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热烈祝贺机电部沈阳仪器仪表工艺研究所建所三十周年
1
作者 黄缉熙 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1991年第2期3-5,共3页
关键词 仪器仪表 工艺 微细加工
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铝阳极氧化膜的几种主要测试方法和仪器 被引量:1
2
作者 张凤林 《轻合金加工技术》 CAS 北大核心 1989年第6期40-41,48,共3页
一、前言近年来,随着国内铝型材工业的发展,制定铝型材国家标准和测试仪器的研制工作都有了很大进展,为铝型材表面处理工艺的进步和质量管理提供了有利条件. 1987年,国家标准局公布了铝型材质量检验方面的一项重要的国家标准“GB8013-87... 一、前言近年来,随着国内铝型材工业的发展,制定铝型材国家标准和测试仪器的研制工作都有了很大进展,为铝型材表面处理工艺的进步和质量管理提供了有利条件. 1987年,国家标准局公布了铝型材质量检验方面的一项重要的国家标准“GB8013-87,铝及铝合金阳极氧化膜的总规范”.它规定了铝阳极氧化膜的全部12项质量特征及其检验方法,并规定了膜厚和封孔质量的最低合格限度.目前。 展开更多
关键词 阳极氧化 测试 仪器
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磁性与非磁性基体镍镀层厚度测量方法及仪器
3
作者 王兴库 李银起 徐秋玲 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1991年第2期20-22,共3页
本文介绍了一种用于检测镀、涂层厚度的电磁感应方法和用该法研制成功的仪器。该仪器河测量各种涂镀层、复合层分层的厚度,并介绍了仪器的关键技术、微机系统框图及影响测量精度的因素。
关键词 镀层 测量 试验仪器 镀镍 厚度
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波纹膨胀节的研究与设计
4
作者 顾广瑞 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1991年第2期6-8,共3页
本文介绍了波纹膨胀节的层数、波形、结构设计原则及其选择。
关键词 波纹膨胀节 设计 管道 波纹管
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库仑法测厚新技术与仪器
5
作者 李山林 《电镀与精饰》 CAS 1989年第5期43-45,共3页
一库仑法测厚原理库仑法测厚原理是基于法拉弟定律,即: G=Ae·i·t·η,式中G为质量(g);i为电流(A);t为时间(h);Ae为电化学当量=原子量/化合价×26.8(g/A·h_1);η为电流效率=实际溶解量/理论上可溶解量。
关键词 镀层 厚度 库仑 库仑法 仪器
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批量生产硅压力敏感元件的工艺方法
6
作者 秦秋石 盖洪凯 周成立 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第4期27-32,共6页
本文介绍一种批量生产硅压力敏感元件的工艺方法。与传统工艺方法不同,它采用2英寸直径厚2.5mm的硅片,每片上可制造出12个硅压力敏感元件。然后通过划片、硅杯加工、静电封接及装配,制成一种全焊接结构的硅压力传感器。这种工艺方法新颖... 本文介绍一种批量生产硅压力敏感元件的工艺方法。与传统工艺方法不同,它采用2英寸直径厚2.5mm的硅片,每片上可制造出12个硅压力敏感元件。然后通过划片、硅杯加工、静电封接及装配,制成一种全焊接结构的硅压力传感器。这种工艺方法新颖,将集成电路工艺技术和敏感元件特有工艺技术结合在一起,生产出的敏感元件质量好、成本低,特别适合于一般半导体器件生产厂转产批量生产硅压力敏感元件和传感器。 展开更多
关键词 敏感元件 硅片 压力 测量 工艺
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硅—蓝光电池可靠性技术的研究
7
作者 谢华钧 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1991年第4期12-14,27,共4页
本文介绍了硅—蓝光电池的环境试验条件、寿命试验方法及装置;论述了硅—蓝光电池的失效模式与失效机理。
关键词 硅-蓝光电池 电池 可靠性
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薄膜型锑化铟磁阻元件的研制
8
作者 于成民 安银姬 李颖 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1991年第2期17-19,共3页
本文用相平衡理论和半导体材料内电流分布状态的理论模型分析了半导体磁阻元件制造工艺和结构设计中的问题。提出了锑化铟磁阻元件的结构设计原则和三温度源蒸镀锑和铟薄膜及制备高灵敏度锑化铟薄膜的热处理工艺条件。试制出了R_B/R_0≥... 本文用相平衡理论和半导体材料内电流分布状态的理论模型分析了半导体磁阻元件制造工艺和结构设计中的问题。提出了锑化铟磁阻元件的结构设计原则和三温度源蒸镀锑和铟薄膜及制备高灵敏度锑化铟薄膜的热处理工艺条件。试制出了R_B/R_0≥1.75的磁阻元件。主要技术指标达到了目前国际同类产品水平。 展开更多
关键词 薄膜 锑化铟 磁阻元件 半导体
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常温应变计参数自动测试系统
9
作者 马洪发 李振波 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1991年第2期23-25,共3页
