期刊文献+
共找到399篇文章
< 1 2 20 >
每页显示 20 50 100
环氧树脂基复合材料低温物性测量技术及相关物性研究进展
1
作者 黄荣进 周正荣 +5 位作者 王永光 刘辉明 吴智雄 张恒成 张泓玮 李来风 《四川师范大学学报(自然科学版)》 2025年第3期312-326,F0002,共16页
超导磁体因其体积小、重量轻、磁场稳定和强度高等优点,在医疗、交通运输、工业生产及大型科学工程等领域中发挥了重要作用.在大型高场超导磁体中,绝缘系统作为关键组成部分,确保了磁体的稳定与安全运行.绝缘材料需要在强磁场和极低温... 超导磁体因其体积小、重量轻、磁场稳定和强度高等优点,在医疗、交通运输、工业生产及大型科学工程等领域中发挥了重要作用.在大型高场超导磁体中,绝缘系统作为关键组成部分,确保了磁体的稳定与安全运行.绝缘材料需要在强磁场和极低温等恶劣环境下工作,因此必须满足低温高强度、高韧性、电绝缘性及与导体热膨胀系数匹配等多项要求.环氧树脂因其优异的电绝缘性、耐腐蚀性以及易加工等,被广泛应用于低温超导磁体的绝缘系统,主要用于固定超导线圈、提供机械支撑和绝缘,因而对超导磁体的安全稳定运行至关重要.然而,环氧树脂在超导磁体运行中面临强磁场等极端环境时,往往表现出强度不足、韧性差和热导率低等缺点.因此,研发适合超导磁体特殊工作环境的高性能环氧树脂基复合材料显得尤为重要.主要探讨在低温环境下对环氧树脂及其复合材料的物理性能与测试方法,重点关注导热性能、电老化性能和力学性能3个方面,并总结当前研究的不足,为进一步研究环氧树脂及其复合材料在低温下的行为及相关测试技术提供新的参考. 展开更多
关键词 低温物性 复合材料 环氧树脂 测试技术
下载PDF
电子束曝光机图形发生器系统研究
2
作者 何远湘 苏鑫 +1 位作者 梁文彬 黄云 《装备制造技术》 2024年第9期175-178,共4页
电子束曝光机是半导体晶片的制造过程中制造掩膜片或自写硅片的非常重要的设备。电子束曝光机可以在非常小的区域内进行高精度的曝光,从而实现对芯片的精细图案及图形制作。它由电子源、电子光学系统、扫描系统、真空系统、恒温控制系... 电子束曝光机是半导体晶片的制造过程中制造掩膜片或自写硅片的非常重要的设备。电子束曝光机可以在非常小的区域内进行高精度的曝光,从而实现对芯片的精细图案及图形制作。它由电子源、电子光学系统、扫描系统、真空系统、恒温控制系统、电气控制系统、传送系统等部分组成。图形发生器是扫描系统的主要组成部分,是完成精细图形制作的关键部件。该文提出一套功能较为完备的新型电子束曝光机图形发生器的硬件设计方案。该方案采用创龙ZYNQ-7000、TMS320C6678数字信号处理器芯片作为核心单元,并由可编程逻辑器、标记检测控制电路、DAC转接电路、束闸控制电路、消像散器和对中电源、运动控制校正电路等曝光控制电路和构成。图形发生器产生电子束曝光机要曝光的各点X、Y坐标值,再将这些值经过高速度、高精度数模转换器(D/A)变换成对应的模拟量,驱动高精度偏转放大器以控制电子束沿X、Y方偏转,对承放在激光工作台上的掩模基片进行扫描曝光。同时,图形发生器根据不同的工作状态,还要驱动束闸部件,控制电子束接通或切断。数据处理能力强、速度快、接口方便等优势,克服了传统图形发生器单纯依靠软件完成、速度慢、精度低、工作不稳定的缺点。 展开更多
关键词 电子束曝光机 图形发生器 束闸、标记、DAC转接
下载PDF
基于倍福PLC的MOCVD设备控制系统设计研究
3
作者 熊峥 李明 +1 位作者 周立平 叶肖杰 《电子工业专用设备》 2025年第1期13-20,共8页
