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酰基氧化膦类光引发剂(TMO)的绿色合成及其对油墨深层固化的影响
1
作者 钟晓锋 吴进 汪瑾 《涂料工业》 CAS CSCD 北大核心 2023年第2期32-36,共5页
以二(对甲苯基)氧化膦和2,4,6-三甲基苯甲酰氯为原料合成了2,4,6-三甲基苯甲酰基-二甲苯基氧化膦(TMO),合成路线环保,产物纯度高、产率高。测试其光物理和化学性能,并将其应用于油墨体系,研究其光固化动力学,建立固化动力学模型,并与2,4... 以二(对甲苯基)氧化膦和2,4,6-三甲基苯甲酰氯为原料合成了2,4,6-三甲基苯甲酰基-二甲苯基氧化膦(TMO),合成路线环保,产物纯度高、产率高。测试其光物理和化学性能,并将其应用于油墨体系,研究其光固化动力学,建立固化动力学模型,并与2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(TPO)进行对比。结果表明:TMO的光吸收性能、光聚合活性、深层固化性能均优于TPO。1-羟基-环己基苯甲酮(184)与TMO复配使用可提高TMO的光敏性及深层固化特性。 展开更多
关键词 酰基氧化膦 光引发剂 固化深度 双键转化率 油墨
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电偶腐蚀对先进封装铜蚀刻工艺的影响
2
作者 高晓义 陈益钢 《电子与封装》 2023年第11期32-38,共7页
在先进封装的铜种子层湿法蚀刻工艺中,电镀铜镀层的蚀刻存在各向异性的现象。研究结果表明,在磷酸、双氧水的蚀刻液体系中,因电偶腐蚀造成的凸点电镀铜蚀刻量约为铜种子层蚀刻量的4.9倍。通过分析凸点上锡、镍镀层的能谱数据及蚀刻效果... 在先进封装的铜种子层湿法蚀刻工艺中,电镀铜镀层的蚀刻存在各向异性的现象。研究结果表明,在磷酸、双氧水的蚀刻液体系中,因电偶腐蚀造成的凸点电镀铜蚀刻量约为铜种子层蚀刻量的4.9倍。通过分析凸点上锡、镍镀层的能谱数据及蚀刻效果,发现该凸点结构中的锡、镍镀层表面存在钝化层,导致锡、镍镀层的蚀刻量远低于铜镀层。在加入不同添加剂的蚀刻液中,通过络合铜或破坏锡、镍镀层表面钝化层的方法,均能达到抑制凸点上铜镀层发生电偶腐蚀的效果。其中,复合型添加剂可以使凸点上铜镀层的横向蚀刻量降低约82%,并且添加剂无残留风险。 展开更多
关键词 种子层 先进封装 铜蚀刻 电偶腐蚀 凸点
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