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偏振差分反射光谱研究半导体材料的平面内光学各向异性 被引量：2
1
作者 赵雷 陈涌海 +2 位作者 左玉华 王海宁 时文华 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1185-1189,共5页
介绍了偏振差分反射光谱的原理,并结合半导体材料平面内光学各向异性的来源,总结了偏振差分反射光谱作为一种重要的表面、界面分析技术在半导体材料研究中的应用,并分析指出其在Si基材料电光改性研究中将会起到重要作用。
关键词 偏振差分反射光谱 半导体 平面内光学各向异性 电光改性
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半导体信息功能材料与器件的研究新进展 被引量：11
2
作者 王占国 《中国材料进展》 CAS CSCD 2009年第1期26-30,共5页
首先简要地介绍了作为现代信息社会基础的半导体材料和器件极其重要的地位,进而回顾了近年来半导体光电信息功能材料,包括半导体微电子、光电子材料,宽带隙半导体材料,自旋电子材料和有机光电子材料等的研究进展,最后对半导体信息功能... 首先简要地介绍了作为现代信息社会基础的半导体材料和器件极其重要的地位,进而回顾了近年来半导体光电信息功能材料,包括半导体微电子、光电子材料,宽带隙半导体材料,自旋电子材料和有机光电子材料等的研究进展,最后对半导体信息功能材料的发展趋势做了评述。 展开更多
关键词 半导体微电子 光电子材料 宽带隙半导体材料 自旋电子材料 有机光电子材料
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半导体材料研究的新进展(续) 被引量：2
3
作者 王占国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期8-11,共4页
关键词 光学微腔 光子晶体 量子比特 量子计算机 中国 硅单晶 砷化镓 半导体材料 进展
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半导体光电信息功能材料的研究进展 被引量：3
4
作者 王占国 《新材料产业》 2009年第1期65-73,共9页
半导体信息功能材料和器件是信息科学技术发展的先导和基础,多种技术与材料的进展使之在通信、汽车、航空、航天、石油开采以及国防等方面的应用前景更加广泛,而且光纤通信、移动通信和数字化信息网络技术已成为信息技术发展的大趋势。
关键词 光电信息功能材料 半导体激光器 硅集成电路 科学技术发展 宽带信息网络 纳米科学技术 微结构材料 单晶材料
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半导体光电信息功能材料的研究进展 被引量：2
5
作者 王占国 《功能材料信息》 2010年第3期8-16,共9页
历史发展表明，半导体信息功能材料和器件是信息科学技术发展的先导和基础。20世纪40年代末50年代初，晶体管的发明、硅单晶材料和硅集成电路（ICS）的研制成功、导致了电子工业大革命。20世纪60～70年代，光导纤维材料和以砷化镓（GaA... 历史发展表明，半导体信息功能材料和器件是信息科学技术发展的先导和基础。20世纪40年代末50年代初，晶体管的发明、硅单晶材料和硅集成电路（ICS）的研制成功、导致了电子工业大革命。20世纪60～70年代，光导纤维材料和以砷化镓（GaAs）为基的半导体激光器的发明，超晶格、量子阱微结构材料和高速器件的研制成功，使人类进入到光纤通信、移动通信和高速、 展开更多
关键词 光电信息功能材料 半导体激光器 硅集成电路 科学技术发展 微结构材料 单晶材料 电子工业 纤维材料
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MPCVD生长半导体金刚石材料的研究现状 被引量：9
6
作者 付方彬 金鹏 +3 位作者 刘雅丽 龚猛 吴巨 王占国 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第9期571-581,587,共12页
简要介绍了半导体金刚石材料优异的电学和光学性质、主要制备方法以及采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术在制备高质量半导体金刚石材料方面的优势。重点就MPCVD技术在半导体金刚石材料的高速率生长、大尺寸生长、高质量生长以及... 简要介绍了半导体金刚石材料优异的电学和光学性质、主要制备方法以及采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术在制备高质量半导体金刚石材料方面的优势。重点就MPCVD技术在半导体金刚石材料的高速率生长、大尺寸生长、高质量生长以及电学掺杂等四个方面的研究现状进行了详细总结。详细探讨了目前半导体金刚石材料在大尺寸单晶金刚石衬底制备、高质量单晶金刚石外延层生长以及金刚石电学掺杂等方面还存在的一些基本问题。指出在大面积单晶金刚石衬底还没有实现突破的情况下,半导体金刚石材料和器件结构的生长模式。 展开更多
关键词 金刚石 宽禁带 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD) 同质外延生长 掺杂
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金刚石半导体材料和器件的研究现状 被引量：6