为实现MOCVD设备的稳定运行与控制,通过分析MOCVD设备的子系统组成、PLC硬件网络及控制系统,结合系统的安全性设计,研究了一套基于倍福PLC的MOCVD设备控制系统。通过实际运行,该套电气控制系统电气强弱分离,整体结构层次感强,易于维护,... 为实现MOCVD设备的稳定运行与控制,通过分析MOCVD设备的子系统组成、PLC硬件网络及控制系统,结合系统的安全性设计,研究了一套基于倍福PLC的MOCVD设备控制系统。通过实际运行,该套电气控制系统电气强弱分离,整体结构层次感强,易于维护,运行稳定可靠,安全等级高,可满足半导体工业生产要求。 展开更多
关键词 MOCVD设备 安全性设计 PLC控制系统
下载PDF
立式氧化炉控制系统研究与设计
4
作者 周水清 邬远航 +2 位作者 何永平 赵瓛 姬常晓 《中国设备工程》 2025年第8期141-143,共3页
为解决立式氧化炉控制系统控制精度不高、稳定性差、操作复杂等问题,本文研究和设计一种高效、稳定、可控性强的立式氧化炉控制系统。该控制系统旨在系统提高制造效率和产品质量,并通过实验验证该系统可行性和优越性。
关键词 立式氧化 控制系统 架构设计
下载PDF
钛合金纳米薄膜压力传感器非线性及灵敏度研究 被引量:2
5
作者 张龙赐 周国方 蓝镇立 《电子测量与仪器学报》 CSCD 北大核心 2024年第8期153-159,共7页
为了满足钛合金纳米薄膜压力传感器高精度测量要求,基于薄膜厚度、凸岛、电阻形状和排列位置对传感器非线性、灵敏度的影响分析,设计并优化了以钛合金薄膜为敏感元件的两种量程的压力传感器。结果表明,有无凸岛,传感器的最大应力均出现... 为了满足钛合金纳米薄膜压力传感器高精度测量要求,基于薄膜厚度、凸岛、电阻形状和排列位置对传感器非线性、灵敏度的影响分析,设计并优化了以钛合金薄膜为敏感元件的两种量程的压力传感器。结果表明,有无凸岛,传感器的最大应力均出现在膜片边缘处。增加凸岛后,最大应力降低,位置基本保持不变。增加凸岛或随着凸岛直径增大,非线性降低,灵敏度相应增加。理论上,为了保证传感器灵敏度不小于2.5 mV/V,2 MPa量程时,增加Φ2 mm凸岛后,非线性降低至0.05%,灵敏度约为2.67 mV/V。4 MPa量程时,增加Φ3 mm凸岛后,非线性降低至0.02%,灵敏度约为2.89 mV/V。制备了两种量程传感器并测试分析,2 MPa量程时,其灵敏度及非线性与理论值最大偏差分别为0.01 mV/V及0.01%。4 MPa量程时,其灵敏度及非线性与理论值最大偏差分别为0.16 mV/V及0.02%。本研究为钛合金纳米薄膜压力传感器关键参数设计提供重要依据。 展开更多
关键词 纳米薄膜 敏感元件 灵敏度 非线性
原文传递
薄膜氢气传感器改进型PID控温方法研究 被引量:1
6
作者 周蒙 罗鹏 +1 位作者 何迎辉 曾程 《自动化与仪表》 2024年第7期92-95,共4页
为满足航天、航空、船舶等领域对氢气高精度测量的需求,针对电阻式薄膜氢气传感器的响应时间和测量精度易受温度波动影响的问题,该文提出了一种改进型数字PID控温方法,缩短了传感器温度进入稳态的时间,降低了超调幅度,提高了温度控制精... 为满足航天、航空、船舶等领域对氢气高精度测量的需求,针对电阻式薄膜氢气传感器的响应时间和测量精度易受温度波动影响的问题,该文提出了一种改进型数字PID控温方法,缩短了传感器温度进入稳态的时间,降低了超调幅度,提高了温度控制精度。试验结果表明,采用传统PID算法氢气传感器的调节时间为68 s,控温精度为±0.25℃,采用改进型PID算法其调节时间缩短至35 s,控温精度为±0.1℃,使氢气传感器响应时间缩短,信噪比得到提升,具备工程应用价值。 展开更多
关键词 PID PWM 调节时间 控温精度 薄膜氢气传感器
下载PDF
红外器件钝化膜专用磁控溅射系统镀膜工艺研究 被引量:1
7
