大学学报(自然科学版)》 CAS 2022年第1期14-20,共7页
氧化钨薄膜(WO_(3))具有出色的电致变色性能,但是目前物理法制得的WO_(3)薄膜形貌往往比较致密,从而影响其变色性能和循环寿命.本文采用磁控溅射方法,首先在ITO透明导电基底上制备一层极薄的钨(W)单质薄膜,之后在W薄膜上方制备WO_(3)薄... 氧化钨薄膜(WO_(3))具有出色的电致变色性能,但是目前物理法制得的WO_(3)薄膜形貌往往比较致密,从而影响其变色性能和循环寿命.本文采用磁控溅射方法,首先在ITO透明导电基底上制备一层极薄的钨(W)单质薄膜,之后在W薄膜上方制备WO_(3)薄膜,通过调控W单质薄膜的疏松形貌对WO_(3)薄膜形貌进行调控以提高其电致变色性能.为了保证薄膜在透明态时具有较高的透过率,钨单质薄膜的厚度选择1 nm,WO_(3)薄膜的厚度选择350 nm,得到WO_(3)/W复合薄膜,通过与单一WO_(3)薄膜对比,探索极薄单质W薄膜对WO_(3)薄膜形貌、晶体结构及电致变色性能的影响.结果表明,WO_(3)/W复合薄膜表现出更短的着色响应时间(23.5 s);且着色断电48 h后,其透射率在550 nm处仅增加了18%,表现出更好的记忆效应.极薄W单质薄膜的引入实现了对WO_(3)薄膜的形貌调控,提高了其部分电致变色性能. 展开更多
关键词 WO_(3)/W复合薄膜 磁控溅射 形貌调控 电致变色
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纳米柱状多孔WO_(3-x)/TiO_(2)薄膜的电致变色性能 被引量:2
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作者 王美涵 陈昀 +4 位作者 王冠杰 雷浩 孙立贤 徐芬 张钧 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第8期2732-2738,共7页
采用反应磁控溅射在掠射角度α=0°和α=80°的条件下制备氧化钨(WO_(3-x))薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛(TiO_(2))。利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)对WO_(3-x)/TiO_(2)薄膜的晶体结... 采用反应磁控溅射在掠射角度α=0°和α=80°的条件下制备氧化钨(WO_(3-x))薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛(TiO_(2))。利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)对WO_(3-x)/TiO_(2)薄膜的晶体结构、表面/断面形貌以及表面化学成分进行表征。在三电极体系1 mol/L LiClO_(4)/PC溶液中,采用电化学工作站和紫外-可见分光光度计测试了WO_(3-x)/TiO_(2)薄膜的电致变色性能。XRD结果表明,WO_(3-x)/TiO_(2)薄膜为非晶态结构,与掠射角度无关。当掠射角度为80°时,获得了纳米柱状多孔薄膜。从W 4f和Ti 2p的XPS谱图确认氧化钨为亚化学计量比的WO_(3-x),而氧化钛为满足化学计量比的TiO_(2)。与致密薄膜相比,纳米柱状多孔薄膜需要较低的驱动电压且具有较快的响应速度。纳米柱状多孔薄膜的电荷容量为83.78 mC,是致密薄膜电荷容量30.83 mC的2倍以上。在±1.2 V驱动电压下,注入和脱出离子扩散速率分别为D_(in)=5.69×10^(-10)cm^(2)/s和D_(de)=5.08×10^(-10)cm^(2)/s。与纯WO_(3)薄膜相比,WO_(3-x)/TiO_(2)薄膜的电致变色循环稳定性更好。纳米柱状多孔薄膜在可见光范围内具有较大的光调制幅度,因此其光密度变化(ΔOD)大于致密薄膜。 展开更多
关键词 WO_(3-x)/TiO_(2)薄膜 纳米柱状 掠射角 磁控溅射 电致变色性能
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ITO/PET衬底上掠射角溅射沉积WO_(3)薄膜及其电致变色性能 被引量:2
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作者 王冠杰 王美涵 +4 位作者 文哲 魏丽颖 雷浩 孙立贤 徐芬 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第4期1448-1454,共7页
采用直流磁控反应溅射法,以不同掠射角度在ITO/PET衬底上沉积WO_(3)薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和能谱仪(EDS)对WO_(3)薄膜表面和断面的形貌及化学组成进行表征;利用电化学工作站和紫外分光光度计对WO_(3)薄膜的电化学性能... 采用直流磁控反应溅射法,以不同掠射角度在ITO/PET衬底上沉积WO_(3)薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和能谱仪(EDS)对WO_(3)薄膜表面和断面的形貌及化学组成进行表征;利用电化学工作站和紫外分光光度计对WO_(3)薄膜的电化学性能和光学性能进行分析。结果表明,当掠射角α>60°时,薄膜表面形成类似于山峰状形貌,断面为纳米斜柱状结构,该结构有利于离子和电子的迁移。当掠射角α=80°时,沉积的WO_(3)薄膜具有最快离子扩散速率和最大光调制幅度,着色效率达到27.05 cm^(2)/C。同时,薄膜还表现出快速响应和良好循环稳定性。 展开更多
关键词 WO_(3)薄膜 ITO/PET衬底 直流磁控反应溅射 掠射角 电致变色性能
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