非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti复合薄膜的结构与真空摩擦磨损性能研究 被引量：8

1

作者 周晖 桑瑞鹏 +2 位作者 温庆平 郑军 张凯锋 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期374-378,共5页

采用非平衡磁控溅射法制备MoS2-Yi复合薄膜，采用SEM、XRD和XRF对薄膜的结构进行表征，在真空球-盘摩擦试验机上评价试验载荷、转速以及基底材料种类对薄膜真空摩擦磨损性能的影响．结果表明：MoS2-Ti复合薄膜表面致密均匀，断面为细柱... 采用非平衡磁控溅射法制备MoS2-Yi复合薄膜，采用SEM、XRD和XRF对薄膜的结构进行表征，在真空球-盘摩擦试验机上评价试验载荷、转速以及基底材料种类对薄膜真空摩擦磨损性能的影响．结果表明：MoS2-Ti复合薄膜表面致密均匀，断面为细柱状结构，呈MoS：（002）基面择优取向，薄膜中Ti含量为8wt．％，S：Mo原子比为1．8．在真空度优于5×10～Pa、室温环境中，当试验载荷从5N增加至20N时，薄膜的摩擦系数和耐磨寿命都呈减小趋势，摩擦系数变化符合赫兹接触理论模型；当试验速度从250r／min提高至1000r／min时，薄膜的摩擦系数逐渐减小，耐磨寿命变化量较小；不同基体材料上薄膜的摩擦系数平均值均为0．02，9Cr18、45#钢和40Cr基材上薄膜耐磨寿命区别不大，在20～25km之间，磨损形式为磨粒磨损，30CrMnSi上薄膜耐磨寿命明显下降，只有10．3km，磨损形式为黏着磨损，研究结果表明如果基底材料与摩擦对偶间发生黏着磨损，会明显降低其表面沉积薄膜的耐磨寿命． 展开更多

关键词 MoS2-Ti复合薄膜 结构 真空摩擦磨损性能

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沉积压力对非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti复合薄膜的结构与性能影响研究 被引量：6

2

作者 周晖 万志华 +2 位作者 郑军 桑瑞鹏 温庆平 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期9-12,41,共5页

采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积压力对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF、轮廓仪和XRD分析测试薄膜的成分、厚度和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机... 采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积压力对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF、轮廓仪和XRD分析测试薄膜的成分、厚度和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明:降低沉积压力使溅射粒子的平均自由程变大,薄膜沉积过程中再溅射作用加强,对薄膜的结构和性能产生较大的影响。沉积压力升高,薄膜中S和Mo原子比和Ti质量分数随之增大,变化范围分别为1.50～1.77和5.8%～8.1%,薄膜沉积厚度先增大后减小,薄膜晶相结构从明显的(002)基面优势取向向准晶态转变;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随沉积压力的升高而降低,薄膜硬度变化范围是5.7～3.5GPa,薄膜与基底间附着力变化范围是100～75mN;薄膜在真空环境中的减摩性能不受工作压力变化影响,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随沉积压力升高依次为9000,21500,28000,18000m,工作压力低时再溅射作用破坏了MoS2分子层间的滑移能力从而使其耐磨寿命降低。 展开更多

关键词 非平衡磁控溅射 MoS2-Ti复合薄膜 沉积压力 结构和性能

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纳米金刚石薄膜紫外探测器研究 被引量：3

3

作者 王兰喜 陈学康 +4 位作者 王云飞 郭晚土 吴敢 曹生珠 尚凯文 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第S1期16-20,共5页

利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,制备了高表面光洁度(其表面的高度标准偏差约为8.6nm)的纳米金刚石薄膜,在其表面上制作了共平面MSM结构的紫外探测器。电荷-深能级瞬态谱(Q-DLTS)测试表明,纳米金刚石薄膜的带隙中引入了一个能... 利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,制备了高表面光洁度(其表面的高度标准偏差约为8.6nm)的纳米金刚石薄膜,在其表面上制作了共平面MSM结构的紫外探测器。电荷-深能级瞬态谱(Q-DLTS)测试表明,纳米金刚石薄膜的带隙中引入了一个能级,能级激活能E_a=0.134eV,俘获截面σ_s=2.81×10^(-22)cm^2,能级密度N_I～10^(12)cm^(-2)。利用脉冲氙灯作为光源对器件的紫外探测性能进行了测试,器件在10V偏压下的脉冲光电流峰值可达9μA,光电流的响应时间为ms量级。分析得出,纳米金刚石薄膜中存在的这个浅能级,由于其低的激活能和小的俘获截面起到非平衡载流子的陷阱作用,导致紫外探测器具有较慢的响应速度和较高的光电流。 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 紫外探测器 粗糙度 深能级 电荷-深能级瞬态谱

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沉积温度对非平衡磁控溅射MoS_2-Ti复合薄膜的结构与性能影响研究 被引量：2

