期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到336篇文章
< 1 2 … 17 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
提高微细图形光刻分辨力的相移滤波技术研究 被引量：3
1
作者 陈旭南 石建平 +2 位作者 康西巧 罗先刚 秦涛 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期323-326,共4页
详细研究了提高投影成像光刻分辨力的相移滤波技术的基本理论 ,给出了理论模型 ,进行了模拟计算 .对不同掩模图形设计制作的不同优化滤波器进行光刻对比实验并取得实验结果 .研究表明 ,相移滤波能显著提高部分相干成像系统光刻分辨力和... 详细研究了提高投影成像光刻分辨力的相移滤波技术的基本理论 ,给出了理论模型 ,进行了模拟计算 .对不同掩模图形设计制作的不同优化滤波器进行光刻对比实验并取得实验结果 .研究表明 ,相移滤波能显著提高部分相干成像系统光刻分辨力和增大焦深 ,同时能提高光能利用率 ,有利于提高光刻生产率 ,是一种有效提高光刻分辨力和焦深的波前工程技术 . 展开更多
关键词 相移滤波 投影成像光刻系统 分辨力和焦深 光能利用率
下载PDF
微光学元件复制技术研究 被引量：4
2
作者 邓启凌 杜春雷 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期110-113,共4页
本文介绍了一种用硅橡胶做模具、光照固化光敏胶的微光学元件复制技术 .利用这种方法成功地复制了各种单元尺寸的微光学元件 .获得复制精度高、表面粗糙度低、光学性能良好的元件 .并可批量生产 。
关键词 复制 微光学元件 微透镜阵列 硅橡胶
下载PDF
量子磁力仪技术研究与应用
3
作者 汪孟珂 白萱瑶 +3 位作者 龙云 朱上果 蒲明博 罗先刚 《中国测试》 CAS 北大核心 2024年第12期1-12,44,共13页
量子磁力仪是一种利用量子效应进行高精度磁场测量的仪器。随着量子技术的进步和应用需求的增长,量子磁力仪在航空航天、地球科学、地质勘探、生物医疗和前沿探索等多个研究领域的重要性日益凸显。该文详细介绍量子磁力仪特别是基于热... 量子磁力仪是一种利用量子效应进行高精度磁场测量的仪器。随着量子技术的进步和应用需求的增长,量子磁力仪在航空航天、地球科学、地质勘探、生物医疗和前沿探索等多个研究领域的重要性日益凸显。该文详细介绍量子磁力仪特别是基于热原子系综的原子磁力仪的工作原理、性能及前沿应用。为梳理各类磁力仪的性能特点,首先,从测量的物理过程出发对量子磁力仪分类介绍,简述各类型磁力仪的基本原理与特点;然后,归纳关键技术指标和性能提升方法;最后,对量子磁力仪的发展趋势进行展望。 展开更多
关键词 量子磁力仪 光泵浦 拉莫尔进动
下载PDF
原子束全息技术制作任意微细图形研究
4
作者 石建平 陈旭南 +2 位作者 高洪涛 陈献忠 罗先刚 《微细加工技术》 2002年第3期48-51,共4页
从波粒二象性原理出发 ,研究了用氖原子束计算全息技术制作任意纳米结构的基本原理和方法 ,克服了用激光梯度场控制原子堆积 ,只能制作单一点、线等周期性纳米结构的不足。分析讨论了原子全息与光学全息的区别 ,指出只有经激光冷却的原... 从波粒二象性原理出发 ,研究了用氖原子束计算全息技术制作任意纳米结构的基本原理和方法 ,克服了用激光梯度场控制原子堆积 ,只能制作单一点、线等周期性纳米结构的不足。分析讨论了原子全息与光学全息的区别 ,指出只有经激光冷却的原子束才满足全息技术所要求的相干条件和衍射条件。最后采用罗曼Ⅲ型迂回位相编码方法设计了氖原子束计算全息片 。 展开更多
关键词 任意微细图形 纳米结构制作 计算全息 原子全息 激光冷却
下载PDF
相移掩模和光学邻近效应校正光刻技术 被引量：15
5
作者 冯伯儒 张锦 +2 位作者 侯德胜 周崇喜 苏平 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期1-5,共5页
详细地论述了相移掩模提高光刻分辨力和改善焦深的原理。介绍了光学邻近效应校正方法。
关键词 相移掩模 光学邻近效应校正 光刻技术
下载PDF
微光刻相移掩模技术研究 被引量：3
6
作者 冯伯儒 孙国良 +3 位作者 沈锋 阙珑 陈宝钦 崔铮 《光电工程》 CAS CSCD 1996年第S1期1-11,共11页
