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193nm准分子激光器激光整形微透镜阵列压缩模塑成型工艺参数研究
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作者 吴博琦 董连和 +2 位作者 孙艳军 冷雁冰 王丽 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期488-492,共5页
为了实现193 nm准分子激光器激光整形及均匀化,制作一种微透镜阵列光学元件。本文采用L_93~3多因子正交方法进行实验,获得3因子3水平下压缩模塑成型的微透镜阵列。通过Taylor Hobson轮廓仪测量微透镜阵列形状误差,并采用极差分析方法分... 为了实现193 nm准分子激光器激光整形及均匀化,制作一种微透镜阵列光学元件。本文采用L_93~3多因子正交方法进行实验,获得3因子3水平下压缩模塑成型的微透镜阵列。通过Taylor Hobson轮廓仪测量微透镜阵列形状误差,并采用极差分析方法分析模具温度、保压压力、冷却时间3种工艺参数对形状误差的影响程度,确定微透镜阵列光学元件的最优工艺参数组合。结果表明:当模具温度为230℃,保压压力为120 MPa,冷却时间为30 s时,微透镜的形状误差最好,值为0.5276μm,满足193 nm准分子激光器激光整形及均匀化对微透镜阵列形状误差小、精度高等要求。 展开更多
关键词 193 nm准分子激光器 整形激光 微透镜阵列 压缩模塑成型工艺 形状误差
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193 nm激光对MgF_(2)窗口材料的损伤特性研究
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作者 王玺 李欣 +4 位作者 赵楠翔 胡以华 李刚 邹路玮 周喻 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第5期1469-1476,共8页
随着光刻技术和低温硅退火等大能量、高功率紫外激光系统的发展,激光装置中窗口材料面临的紫外激光诱导损伤的问题越来越得到重视。MgF_(2)窗口是紫外波段难以替代的光学窗口材料,具有比CaF_(2)更优的紫外透光率、更低的折射率和更高的... 随着光刻技术和低温硅退火等大能量、高功率紫外激光系统的发展,激光装置中窗口材料面临的紫外激光诱导损伤的问题越来越得到重视。MgF_(2)窗口是紫外波段难以替代的光学窗口材料,具有比CaF_(2)更优的紫外透光率、更低的折射率和更高的硬度等优点,因而在高功率紫外激光器、深紫外探测器、光电探测和对抗领域具有重要的应用。研究激光对MgF_(2)窗口材料的损伤机制对推动其在光学领域的应用至关重要。本文通过扫描电镜分析MgF_(2)窗口材料在193 nm紫外激光(2.8 J/cm^(2))辐照下出现的裂纹和凹坑等损伤形貌,随着激光脉冲数和能量的增加,MgF_(2)窗口材料的后表面损伤程度呈指数级增加,窗口材料的后表面损伤程度比前表面更加严重。利用三维时域有限差分(3D-FDTD)方法对193 nm激光辐照MgF_(2)窗口材料内部的激光电场分布进行了计算。模拟发现无论缺陷在前表面还是后表面,电场强度的峰值都出现在后表面附近,后表面更容易被损伤,这与实验结果吻合;缺陷在激光辐照过程中会导致光场的局域调制,增强吸收,同时降低材料表面的机械强度。 展开更多
关键词 193 nm准分子激光器 MgF_(2)窗口 激光诱导损伤 三维时域有限差分法
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