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电子回旋共振—微波等离子体化学气相沉积法制备a-C:H(N)薄膜
被引量:
2
1
作者
李新
唐祯安
+1 位作者
马国佳
邓新绿
《真空》
CAS
北大核心
2003年第5期28-30,共3页
采用电子回旋共振 -微波等离子体化学气相沉积技术 ,使用 CH4 和 N2 混合气作为反应气体 ,在硅衬底上制备掺氮含氢非晶碳 (a- C∶ H(N) )薄膜。紫外 Ram an光谱证实了薄膜的类金刚石特性 ;傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在 CH和 CN键...
采用电子回旋共振 -微波等离子体化学气相沉积技术 ,使用 CH4 和 N2 混合气作为反应气体 ,在硅衬底上制备掺氮含氢非晶碳 (a- C∶ H(N) )薄膜。紫外 Ram an光谱证实了薄膜的类金刚石特性 ;傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在 CH和 CN键结构。采用原子力显微镜 (AFM)观察薄膜的微观表面形貌 ,结果表明薄膜表面光滑。论文详细叙述了薄膜制备工艺 ,对测试结果进行了分析讨论 。
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关键词
电子回旋共振-微波等离子体化学气相沉积法
制备
CH4
N2
非晶碳薄膜
紫外Raman光谱
原子力显微镜
原文传递
微热板式气压传感器结构设计与热分析
被引量:
12
2
作者
张凤田
唐祯安
+3 位作者
高仁璟
金仁成
郭文泰
王海霞
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2004年第6期598-602,共5页
给出了采用牺牲层技术制作的微热板式气压传感器的加工工艺和工作原理。分析了微热板各层薄膜厚度、微热板下气隙高度、支撑桥尺寸、微热板面积大小对传感器加工、工作性能的影响,并结合实际工艺条件设计了一种采用不同支撑桥尺寸的传...
给出了采用牺牲层技术制作的微热板式气压传感器的加工工艺和工作原理。分析了微热板各层薄膜厚度、微热板下气隙高度、支撑桥尺寸、微热板面积大小对传感器加工、工作性能的影响,并结合实际工艺条件设计了一种采用不同支撑桥尺寸的传感器结构。理论分析了恒温加热方式下微热板各种传热途径随气压的变化关系;用有限元方法模拟了恒流加热方式下气压对传感器温度分布和温度大小的影响。分析结果显示,气压较高时微热板传热以气体导热为主,而气压较低时以支撑桥导热为主;微热板区域温度分布较均匀,温度大小受气压影响较大;设计的传感器测量范围为10~105Pa,功耗在毫瓦级,且具有尺寸小、热响应快、易与电路集成等优点。
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关键词
微热板
气压传感器
热分析
有限元
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职称材料
微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射DLC膜的制备与表征
被引量:
2
3
作者
李新
唐祯安
+3 位作者
邓新绿
徐军
张虹霞
杨梅
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第3期304-305,307,共3页
介绍了微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射设备的结构和工作原理,详细叙述了利用该设备制备类金刚石膜的过程。Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的微观表面形貌,均方根粗糙度大约为1.9nm,结果表明...
