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光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅲ)光CVD氮化硅薄膜应用于提高器件可靠性
1
作者 汪师俊 蔡琪玉 沈天慧 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1993年第9期1-3,共3页
采用光化学气相淀积(光CVD)氮化硅薄膜进行器件的表面钝化,使整个器件提高了可靠性.
关键词 光化学 气相淀积 可靠性 氮化硅
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光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——Ⅱ光化学气相淀积氮化硅膜的性质
2
作者 汪师俊 蔡琪玉 沈天慧 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1993年第3期45-48,共4页
采用红外吸收光谱(IR)、俄歇能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)及气相色谱等方法对光化学气相淀积(光CVD)氮化硅薄膜进行了分析.
关键词 硅膜 氮化硅薄膜 工艺 气相 光化学 X射线光电子能谱(XPS) AES 淀积 二次离子质谱 SIMS
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