本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一定的临界参数条件下 ,相移掩模才能明显地改善分辨率和工艺宽容度 ;采用无铬相移掩模得到了 0 .2 μm的... 本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一定的临界参数条件下 ,相移掩模才能明显地改善分辨率和工艺宽容度 ;采用无铬相移掩模得到了 0 .2 μm的清晰抗蚀剂图形 ,证明了相移掩模在提高光刻分辨率。 展开更多
关键词 投影光刻 相移掩模 高分辨率 计算机模拟
下载PDF
微透镜阵列显示技术研究 被引量：4
7
作者 董小春 杜春雷 《微纳电子技术》 CAS 2003年第6期29-32,45,共5页
通过对微透镜阵列结构进行深入研究,揭示了微透镜阵列对微图形的放大原理。并在此基础上,找到了微透镜阵列结构参数、微图形结构参数与微图形阵列移动速度、移动方向以及放大倍率之间的关系,利用微透镜阵列实现了对微图形放大、动态、... 通过对微透镜阵列结构进行深入研究,揭示了微透镜阵列对微图形的放大原理。并在此基础上,找到了微透镜阵列结构参数、微图形结构参数与微图形阵列移动速度、移动方向以及放大倍率之间的关系,利用微透镜阵列实现了对微图形放大、动态、立体的显示。 展开更多
关键词 微透镜阵列 微图形 显示 放大原理 结构参数 移动速度 微光学器件
下载PDF
激光直写光刻工艺技术研究 被引量：2
8
作者 邱传凯 杜春雷 侯德胜 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期37-41,46,共6页
研究了利用激光直写技术制作微细图形的工艺方法，应用ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统，通过实验，分析了激光曝光机理以及提高实用分辨力的途径。得到了激光直写系统参数与处理工艺参数之间的匹配关系，实验数据对研究制作各种掩模版... 研究了利用激光直写技术制作微细图形的工艺方法，应用ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统，通过实验，分析了激光曝光机理以及提高实用分辨力的途径。得到了激光直写系统参数与处理工艺参数之间的匹配关系，实验数据对研究制作各种掩模版、衍射光学元件以及ＡＳＩＣ电路都有应用价值。 展开更多
关键词 激光直写 光刻工艺 激光光刻机 图形制备 曝光
下载PDF
衰减相移掩模光刻技术研究 被引量：2
9
作者 冯伯儒 张锦 +2 位作者 侯德胜 周崇喜 陈芬 《光电工程》 CAS CSCD 1999年第5期4-8,12,共6页
论述了衰减相移掩模光刻技术的原理和曝光实验研究，给出了光刻曝光实验部分结果。
关键词 光刻相移掩模 衰减相移掩模
下载PDF
用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件 被引量：1
10
作者 张锦 杜春雷 +6 位作者 冯伯儒 王永茹 周礼书 侯德胜 郭勇邱 传凯 林大键 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期42-46,共5页
介绍了利用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件的原理和方法，给出了制作结果。
关键词 离子束光刻 离子腐蚀 二元光学 衍射光学元件
下载PDF
用于高分辨大视场微光刻的全息照相技术研究 被引量：2
11
作者 冯伯儒 张锦 +1 位作者 侯德胜 陈芬 《微细加工技术》 2001年第1期1-7,共7页
介绍一种全息光刻技术的基本原理 ,全息掩模复位精度的影响 ,全息光刻技术的优点及基本应用 ,并对全息光刻系统的设计考虑作了详细介绍 。
关键词 全息微光刻 TIR全息 全息照相技术 高分辨
下载PDF
激光直写系统中的对准技术应用研究
12
作者 邱传凯 杜春雷 +1 位作者 白临波 周崇喜 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期98-103,共6页
基于ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统原有基片的多图形对准方法，针对衍射光学元件（ＤＯＥ）图形的特点，通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验，产生了一套适于ＤＯＥ图形套刻的对准方案。其对准误差小，达到了系统规定指... 基于ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统原有基片的多图形对准方法，针对衍射光学元件（ＤＯＥ）图形的特点，通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验，产生了一套适于ＤＯＥ图形套刻的对准方案。其对准误差小，达到了系统规定指标。并实验研制出了１６位相台阶的ＤＯＥ，取得了良好的效果。 展开更多