7
作者 陈亚男 张烨 +7 位作者 郁万成 龚猛 杨霏 刘瑞 王嘉铭 李玲 金鹏 王占国 《微纳电子技术》 北大核心 2017年第4期217-228,共12页
简述了金刚石半导体材料的主要制备方法,以及掺杂技术及其在器件制备中应用的研究现状。重点介绍了微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备高质量金刚石的优势以及在生长速率、晶体尺寸和晶体质量等方面的研究进展及阻碍因素,并探讨了... 简述了金刚石半导体材料的主要制备方法,以及掺杂技术及其在器件制备中应用的研究现状。重点介绍了微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备高质量金刚石的优势以及在生长速率、晶体尺寸和晶体质量等方面的研究进展及阻碍因素,并探讨了实现金刚石大尺寸高质量生长的方法。通过对金刚石进行掺杂,可使其呈现p型和n型导电。总结了金刚石p型、n型掺杂及共掺杂的研究现状,并分析了金刚石在掺杂过程中出现的问题,探讨了p型掺杂和n型掺杂的研究方向。最后给出了金刚石在电力电子器件、探测器和场发射器件中的应用现状,并对金刚石的未来发展方向作出了展望。 展开更多
关键词 金刚石 迁移率 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD) 掺杂 器件
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用质量分离的低能离子束外延法生长β-FeSi_2半导体外延膜的初步研究 被引量：3
8
作者 姚振钰 任治璋 +4 位作者 王向明 刘志凯 黄大定 秦复光 林兰英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第8期518-521,共4页
采用质量分析的低能离子束外延法生长了半导体性质的β-FeSi_2外延薄膜.就我们所知,在用同类方法的研究中,国际上尚属首次.AES测量及RHEED观察肯定了外延的β-FeSi_2的存在;垂直入射的光透射谱又证实了外延膜是具有直接禁带的、禁带宽... 采用质量分析的低能离子束外延法生长了半导体性质的β-FeSi_2外延薄膜.就我们所知,在用同类方法的研究中,国际上尚属首次.AES测量及RHEED观察肯定了外延的β-FeSi_2的存在;垂直入射的光透射谱又证实了外延膜是具有直接禁带的、禁带宽度为～0.84 eV的半导体性质的薄膜.室温下的霍耳迁移率μH达600 cm^2V^(-1)s^(-1),比文献报道高两个量级. 展开更多
关键词 离子束外延法 FeSi2 半导体 薄膜
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磁性半导体Gd_xSi_(1-x)的XPS研究 被引量：1
9
作者 刘志凯 周剑平 +4 位作者 柴春林 杨少延 宋书林 李艳丽 陈诺夫 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期154-156,共3页
采用离子束技术 ,在n型硅基片上注入稀土元素钆 ,制备了磁性 /非磁性p n结。本文中使用的XPS对制备的样品进行测试 ,利用Origin 7 0提供的PFM工具进行研究 ,O1s束缚能介于金属氧化物和SiO2 中O1s的束缚能之间 ,Si2p的XPS谱分裂为两个峰 ... 采用离子束技术 ,在n型硅基片上注入稀土元素钆 ,制备了磁性 /非磁性p n结。本文中使用的XPS对制备的样品进行测试 ,利用Origin 7 0提供的PFM工具进行研究 ,O1s束缚能介于金属氧化物和SiO2 中O1s的束缚能之间 ,Si2p的XPS谱分裂为两个峰 ,其中一个是单质Si的 ,另一个介于单质Si和硅化物之间 ,Gd4d的束缚能介于金属钆和氧化钆中的Gd4d之间 。 展开更多
关键词 磁性半导体 GdxSi1-x XPS 离子束技术 非磁性p-n结 束缚能 无定形结构 x射线 光电子频谱 离子注入 硅化钆
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半导体材料的微重力生长 被引量：2
10
作者 尹志岗 张兴旺 吴金良 《中国材料进展》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期241-251,共11页
空间微重力环境提供了一个独特平台,以改进地面材料性能、深入理解被地面重力掩盖的晶体生长现象。半导体空间材料科学的主要进展有:(1)基于对组分均匀的完美半导体的追求,人们对于晶体生长机理,特别是对流、溶质传输及组分分凝的相互作... 空间微重力环境提供了一个独特平台,以改进地面材料性能、深入理解被地面重力掩盖的晶体生长现象。半导体空间材料科学的主要进展有:(1)基于对组分均匀的完美半导体的追求,人们对于晶体生长机理,特别是对流、溶质传输及组分分凝的相互作用,有了更加深入的理解;(2)基于空间实验结果,人们澄清了非接触Bridgman生长的内在机理,并将之用于指导空间及地面实验;(3)提出了新的微重力晶体生长技术并成功用于组分均匀半导体合金材料的制备。回顾了以上方面的研究进展,并对半导体空间材料科学的未来挑战进行了展望。 展开更多
关键词 微重力 浮力对流 Marangoni对流 Bridgman生长 非接触生长
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自组装半导体量子点的电子学性质研究进展 被引量：2