4

作者 周晖 郑军 +2 位作者 温庆平 桑瑞鹏 万志华 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2007年第12期16-19,22,共5页

采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积温度对薄膜的结构和性能的影响。利用SEM、XRF和XRD分析薄膜的形貌、成分和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环... 采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积温度对薄膜的结构和性能的影响。利用SEM、XRF和XRD分析薄膜的形貌、成分和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明:沉积温度升高薄膜中S和Mo原子比从1.72升高至1.76,Ti质量分数从8.2%降低至6.7%,薄膜从明显的(002)基面优势取向向多晶态转变,晶粒尺寸变大,棱面膜含量增多;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随沉积温度的升高而降低,沉积温度为200℃时薄膜性能降低明显,硬度从4GPa降至2GPa,薄膜与基底间附着力从80mN以上降至35mN;薄膜在真空环境中的减摩作用不受沉积温度影响,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随沉积温度升高而降低,50℃和100℃薄膜耐磨寿命相差不多,200℃薄膜样品耐磨寿命很差,是50℃和100℃薄膜样品的1/8～1/7。 展开更多

关键词 非平衡磁控溅射 MoS2-Ti复合薄膜 沉积温度 结构和性能

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极坐标激光直写法制作圆对称连续衍射元件掩模的能量表征方法研究 被引量：1

5

作者 王多书 罗崇泰 +2 位作者 陈焘 刘宏开 叶子煜 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期138-140,144,共4页

采用激光直写法制作连续衍射光学元件,具有过程简单、周期短、成本低等优点。介绍了极坐标激光直写法制作圆对称连续衍射元件的原理。通过实验,研究了衍射微结构深度与激光功率、曝光位置半径与激光功率的关系。实验结果显示,在相同曝... 采用激光直写法制作连续衍射光学元件,具有过程简单、周期短、成本低等优点。介绍了极坐标激光直写法制作圆对称连续衍射元件的原理。通过实验,研究了衍射微结构深度与激光功率、曝光位置半径与激光功率的关系。实验结果显示,在相同曝光位置半径条件下,微结构深度与激光功率呈正比;在相同微结构深度条件下,曝光位置半径与激光功率呈正比。分析总结出了极坐标激光直写法制作圆对称连续衍射元件的能量表征方法,并采用该方法成功制作了圆对称连续衍射聚光透镜掩模。 展开更多

关键词 激光直写 连续衍射元件 能量表征

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(Ti_(1-x)Al_x)N硬质涂层的研究进展 被引量：9

6

作者 张飞 闫鹏勋 +3 位作者 陈江涛 苗彬彬 李冠斌 王君 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期699-704,691,共7页

TiAlN作为一种三元复合纳米涂层材料,具有非常好的性能。该涂层克服了TiN涂层所存在的一些缺陷,其硬度远远高于TiN涂层,最高可达47GPa,并且具有很好的热稳定性,在700℃高温下仍很稳定,而TiN涂层在500℃时就已被氧化。TiAlN涂层还具有抗... TiAlN作为一种三元复合纳米涂层材料,具有非常好的性能。该涂层克服了TiN涂层所存在的一些缺陷,其硬度远远高于TiN涂层,最高可达47GPa,并且具有很好的热稳定性,在700℃高温下仍很稳定,而TiN涂层在500℃时就已被氧化。TiAlN涂层还具有抗磨损,摩擦系数小,热膨胀系数及热传导系数低等特性,这些特性与涂层中Al含量的多少有关,Al含量的改变会导致涂层微观结构的改变,从而使其性能发生变化。氮分压和基底温度对TiAlN涂层的性质有着极其重要影响。本文结合国内外对TiAlN涂层的最新研究进展,对TiAlN涂层的应用,制备方法,结构,抗氧化性及硬度作了简要论述。 展开更多

关键词 TIALN涂层 晶体结构 抗氧化性 硬度 综述

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工件台转速对非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti复合薄膜的结构与性能影响 被引量：2

7

作者 周晖 温庆平 +2 位作者 郑军 桑瑞鹏 万志华 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期1-3,19,共4页

采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了工件台转速对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF和XRD分析薄膜的成分和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评... 采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了工件台转速对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF和XRD分析薄膜的成分和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明:提高工件台转速改善了掺杂金属Ti在薄膜中的分布均匀性,起到了细化晶粒尺寸,使薄膜组织结构致密性加强的效果。工件台转速变化不影响薄膜成分,薄膜的晶相从明显的(002)基面优势取向向准晶态转变;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随工件台转速的提高而增大;薄膜在真空环境中的减摩作用与工件台转速无关,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随工件台转速提高而延长。 展开更多