关键词 衍射光学元件 激光光刻机 激光直写 精密定位 对准精度
下载PDF
高功率半导体激光器微光学光束整形技术
13
作者 杜春雷 邓启凌 +1 位作者 董小春 周崇喜 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2008年第S3期430-,共1页
基于微光学光束变换系统方法,采用双微棱镜列阵、同轴"之"字形整形方法、反射棱镜阵列法等技术对准直光束进行折叠及光参数积匹配变换,实现光束的完全消像散;利用自行研制的大数值孔径连续非球面微透镜列阵、整形器件等核心... 基于微光学光束变换系统方法,采用双微棱镜列阵、同轴"之"字形整形方法、反射棱镜阵列法等技术对准直光束进行折叠及光参数积匹配变换,实现光束的完全消像散;利用自行研制的大数值孔径连续非球面微透镜列阵、整形器件等核心微光学器件,实现了准直、聚焦和光纤输出等各种功能。形成了系统的半导体激光器光束整形变换技术,准直后光束发散角达到理论极限;成功获得高效率单芯径光纤耦合半导体激光器泵浦源。 展开更多
关键词 高功率半导体激光器 微光学 光束整形
原文传递
小型波导传感器单元技术研究
14
作者 杜春雷 R.E.Kunz +1 位作者 苗景歧 候德胜 《光电工程》 CAS CSCD 1996年第S1期19-23,共5页
本文提出用梯度有效折射率平面波导形成小型波导传感器的方案 ,对关键单元技术进行了分析和实验 。
关键词 波导传感器 渐变折射率光波导 参数测量 半导体激光器
下载PDF
基于投影光刻技术的微透镜阵列加工方法 被引量：2
15
作者 龚健文 王建 +2 位作者 刘俊伯 孙海峰 胡松 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2023年第12期81-90,共10页
本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列。该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备。采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂... 本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列。该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备。采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂性的同时,提高了微透镜阵列面形精度。本文对四种不同口径的微透镜阵列进行制备实验,分别为50μm、100μm、300μm、500μm,其表面形貌加工精度达到微米级,表面粗糙度达到纳米级。实验结果表明,该方法在微透镜阵列制造中具有很大的潜力,与传统方法相比,能够实现更低的线宽和更高的表面面形精度。 展开更多
关键词 微透镜阵列 投影光刻技术 掩模移动滤波技术
下载PDF
配体及溶剂调控的CsPbBr_(3)/Cs_(4)PbBr_(6)/CsPb_(2)Br_(5)相变及其光学特性
16
作者 郭衡 石林林 +2 位作者 沈涛 张松 朱益志 《发光学报》 北大核心 2025年第2期296-304,共9页
作为一种具有广阔前景的新型材料,金属卤化物钙钛矿在光电子领域正冉冉升起,成为一颗耀眼的新星。本文采用传统的热注射法制备了三维CsPbBr_(3)钙钛矿纳米晶。通过向三维CsPbBr_(3)钙钛矿纳米晶添加配体或极性溶剂,实现了三维CsPbBr_(3... 作为一种具有广阔前景的新型材料,金属卤化物钙钛矿在光电子领域正冉冉升起,成为一颗耀眼的新星。本文采用传统的热注射法制备了三维CsPbBr_(3)钙钛矿纳米晶。通过向三维CsPbBr_(3)钙钛矿纳米晶添加配体或极性溶剂,实现了三维CsPbBr_(3)、零维Cs_(4)PbBr_(6)和二维CsPb_(2)Br_(5)之间的相变,并研究和比较了它们独特的光学性质。在紫外光的激发下,CsPbBr_(3)、CsPbBr_(3)@Cs_(4)PbBr_(6)、CsPbBr_(3)@CsPb_(2)Br_(5)均发出明亮的绿光,具有纳秒量级的荧光寿命。复合结构CsPbBr_(3)@Cs_(4)PbBr_(6)、CsPbBr_(3)@CsPb_(2)Br_(5)的荧光寿命与CsPbBr_(3)寿命几乎一致,表明CsPbBr_(3)@Cs_(4)PbBr_(6)和CsPbBr_(3)@CsPb_(2)Br_(5)复合物的发光均来自CsPbBr_(3)纳米晶。此外,添加配体使得CsPbBr_(3)转变到Cs_(4)PbBr_(6),极性溶剂水诱导CsPbBr_(3)到CsPb_(2)Br_(5)的相变也被证实。这项工作不仅为复合结构钙钛矿的制备提供了一种简便的方法,而且在一定程度上提供了铅卤钙钛矿在湿度环境中降解的知识。 展开更多