11
作者 孙捷 金鹏 王占国 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期463-470,共8页
自组装半导体量子点是人工设计、生长的一种具有量子尺寸效应、量子干涉效应、表面效应、量子隧穿和Coulumb阻塞效应以及非线性光学效应的新型功能材料.由于其具有晶体缺陷少、材料制备工艺相对简单等优点而在未来纳米电子器件的研制中... 自组装半导体量子点是人工设计、生长的一种具有量子尺寸效应、量子干涉效应、表面效应、量子隧穿和Coulumb阻塞效应以及非线性光学效应的新型功能材料.由于其具有晶体缺陷少、材料制备工艺相对简单等优点而在未来纳米电子器件的研制中有重要的应用价值.本文按照纵向输运、横向输运、电荷存储的顺序,扼要评述了自组装半导体量子点电子学性质的最新研究进展,并对目前存在的问题和发展前景作了分析. 展开更多
关键词 自组装半导体量子点 量子尺寸效应 纳米电子器件
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半导体材料的现状和发展趋势 被引量：1
12
作者 王占国 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期284-284,共1页
半导体材料的现状和发展趋势王占国（中国科学院半导体研究所，半导体材料科学实验室，北京１０００８３）ＳｔａｔｕｓａｎｄＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｏｆＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＭａｔｅｒｉａｌｓＷａｎｇＺｈａｎｇｕｏ（Ｌａｂ... 半导体材料的现状和发展趋势王占国（中国科学院半导体研究所，半导体材料科学实验室，北京１０００８３）ＳｔａｔｕｓａｎｄＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｏｆＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＭａｔｅｒｉａｌｓＷａｎｇＺｈａｎｇｕｏ（ＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＳｅｍｉｃｏｎｄ... 展开更多
关键词 半导体材料 发展趋势 现状
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铁磁/半导体异质结材料MnSb/Si的物理气相沉积生长
13
作者 彭长涛 陈诺夫 +1 位作者 张富强 林兰英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期494-498,共5页
采用一种新的生长铁磁 /半导体异质结材料的方法——物理气相沉积方法生长了一种铁磁 /半导体异质结材料 Mn Sb/Si.对所获得的样品进行特征 X射线能谱分析表明 Mn和 Sb在 Si衬底上的沉积速率相近 ,它们的原子百分数之比接近 1∶ 1.X射... 采用一种新的生长铁磁 /半导体异质结材料的方法——物理气相沉积方法生长了一种铁磁 /半导体异质结材料 Mn Sb/Si.对所获得的样品进行特征 X射线能谱分析表明 Mn和 Sb在 Si衬底上的沉积速率相近 ,它们的原子百分数之比接近 1∶ 1.X射线衍射分析发现薄膜中形成了 Mn Sb相 ,样品在室温下测出磁滞回线也从侧面验证了存在 Mn Sb相 .用原子力显微镜对样品的表面进行观察 ,发现 Mn Sb呈有规则形状的小晶粒状 ,晶粒大小比较均匀 ,尺寸大多数在 5 0 0 nm左右 . 展开更多
关键词 铁磁/半导体异质结 MnSb/Si 物理气相沉积 MnSb相 X射线衍射分析
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沸石分子筛中半导体量子纳米团簇的组装及应用前景 被引量：15
14
作者 陈伟 王占国 +2 位作者 林兰英 林兆军 钱家骏 《物理学进展》 CSCD 北大核心 1997年第1期83-117,共35页
在沸石分子筛中可以形成稳定的、分子尺寸的半导体团簇。这类团簇具有单相性、均匀性好的特点，并可形成三维量子超晶格结构。本文简单介绍沸石分子筛的结构及反应性之后，对团簇的组装技术及表征方法进行了详细的讨论，对半导体团簇的... 在沸石分子筛中可以形成稳定的、分子尺寸的半导体团簇。这类团簇具有单相性、均匀性好的特点，并可形成三维量子超晶格结构。本文简单介绍沸石分子筛的结构及反应性之后，对团簇的组装技术及表征方法进行了详细的讨论，对半导体团簇的特征、性质反应用前景进行了较系统的论述。并指出了这类团簇材料应用存在的问题及发展方向。 展开更多
关键词 沸石 分子筛 半导体 量子 团簇 纳米
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离子束外延生长半导体性锰硅化合物 被引量：3
15
作者 杨君玲 陈诺夫 +4 位作者 刘志凯 杨少延 柴春林 廖梅勇 何宏家 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期1429-1433,共5页