作者 刘杰 黄也 +3 位作者 袁祖浩 佘鹏程 石任凭 何秋福 《电子工业专用设备》 2024年第2期33-38,共6页
为研究工艺参数对碲镉汞红外器件单层钝化膜工艺影响规律,采用红外器件钝化膜专用磁控溅射系统设备作为实验载体,通过仿真优化指导设计磁控溅射阴极靶,加快实现磁控溅射靶的制备;并采用仿真与实验相结合的方法研究靶基距、靶偏置角度等... 为研究工艺参数对碲镉汞红外器件单层钝化膜工艺影响规律,采用红外器件钝化膜专用磁控溅射系统设备作为实验载体,通过仿真优化指导设计磁控溅射阴极靶,加快实现磁控溅射靶的制备;并采用仿真与实验相结合的方法研究靶基距、靶偏置角度等工艺参数对镀膜均匀性的影响规律,获得较优的一组工艺参数值,为钝化膜工艺形成稳定、均匀性较好的膜层提供理论指导,为进一步研究双层钝化膜层奠定基础。 展开更多
关键词 碲镉汞 红外器件 钝化膜 磁控溅射 工艺参数 均匀性
下载PDF
基于多层感知机的失效模式预测方法研究 被引量:1
8
作者 颜秀文 高梓文 +2 位作者 刘岩舒 宋莹洁 程欣威 《价值工程》 2024年第4期106-108,共3页
本文研究的工作基于生产线系统,通过预测和预处理其失效模式,来提高系统的可靠性。使用机器学习等技术来进行生产线故障的预测。针对由多个生产环节组成的高精度工艺成品的生产线,这种预测方法可以辅助提升生产线的稳定性。本文提出了... 本文研究的工作基于生产线系统,通过预测和预处理其失效模式,来提高系统的可靠性。使用机器学习等技术来进行生产线故障的预测。针对由多个生产环节组成的高精度工艺成品的生产线,这种预测方法可以辅助提升生产线的稳定性。本文提出了一种基于多层感知机的生产线失效预测方法,以解决现有基于模型的失效预测方法在模型建立上的困难。通过该方法的应用,得到了预测准确率较高的结果,说明了生产线失效预测方法的有效性。 展开更多
关键词 多层感知机 失效模式 系统可靠性 机器学习
下载PDF
钨合金破片对Q235钢靶侵彻规律研究
9
作者 雷晋伟 宋佳琪 《包装工程》 CAS 北大核心 2024年第23期296-304,共9页
目的以典型质量8 g钨合金破片为研究对象,分析其对15 mm Q235钢靶的弹道极限(V_(50))的影响规律。方法首先通过弹道枪试验,验证仿真模型准确性,然后采用数值模拟方法,研究不同形状、质量和着靶角等因素对15 mm Q235钢靶侵彻规律的影响... 目的以典型质量8 g钨合金破片为研究对象,分析其对15 mm Q235钢靶的弹道极限(V_(50))的影响规律。方法首先通过弹道枪试验,验证仿真模型准确性,然后采用数值模拟方法,研究不同形状、质量和着靶角等因素对15 mm Q235钢靶侵彻规律的影响。结果方形破片和球形破片的V_(50)均随着破片质量的增大而降低;侵彻15 mm Q235钢靶板,方形破片V_(50)低于球形破片,随着破片质量的增加,2种破片的V_(50)差距逐渐减小;在此基础上,通过量纲分析,获得了钨合金方形破片侵彻靶板的破片直径与穿靶能量的关系,公式计算值与仿真值误差在6%以内。结论得出了8 g钨合金破片对15 mm Q235钢靶的V_(50)的影响规律,研究结果对破片选型具有一定的参考意义。 展开更多
关键词 钨合金破片 弹道极限 量纲分析 穿靶能量
下载PDF
光敏开关传感器的电磁兼容设计与实验研究
10
作者 周蒙 赵浩洁 +1 位作者 杨梓晗 谢明 《自动化与仪表》 2024年第12期128-132,137,共6页