关键词 钙钛矿 维度 光学特性 相变
下载PDF
光纤传感技术在管道泄漏检测中的应用与进展 被引量：40
17
作者 庄须叶 王浚璞 +3 位作者 邓勇刚 黄涛 姚军 田鹏 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期543-550,共8页
快速发现并定位管道泄漏对管道运输的安全至关重要,开发永久的、分布式、实时在线的管道检测传感系统是管道安全检测的重要目标。光纤传感技术具有体积小、灵敏度高、耐酸碱腐蚀、抗电磁干扰能力强、不产生电火花等优点,在管道检测中具... 快速发现并定位管道泄漏对管道运输的安全至关重要,开发永久的、分布式、实时在线的管道检测传感系统是管道安全检测的重要目标。光纤传感技术具有体积小、灵敏度高、耐酸碱腐蚀、抗电磁干扰能力强、不产生电火花等优点,在管道检测中具有巨大的应用潜力。对应用于管道泄漏检测的各种光纤传感技术的原理和国内外发展现状进行了介绍,包括光纤布拉格光栅传感技术、光纤散射传感技术、Sagnac光纤干涉传感技术、Mach-Zehnder光纤干涉传感技术、偏振光光纤传感技术、光纤消逝场传感技术等。阐述了各传感技术在管道泄漏检测中的具体应用,通过对各传感技术的优缺点进行比较,总结了各传感技术的特点和进一步研究发展的方向,指出光纤传感技术在管道测漏传感方面具有巨大的优势和广泛的应用前景。 展开更多
关键词 光纤 光纤传感技术 管道 泄漏检测
原文传递
掩模移动技术中的边框效应及其应用 被引量：6
18
作者 曾红军 陈波 +2 位作者 郭履容 邱传凯 杜春雷 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第5期19-22,共4页
掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手 ,阐明了消除这一效应负面影响的办... 掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手 ,阐明了消除这一效应负面影响的办法 ,并利用它来降低掩模移动技术的对称性要求 ,在实验中制作出了面形复杂的连续浮雕微光学元件。 展开更多
关键词 掩膜移动技术 微光学元件 边框效应 复杂面形
下载PDF
纳米加工中的光驻波场研究 被引量：3
19
作者 陈献忠 姚汉民 +3 位作者 李展 陈元培 罗先刚 康西巧 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第6期25-29,共5页
介绍了纳米加工中的光驻波场 ,分别对单反射面和双反射面形成的驻波进行了分析 ,并对不同区域的光强分布进行了理论推导。最后对如何形成高质量的光驻波场进行了探讨。
关键词 纳米加工 光驻波 光强分布 光场
下载PDF
成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析 被引量：4
20
作者 刘娟 张锦 冯伯儒 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1480-1484,共5页
作为分辨率增强技术(RET)之一,离轴照明技术(OAI)通过调整照明方式,不但能提高分辨率还能很好地改善焦深.成像干涉光刻技术(IIL)利用多次曝光分别记录物体空间频率的不同部分,极大地提高了成像质量,其中大角度倾斜照明是对OAI的扩展.从... 作为分辨率增强技术(RET)之一,离轴照明技术(OAI)通过调整照明方式,不但能提高分辨率还能很好地改善焦深.成像干涉光刻技术(IIL)利用多次曝光分别记录物体空间频率的不同部分,极大地提高了成像质量,其中大角度倾斜照明是对OAI的扩展.从成像原理和频域范围的角度对IIL和OAI进行了理论研究、计算模拟和对比分析.结果表明,在同样条件下,IIL相对于OAI可更好地分辨细微特征. 展开更多
关键词 倾斜照明 成像干涉光刻技术 离轴照明技术 光刻技术
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 2 … 17 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部