利用质量分析的低能双离子束外延技术得到了半导体性的锰硅化物 ,Mn2 7Si47和 Mn1 5Si2 6 .俄歇电子谱深度组分测量结果表明 ,在单晶 Si的表面淀积了一薄层厚度约为 37.5 nm的 Mn,另一部分 Mn离子成功注入进 Si基底里 ,注入深度为 6 18... 利用质量分析的低能双离子束外延技术得到了半导体性的锰硅化物 ,Mn2 7Si47和 Mn1 5Si2 6 .俄歇电子谱深度组分测量结果表明 ,在单晶 Si的表面淀积了一薄层厚度约为 37.5 nm的 Mn,另一部分 Mn离子成功注入进 Si基底里 ,注入深度为 6 18nm.在 840℃条件下在流动 N2 气氛中对生长样品进行退火 ,X射线衍射结果表明退火后Mn2 7Si47和 Mn1 5Si2 6 展开更多
关键词 半导体性锰硅化物 硅单晶 离子束外延生长
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自组装半导体量子点在纳米电子器件中的应用 被引量：2
16
作者 孙捷 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期61-65,共5页
随着微电子工艺逐渐逼近其物理极限,具有量子特性的纳米电子器件的研制被提上日程。自组装半导体量子点由于缺陷少、生长技术成熟和具有δ函数形式的能态密度等优点而被广泛用于纳米电子器件制备中。本文按纵向输运器件、横向输运器件... 随着微电子工艺逐渐逼近其物理极限,具有量子特性的纳米电子器件的研制被提上日程。自组装半导体量子点由于缺陷少、生长技术成熟和具有δ函数形式的能态密度等优点而被广泛用于纳米电子器件制备中。本文按纵向输运器件、横向输运器件的分类扼要评述了该领域的最新进展,并对待解决的问题和发展前景作了分析。 展开更多
关键词 微电子工艺 量子特性 自组装半导体量子点 纳米电子器件
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量子阱混杂单片集成宽可调谐激光器与半导体光放大器(英文)
17
作者 刘泓波 赵玲娟 +5 位作者 阚强 潘教青 王路 朱洪亮 周帆 王圩 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1657-1660,共4页
采用量子阱方法集成半导体光放大器的取样光栅可调谐激光器,这在国内尚属首次.该器件波长调谐范围可达33nm,在放大器注入50mA电流时,输出光功率可达10mW,同时边模抑制比可达35dB以上.
关键词 可调谐激光器 半导体光放大器 离子注入 量子阱混杂
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气-液-固法在半导体纳米线生长中的应用
18
作者 彭英才 赵新为 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期864-870,共7页
气-液-固法(VLS)是目前生长各种准一维纳米结构的主要工艺技术。本文首先介绍了VLS的生长原理,然后以生长机制为主线,着重评论了近3-5年内它在ZnO、GaN、Si以及SiC等纳米线及其阵列合成中应用的某些新进展。最后提出了改进VLS方法的几... 气-液-固法(VLS)是目前生长各种准一维纳米结构的主要工艺技术。本文首先介绍了VLS的生长原理,然后以生长机制为主线,着重评论了近3-5年内它在ZnO、GaN、Si以及SiC等纳米线及其阵列合成中应用的某些新进展。最后提出了改进VLS方法的几项措施,并展望了它的今后发展趋势。 展开更多
关键词 气-液-固法 金属催化剂 纳米线与阵列 生长机制
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半导体照明将触发照明光源的革命
19
作者 王占国 《新材料产业》 2006年第2期37-40,共4页
半导体白光照明具有重要的经济和社会意义,已成为国际上新一轮高技术竞争的一个焦点。抓住机遇,加快研究开发和产业化的步伐,才能确保在激烈的国际竞争中占有一席之地。
关键词 半导体照明 照明光源 触发 白光照明 生产成本 发光效率 前景广阔 体积小 应用 环保
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二次退火制备Ⅲ-Ⅴ族半导体量子点 被引量：1
20
作者 肖虎 孟宪权 +3 位作者 朱振华 金鹏 刘峰奇 王占国 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期747-750,765,共5页
利用离子注入法在一块Si(001)衬底上注入了In+和As+,注入能量分别为210keV,150keV,注入剂量6.2×1016cm-2,8.6×1016cm-2,另一块Si(001)衬底上注入Ga+和Sb+,注入能量分别为140keV,220keV,注入剂量分别为8.2×1016cm-2,6.2&#... 利用离子注入法在一块Si(001)衬底上注入了In+和As+,注入能量分别为210keV,150keV,注入剂量6.2×1016cm-2,8.6×1016cm-2,另一块Si(001)衬底上注入Ga+和Sb+,注入能量分别为140keV,220keV,注入剂量分别为8.2×1016cm-2,6.2×1016cm-2,然后对样品分别经过一次退火和二次退火处理制备出了Si基量子点材料。用透射电子显微镜(TEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)观察了退火后量子点截面像,用PL探测量子点的光致发光谱,发现经二次退火生长的量子点微晶格结构和Si衬底损伤的修复均明显优于一次退火。 展开更多
关键词 二次退火 量子点 离子注入
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