该研究针对飞机、船舶等装备上使用的光敏开关传感器抗强电磁干扰要求,对传感器进行了结构与电路的设计。通过采用双屏蔽腔结构和“电-光-电”转换信号隔离电路等措施,提升了传感器的电磁兼容特性。此外,该文还针对模拟电路中常见的电... 该研究针对飞机、船舶等装备上使用的光敏开关传感器抗强电磁干扰要求,对传感器进行了结构与电路的设计。通过采用双屏蔽腔结构和“电-光-电”转换信号隔离电路等措施,提升了传感器的电磁兼容特性。此外,该文还针对模拟电路中常见的电源开断瞬间产生的电磁干扰问题,依托RE102电磁兼容测试试验,进行了分析、设计与整改。研究结果表明,优化后的设计方案提升了传感器的抗电磁干扰能力,使产品顺利通过了装备要求的各项电磁兼容实验,为解决同类型传感器的电磁兼容性问题提供了借鉴经验。 展开更多
关键词 传感器 光敏传感器 电磁兼容性 电路设计
下载PDF
一种基于多目机器视觉技术的硅片搬运机构研究
11
作者 邓乐 樊坤 《太阳能》 2024年第1期83-88,共6页
在太阳电池生产过程中,传统的硅片搬运机构存在搬运效率低、容易产生硅片搭边不良、吸盘印不良的问题,且无法在线检测硅片搭边不良。研究了一种基于多目机器视觉技术的硅片搬运机构,在对传统硅片搬运机构的机械结构和动作流程分析的基础... 在太阳电池生产过程中,传统的硅片搬运机构存在搬运效率低、容易产生硅片搭边不良、吸盘印不良的问题,且无法在线检测硅片搭边不良。研究了一种基于多目机器视觉技术的硅片搬运机构,在对传统硅片搬运机构的机械结构和动作流程分析的基础上,介绍了基于多目机器视觉技术的硅片搬运机构的动作流程、机械结构及特性,并重点分析了其使用多目机器视觉技术实现硅片位置检测及硅片搭边不良在线检测的原理,提出了该机构与传统的硅片搬运机构相比所具有的优势,其创新性在于引入了多目机器视觉技术和独特的动作流程,从而解决了硅片搬运过程中会产生吸盘印、划伤、隐裂等缺陷的问题。研究结果为多目机器视觉技术在光伏自动化设备中的应用开拓了思路,该新型硅片搬运机构在物理气相沉积(PVD)自动化设备的实际应用中,生产效率与良率均达到了全球领先水平。 展开更多
关键词 多目机器视觉技术 光伏行业 太阳电池 硅片搬运 硅片搭边不良 自动化设备 物理气相沉积
下载PDF
电子束曝光机子系统光柱控制器设计
12
作者 何远湘 龙会跃 +1 位作者 梁文彬 苏鑫 《电子工业专用设备》 2024年第4期30-35,共6页
为了提高电子束曝光机光柱控制器稳定性和控制精度,通过多年研究提出了一套功能较为完备的新型光柱控制的硬件设计方案,通过对电子束聚焦、对中、偏转、扫描曝光等参数精准控制,将图形发生器产生各项数字信号变换成对应的模拟量,稳定地... 为了提高电子束曝光机光柱控制器稳定性和控制精度,通过多年研究提出了一套功能较为完备的新型光柱控制的硬件设计方案,通过对电子束聚焦、对中、偏转、扫描曝光等参数精准控制,将图形发生器产生各项数字信号变换成对应的模拟量,稳定地控制电子束对承放在激光工作台上的掩模基片进行扫描曝光,从而达到高质量生产。 展开更多
关键词 电子束曝光机 光柱 聚焦 束闸 偏转 数模转换(DAC)转接
下载PDF
碳化硅基器件碳膜保护层的制备与研究
13
作者 孔令通 肖晓雨 +3 位作者 佘鹏程 黄也 龚俊 王建青 《电子工业专用设备》 2024年第2期27-32,67,共7页
碳膜沉积工艺是集成电路碳化硅器件制造过程中一道关键工艺,通过在碳化硅表面沉积碳膜,有效防止碳化硅器件在高温退火后的表面荒化,避免器件失效。通过磁控溅射法在碳化硅基底上制备碳膜,探索不同的参数对碳膜的影响,得到了表面光滑、... 碳膜沉积工艺是集成电路碳化硅器件制造过程中一道关键工艺,通过在碳化硅表面沉积碳膜,有效防止碳化硅器件在高温退火后的表面荒化,避免器件失效。通过磁控溅射法在碳化硅基底上制备碳膜,探索不同的参数对碳膜的影响,得到了表面光滑、均匀性小于2%的碳膜。通过表征,证实碳膜与碳化硅基底有很好的结合力,在实际生产中沉积的碳膜对碳化硅器件起到了保护作用,有效地保证了产品良率。 展开更多
关键词 碳化硅 集成电路 碳膜沉积工艺 磁控溅射法 物理气相沉积
下载PDF