本文介绍了常温应变计参数自动测试系统网络、保证精度的措施,并建立了应变计参数的数学模型。
关键词 应变仪 自动测试 参数 常温
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电流密度测试仪在电镀层厚度在线测量中的应用
10
作者 邱广涛 刘海波 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 1991年第7期26-28,共3页
一、前言对电镀生产而言,无论是防护性镀层、防护装饰性镀层、修复性镀层及特殊要求的镀层,均有一定的厚度要求。镀层的厚度往往会影响到零件的耐蚀性、装饰性、导电性、成本等多项性能,特别是阳极性镀层的厚度与其防护性能关系密切。
关键词 电镀 镀层 镀层厚度 测试
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硅压阻式真空变送器
11
作者 庞世信 匡石 徐淑霞 《真空》 CAS 北大核心 1990年第4期34-37,57,共5页
本文叙述了采用单晶硅压阻效应制作真空变送器的机理和关键工艺.给出了测量结 果和结论,讨论了该元件应用范围等问题。
关键词 传感器 真空变送器 压敏元件
原文传递
图形电镀电流密度及厚度在线检测
12
作者 邱广涛 李山林 《电镀与精饰》 CAS 1993年第3期40-43,共4页
l 概述图形电镀是印刷电路板特有的工艺。无论是板面电镀还是图形电镀,电流密度是最重要的工艺参数之一。图形电镀有其特殊性,由于线路板的线条密度、粗细分布不均,用常规方法先算出被镀面积,然后再计算给定电流的方法很难奏效。线路越... l 概述图形电镀是印刷电路板特有的工艺。无论是板面电镀还是图形电镀,电流密度是最重要的工艺参数之一。图形电镀有其特殊性,由于线路板的线条密度、粗细分布不均,用常规方法先算出被镀面积,然后再计算给定电流的方法很难奏效。线路越复杂,电流密度的控制难度就越大。如果说线路板镀铜有板面电镀和图形电镀两种方法,而镀铅锡合金只能用图形电镀法。镀层中锡含量随电流密度的提高而增加。因此,要准确地控制镀层成分,必须严格控制电流密度。镀层厚度直接影响电路板的电气性能。 展开更多
关键词 电镀 图形电镀 印刷电路板
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压力变送器用全焊接结构的扩散硅敏感元件的研制 被引量:4
13
作者 秦秋石 盖洪凯 +1 位作者 刘通 张治国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1991年第1期24-30,共7页
本文介绍了研究开发全焊接结构的硅压力敏感元件的具体内容及解决的技术关键问题。对硅-玻璃-金属静电封接工艺做了一些论述。最后给出了研制的全焊接结构的扩散硅压力敏感元件的性能指标、测试结果。
关键词 压力变送器 硅敏感元件 焊接结构
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WH-1000型涡流测厚仪
14
作者 张凤林 王兴库 +1 位作者 徐秋玲 国英杰 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 1989年第8期42-43,共2页
涡流测厚仪用于测定各种有色金属基体上的绝缘性覆盖层的厚度,如铝、铜、镁、银、锌、锡、铅、钛及非磁性不锈钢等材料上的阳极氧化膜、涂层、塑料层、橡胶、搪瓷等厚度,通常多用于测定铝及铝合金基体上的阳极氧化膜。
关键词 涡流测厚仪 绝缘性覆盖层 厚度 有色金属 技术参数 构成
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电镀线行车的微机控制
15
作者 白宇 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1991年第3期34-36,共3页
本文主要介绍了电镀线行车微机控制的软件、硬件构成以及抗干扰措施。由于本系统采用了一种新的软件设计,使得该系统不仅操作简便,还大大地提高了系统的可靠性和容错能力。
关键词 电镀线 桥式起重机 微机 控制
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压阻式压力敏感元件的硅—玻璃—金属封接技术
16
作者 秦秋石 刘通 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第2期205-209,共5页
一、引言压阻式压力敏感元件由于体积小、精度高、灵敏度高而广泛应用于科学研究及工业生产各领域中。长期以来,这种力学量敏感元件,其制造过程中的封接工艺技术一直受到人们的重视。以往的封接工艺方法,如胶粘法,低熔点玻璃粉烧结法,... 一、引言压阻式压力敏感元件由于体积小、精度高、灵敏度高而广泛应用于科学研究及工业生产各领域中。长期以来,这种力学量敏感元件,其制造过程中的封接工艺技术一直受到人们的重视。以往的封接工艺方法,如胶粘法,低熔点玻璃粉烧结法,共晶合金焊接法等,由于各自的缺陷,使压力敏感元件的性能指标,特别是稳定性和可靠性受到了一定的影响。 展开更多
关键词 压力敏感元件 封接技术 压阻式
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表面安装元器件贴片机及其选择
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作者 李刚 《仪表工业》 1991年第6期20-23,25,共5页
本文介绍了现在国际市场上的各种贴片机的贴片工作方式和贴片速度等主要区别及各自的特点,指出应用中的一些有关问题和选择贴片机的注意事项。
关键词 电子器件 贴片机 表面安装
原文传递
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