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题名电子束曝光机大物面强磁透镜的研究
被引量：3
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作者
尹明
孙晓军
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机构
山东大学控制科学与工程学院电子束室
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期509-512,共4页
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基金
山东省高技术发展计划项目资助 ( 0 2 2 0 90 10 5 )
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文摘
以SDS 3电子束曝光机的聚焦透镜系统为基础 ,在 0 .0 0 5弧度半张角 ,3× 10 - 5的高压纹波 ,5 0mm的像距 ,30× 30mm扫描场的条件下 ,研究了电磁透镜成像的笛卡尔坐标系中的近轴轨迹方程 ,给出了相应的计算初值条件和实例 讨论了电子束曝光机聚焦透镜系统中的球差、彗差、像散。
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关键词
电子束曝光机
透镜
像差
畸变
近轴轨迹
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Keywords
E beam exposure system
Lens
Aberration
Distortion
Par axial trajectory
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名电子束加速器维纳尔的研究(英文)
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作者
尹明
周晓雁
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机构
山东大学控制科学与工程学院电子束室
山东大学信息科学与工程学院
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出处
《高能物理与核物理》
EI
CSCD
北大核心
2005年第3期301-304,共4页
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基金
国家自然科学基金项目 (90 3 0 70 0 3 )
山东省自然科学基金项目 (0 3B5 3 )资助~~
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文摘
由于电子束理论上可聚成直径小于 1nm的束斑 ,易于控制 ,在超大规模集成电路掩模制造中起的重要作用 ,目前仍无法用其他方法所代替 .以SDS 3电子束设备的电子枪为基础 ,讨论了双曲凹面加速器维纳尔 (外敷碱土金属氧化物盖 )的电子轨迹与能量分布 .通过这一维纳尔电子被送达硅片靶心 (置于光阑前 ) .最后给出了刻蚀硅片的束斑和加速器维纳尔的图 .
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关键词
电子束
电子轨迹
能量分布
硅片靶心
加速器
维纳尔
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Keywords
accelerator, electron beam, brightness, scatter, Wehnelt, cathode
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分类号
TL55
[核科学技术—核技术及应用]
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