关键词 非平衡磁控溅射 MoS_2-Ti复合薄膜 工件台转速 结构和性能

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液晶可调谐滤光片的透射光谱分析 被引量：7

8

作者 何杰 宋立涛 +4 位作者 罗崇泰 马勉军 王多书 熊玉卿 黄良甫 《科学技术与工程》 2007年第15期3903-3904,3923,共3页

采用琼斯矩阵方法对不同结构的液晶滤光片的透射光谱进行了分析。结果表明,该种滤光片调谐范围宽;平行向列相液晶法-珀滤光片具有偏振敏感性;电压较高时,90°扭曲向列相液晶法-珀滤光片的偏振敏感性消除。

关键词 可调谐滤光片 液晶 琼斯矩阵 红外

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可调谐液晶红外滤光片的光学特性分析 被引量：1

9

作者 何杰 罗崇泰 +2 位作者 马勉军 王多书 熊玉卿 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期380-382,385,共4页

可调谐红外滤光片是高分辨率红外成像仪谱段识别和分光的重要光学器件。采用琼斯矩阵方法对平行向列相和90°扭曲向列相液晶法-珀红外滤光片的本征偏振态及光学特性进行了研究。结果表明,当非偏振光垂直入射时,平行向列相液晶法-珀... 可调谐红外滤光片是高分辨率红外成像仪谱段识别和分光的重要光学器件。采用琼斯矩阵方法对平行向列相和90°扭曲向列相液晶法-珀红外滤光片的本征偏振态及光学特性进行了研究。结果表明,当非偏振光垂直入射时,平行向列相液晶法-珀滤光片在任何电压下两组本征偏振态均不发生模式混合,具有偏振敏感性;90°扭曲向列相液晶法-珀滤光片在电压较低时具有偏振敏感性,当电压大于三倍Freedericksz阈值电压时,两组本征偏振态发生模式混合,偏振敏感性消除。 展开更多

关键词 可调谐滤光片 液晶 琼斯矩阵 红外 法布里-珀罗腔

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工件台偏压对非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti薄膜的结构与性能影响 被引量：1

10

作者 郑军 周晖 +2 位作者 温庆平 万志华 桑瑞鹏 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期28-32,共5页

采用非平衡磁控溅射技术制备MoS2-Ti薄膜,研究工件台偏压对薄膜结构和性能的影响。利用XRF和XRD分析薄膜的成分和晶相结构,用CSM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的厚度、硬度以及膜与基体的结合力,采用球-盘摩擦磨损试验机评价薄膜在真空环... 采用非平衡磁控溅射技术制备MoS2-Ti薄膜,研究工件台偏压对薄膜结构和性能的影响。利用XRF和XRD分析薄膜的成分和晶相结构,用CSM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的厚度、硬度以及膜与基体的结合力,采用球-盘摩擦磨损试验机评价薄膜在真空环境下的摩擦学性能。结果表明:MoS2-Ti薄膜具有明显的(002)优势取向,薄膜中S、Mo原子比及膜厚随偏压的增加而减小,薄膜硬度及膜-基体附着力随偏压的增加而增大,薄膜在真空环境中的平均摩擦因数为0.02,受偏压影响不明显,薄膜寿命受偏压影响明显,当偏压在-100 V内变化时薄膜具有较长的寿命且随偏压的增加而增长,偏压继续增大薄膜耐磨寿命下降明显,当偏压为-200 V时薄膜不具备润滑性能。 展开更多

关键词 非平衡磁控溅射 MoS2-Ti复合薄膜 工件台偏压 结构和性能

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微型太阳敏感器光学掩模的镀膜设计 被引量：1

11

作者 王多书 罗崇泰 《应用光学》 CAS CSCD 2007年第6期716-719,共4页

太阳敏感器是空间飞行器进行姿态确定和方位测定的重要器件,传统太阳敏感器大而重,无法应用到微小卫星特别是皮纳卫星上。介绍了基于CMOS APS探测器的微型太阳敏感器的工作原理,基于黑体辐射理论和太阳光谱特性,结合CMOS APS探测器工作... 太阳敏感器是空间飞行器进行姿态确定和方位测定的重要器件,传统太阳敏感器大而重,无法应用到微小卫星特别是皮纳卫星上。介绍了基于CMOS APS探测器的微型太阳敏感器的工作原理,基于黑体辐射理论和太阳光谱特性,结合CMOS APS探测器工作特性,分析给出了这种敏感器像元表面产生光电子数的计算方法,并采用M atlab软件,编程计算了地球表面太阳垂直入射条件下,探测器像元表面产生的光电子数。采用光学薄膜设计方法,分析设计了掩模表面光学薄膜的膜系结构,计算了各膜层的透射特性。在此基础上,得到了基于CMOS APS探测器微型太阳敏感器光学掩模的光学薄膜的设计方法,最后给出了设计结果。 展开更多

关键词 光学掩模 微型太阳敏感器 CMOS APS探测器 光学薄膜设计

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