介绍了微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射设备的结构和工作原理,详细叙述了利用该设备制备类金刚石膜的过程。Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的微观表面形貌,均方根粗糙度大约为1.9nm,结果表明薄膜表面非常光滑;利用CERT微摩擦计进行摩擦、磨损和划痕实验,薄膜的平均摩擦系数较小,大约为0.175;DLC膜和Si衬底磨损情况的扫描电镜图片相对比,可以看到DLC膜的磨痕小的多,说明薄膜有较好的耐磨性能;划痕测试结果表明制备薄膜临界载荷大约为40mN。
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关键词
非平衡磁控溅射
电子回旋共振
等离子体源
类金刚石膜
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职称材料
题名
电子回旋共振—微波等离子体化学气相沉积法制备a-C:H(N)薄膜
被引量:
2
1
作者
李新
唐祯安
马国佳
邓新绿
机构
大连理工大学电子工程系微系统研究中心
大连理工大学
三束材料改性国家重点实验室
出处
《真空》
CAS
北大核心
2003年第5期28-30,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目 (5 0 135 0 4 0 )
文摘
采用电子回旋共振 -微波等离子体化学气相沉积技术 ,使用 CH4 和 N2 混合气作为反应气体 ,在硅衬底上制备掺氮含氢非晶碳 (a- C∶ H(N) )薄膜。紫外 Ram an光谱证实了薄膜的类金刚石特性 ;傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在 CH和 CN键结构。采用原子力显微镜 (AFM)观察薄膜的微观表面形貌 ,结果表明薄膜表面光滑。论文详细叙述了薄膜制备工艺 ,对测试结果进行了分析讨论 。
关键词
电子回旋共振-微波等离子体化学气相沉积法
制备
CH4
N2
非晶碳薄膜
紫外Raman光谱
原子力显微镜
Keywords
a-C∶H (N) films
electron cyclotron resonance-microwave plasma chemical vapor deposition(ECR-MPCVD)
micro electro mechanical system(MEMS)
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
微热板式气压传感器结构设计与热分析
被引量:
12
2
作者
张凤田
唐祯安
高仁璟
金仁成
郭文泰
王海霞
机构
大连理工大学电子工程系微系统研究中心
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2004年第6期598-602,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.90207003)
文摘
给出了采用牺牲层技术制作的微热板式气压传感器的加工工艺和工作原理。分析了微热板各层薄膜厚度、微热板下气隙高度、支撑桥尺寸、微热板面积大小对传感器加工、工作性能的影响,并结合实际工艺条件设计了一种采用不同支撑桥尺寸的传感器结构。理论分析了恒温加热方式下微热板各种传热途径随气压的变化关系;用有限元方法模拟了恒流加热方式下气压对传感器温度分布和温度大小的影响。分析结果显示,气压较高时微热板传热以气体导热为主,而气压较低时以支撑桥导热为主;微热板区域温度分布较均匀,温度大小受气压影响较大;设计的传感器测量范围为10~105Pa,功耗在毫瓦级,且具有尺寸小、热响应快、易与电路集成等优点。
关键词
微热板
气压传感器
热分析
有限元
Keywords
micro-hotplate
gas pressure sensor
thermal analysis
finite element method
分类号
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射DLC膜的制备与表征
被引量:
2
3
作者
李新
唐祯安
邓新绿
徐军
张虹霞
杨梅
机构
大连理工大学电子工程系微系统研究中心
大连理工大学
三束材料改性国家重点实验室
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第3期304-305,307,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(50135040)
文摘
介绍了微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射设备的结构和工作原理,详细叙述了利用该设备制备类金刚石膜的过程。Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的微观表面形貌,均方根粗糙度大约为1.9nm,结果表明薄膜表面非常光滑;利用CERT微摩擦计进行摩擦、磨损和划痕实验,薄膜的平均摩擦系数较小,大约为0.175;DLC膜和Si衬底磨损情况的扫描电镜图片相对比,可以看到DLC膜的磨痕小的多,说明薄膜有较好的耐磨性能;划痕测试结果表明制备薄膜临界载荷大约为40mN。
关键词
非平衡磁控溅射
电子回旋共振
等离子体源
类金刚石膜
Keywords
Electron cyclotron resonance
Friction
Magnetron sputtering
Microwaves
Plasma sources
Wear resistance
分类号
O4841 [理学—固体物理]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子回旋共振—微波等离子体化学气相沉积法制备a-C:H(N)薄膜
李新
唐祯安
马国佳
邓新绿
《真空》
CAS
北大核心
2003
2
原文传递
2
微热板式气压传感器结构设计与热分析
张凤田
唐祯安
高仁璟
金仁成
郭文泰
王海霞
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2004
12
下载PDF
职称材料
3
微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射DLC膜的制备与表征
李新
唐祯安
邓新绿
徐军
张虹霞
杨梅
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
2
下载PDF
职称材料
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