离子束表面加工设备及工艺研究
14
作者 范江华 李勇 +3 位作者 袁祖浩 龚俊 胡凡 黄也 《中国集成电路》 2024年第9期87-91,共5页
本文介绍了一种用于红外芯片金属化与刻蚀工艺的离子束表面加工设备。通过实验探索不同工艺角度下薄膜沉积速率与均匀性及刻蚀速率与均匀性的影响,结果表明薄膜沉积均匀性与刻蚀均匀性均优于3%。同时经过产线流片,红外芯片表面薄膜均匀... 本文介绍了一种用于红外芯片金属化与刻蚀工艺的离子束表面加工设备。通过实验探索不同工艺角度下薄膜沉积速率与均匀性及刻蚀速率与均匀性的影响,结果表明薄膜沉积均匀性与刻蚀均匀性均优于3%。同时经过产线流片,红外芯片表面薄膜均匀性良好、一致性高,芯片电路图案刻蚀陡直性高、损伤低,满足红外芯片金属化与刻蚀工艺需求。 展开更多
关键词 离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 射频离子源
下载PDF
半导体设备SECS/GEM通信研究与设计
15
作者 周水清 罗超 何永平 《中国集成电路》 2024年第11期69-73,共5页
SECS/GEM是半导体行业中广泛采用的一个半导体设备通信标准。本文首先介绍了SECS/GEM标准的制定及行业应用情况,分别说明了HSMS、SECS-II、GEM各个通信标准的数据格式、传输控制、状态转换模型控制方式等;同时,阐述了所设计一套用于半... SECS/GEM是半导体行业中广泛采用的一个半导体设备通信标准。本文首先介绍了SECS/GEM标准的制定及行业应用情况,分别说明了HSMS、SECS-II、GEM各个通信标准的数据格式、传输控制、状态转换模型控制方式等;同时,阐述了所设计一套用于半导体设备SECS/GEM标准的软件通信系统。通过实践表明,该通信系统符合SECS/GEM标准,性能良好,满足设备的需求。 展开更多
关键词 半导体设备 SECS/GEM 通信接口 设备控制
下载PDF
金刚石离子注入射程及损伤的模拟研究
16
作者 袁野 赵瓛 +3 位作者 姬常晓 黄华山 倪安民 杨金石 《电子与封装》 2024年第11期73-80,共8页
离子注入法作为改善半导体材料表层电学性能的有效方法,被应用于金刚石基半导体器件的制造过程中。使用SRIM软件模拟并研究了Ar+、N+、B+、P+、As+等离子在不同能量(20~300 keV)和不同入射角度(0°~40°)下注入金刚石时的射程,... 离子注入法作为改善半导体材料表层电学性能的有效方法,被应用于金刚石基半导体器件的制造过程中。使用SRIM软件模拟并研究了Ar+、N+、B+、P+、As+等离子在不同能量(20~300 keV)和不同入射角度(0°~40°)下注入金刚石时的射程,及其对金刚石造成的损伤,结果表明,离子的种类、能量和注入角度均是影响离子射程和造成靶材损伤的重要因素,且各有其影响规律。通过改变这些参数,能够精准控制注入离子在金刚石中的射程和靶材损伤程度,为相关科研生产工作提供指导。 展开更多
关键词 金刚石 离子注入 射程 靶材损伤
下载PDF
靶通道选择器研究与优化设计
17
作者 鲁彤 袁祖浩 +2 位作者 李明 王佳方 何秋福 《电子工业专用设备》 2024年第1期34-37,共4页
针对目前对多靶磁控溅射设备功率切换的高要求,设计了一套可以有效抗电磁干扰的靶通道选择器。该新型靶通道选用钨触点高压陶瓷继电器实现通道的切换,通过I/O信号控制通道的切换,规避串口通讯抗电磁干扰能力弱的问题,并成功应用于磁控... 针对目前对多靶磁控溅射设备功率切换的高要求,设计了一套可以有效抗电磁干扰的靶通道选择器。该新型靶通道选用钨触点高压陶瓷继电器实现通道的切换,通过I/O信号控制通道的切换,规避串口通讯抗电磁干扰能力弱的问题,并成功应用于磁控溅射镀膜机上,经过用户的长期使用,证明了该设备的稳定性和可靠性,这一突破实现了靶通道选择器的自主可控。 展开更多
关键词 磁控溅射 直流电源 靶通道选择器 功率切换
下载PDF
200 mm SiC外延炉及同质外延工艺研究
18
作者 谢添乐 李苹 +4 位作者 杨宇 巩小亮 巴赛 陈国钦 万胜强 《电子工业专用设备》 2024年第4期11-16,29,共7页
目前SiC产业正由150 mm(6英寸)向200 mm(8英寸)转型,为满足行业对大尺寸、高质量SiC同质外延片的迫切需求,采用自主研制的200 mmSiC外延生长设备在国产衬底上成功制备出150 mm、200 mm 4H-SiC同质外延片,并开发了适用于150 mm及200 mm... 目前SiC产业正由150 mm(6英寸)向200 mm(8英寸)转型,为满足行业对大尺寸、高质量SiC同质外延片的迫切需求,采用自主研制的200 mmSiC外延生长设备在国产衬底上成功制备出150 mm、200 mm 4H-SiC同质外延片,并开发了适用于150 mm及200 mm的同质外延工艺,其中外延生长速率可大于60μm/h,在满足高速外延的同时,外延片质量优异,其中150 mm、200 mm SiC外延片厚度均匀性都可控制在1.5%以内,浓度均匀性均小于3%,致命缺陷密度小于0.3颗/cm2,外延表面粗糙度均方根Ra小于0.15 nm,各核心工艺指标均处于行业先进水平。 展开更多
关键词 碳化硅 200 mm外延炉 化学气相沉积 同质外延
下载PDF
离子束表面加工设备控制系统研究与设计
19
作者 范江华 黄一峻 +3 位作者 周立平 周波 刘庆浩 胡坤 《电子工业专用设备》 2024年第6期16-19,53,共5页
通过研究离子束表面加工设备的功能要求和工艺流程,设计了一套具备全自动真空、控温、传片、镀膜、刻蚀等功能的控制系统,并详细阐述控制系统各模块的功能及设计实现。经过产线流片验证,该控制系统运行稳定,满足离子束加工设备镀膜与刻... 通过研究离子束表面加工设备的功能要求和工艺流程,设计了一套具备全自动真空、控温、传片、镀膜、刻蚀等功能的控制系统,并详细阐述控制系统各模块的功能及设计实现。经过产线流片验证,该控制系统运行稳定,满足离子束加工设备镀膜与刻蚀等工艺控制需求。 展开更多
关键词 离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 控制系统
下载PDF
基于图论与排队论的人员疏散优化模型研究 被引量:8
20
作者 熊立春 杨立兵 +2 位作者 陈建宏 郑海力 石东平 《安全与环境学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期166-171,共6页
以办公楼火灾事故为场景,着重对人员疏散运动时间进行优化,主要考虑缩短应急疏散过程中的人员反应时间及疏散运动时间,通过选择图论理论对疏散最短路径进行优选,对壅滞时间的优化则选用排队论理论,提出了防止人群排队壅滞的安全判据,构... 以办公楼火灾事故为场景,着重对人员疏散运动时间进行优化,主要考虑缩短应急疏散过程中的人员反应时间及疏散运动时间,通过选择图论理论对疏散最短路径进行优选,对壅滞时间的优化则选用排队论理论,提出了防止人群排队壅滞的安全判据,构建了一个基于图论与排队论的疏散优化模型。以某办公楼建筑为例进行疏散模拟,研究了其在火灾场景下的出口宽度,疏散通道长度,分支入口数、宽度以及人员移动速度等对疏散时间的影响。结果表明,建立的基于图论与排队论的疏散模型,对于合理设计疏散路线和优化建筑物的出口和通道结构具有一定的实用价值。 展开更多
关键词 安全工程 人员疏散 图论 排队论 优化模型
原文传递
上一页 1 2 20 下一页 到第
使用帮助 返回顶部