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题名步进电机斩波驱动的研究
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作者
王晋峰
黄万顺
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1990年第3期28-30,共3页
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文摘
本文针对目前国内和我所的步进电机驱动线路中存在的功耗大、体积大等问题,通过对斩波驱动线路的试验、研究,使得功耗降低了两倍,带载启动频率提高了60％,体积大为减小。
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关键词
步进电机
斩波
驱动电路
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分类号
TM383.6
[电气工程—电机]
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题名国外光刻设备市场概况及发展趋势
被引量：2
- 2
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作者
童志义
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第3期54-64,F003,共12页
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文摘
本文主要从市场角度述评了近两年国外光刻设备的最新发展动态。具有0.6微米线宽加工能力的g线步进机和0.5微米线宽加工能力的i线步进机在今后的16MDRAM的批量生产中将担当主要角色。在即将来临的64kDRAM大生产时代,准分子激光源的片子步进机、远紫外源的扫描步进机将于小型专用贮存环辐射源的X射线步进机平分秋色,并驾齐驱进入256MDRAM时代。
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关键词
集成电路
光刻设备
市场
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分类号
TN405.7
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名分步曝光机汞灯灯箱的热设计
- 3
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作者
王志越
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1991年第4期23-25,共3页
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文摘
前 言 随着超大规模集成电路技术的发展,对半导体工艺设备的要求也越来越高,象现在的兆位集成技术,就要求分步曝光机(亦称DSW)系统具有足够的曝光能量来实现高效率生产,也就是要具有大功率的照明光源。做为DSW系统,它对环境的要求是非常苛刻的。为使DSW系统高可靠地工作,就必须对其主要发热元件——大功率汞灯曝光光源部分进行合理的热设计,以使灯箱结构满足整机对它的散热要求,提高设备的工作性能和可靠性。
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关键词
曝光机
热设计
灯箱
水银灯
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分类号
TN405.985
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名5倍高分辨率投影光刻物镜设计
被引量：1
- 4
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作者
段立安
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1991年第3期39-42,23,共5页
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文摘
本文结合Wafer Stepper简要说明投影光刻物镜的指标判断和要求,设计时应考虑的某些问题,并介绍一个5倍g线高分辨率投影光刻物镜的设计结果,该物镜的象素数N为2.3×10~8。
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关键词
VLSI
光刻机
投影光刻机
物镜
设计
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分类号
TN470.57
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名充满活力的光学微细加工技术
被引量：1
- 5
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作者
刘恩荣
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1990年第2期1-12,共12页
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文摘
本文简要评述了近年来国外光学微细加工技术的最新进展。常规光学曝光己可满足16MDRAM生产的要求;准分子激光曝光有能力实现64M甚至256MDRAM生产;宽带步进扫描曝光机和激光图形制作系统也在集成电路制造中显示了强大实力。九十年代仍将是光学微细加工技术继续占居主导地位的时代。
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关键词
光学
微细加工
光刻
半导体器件
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分类号
TN405.7
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名为研制我国自己的分步光刻机(DSW)而拼搏
被引量：1
- 6
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作者
周得时
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1991年第3期30-38,共9页
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文摘
分步光刻机是制作VLSI和ULSI的关健设备,是光学微细加工技术的中坚。本文概述了它的主要特点及其发展趋势,阐明了研制我国自己的分步光刻机的必要性和重要性。回顾了机电部第四十五研究所研制分步光刻机的历史进程,展望了该所“八五”、“九五”期间的研究前景。最后就如何提高我国分步光刻机的研究水平、加快研究步伐提出了建议。
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关键词
VLSI
ULSI
分步光刻机
光刻机
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分类号
TN470.57
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名移相掩模技术及其发展前景
被引量：1
- 7
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作者
刘恩荣
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1992年第4期30-39,共10页
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文摘
移相掩模技术的出现和在高密度微电子器件研制中的成功应用,是近几年来光学微细加工技术发展的最主要成果。本文在具体介绍移相掩模基本原理、结构工艺改进以及最新应用成果的基础上,展望了光学微细加工技术的发展前景。并指出,在大力研制高性能实用步进曝光设备的同时,重点研究移相掩模或移相光刻技术,已成为迅速改变我国光学微细加工技术落后面貌的必由之路。
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关键词
光学微细加工
移相掩模
掩模
发展
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分类号
TN405.7
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名前苏联的微电子专用设备情况初探
- 8
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作者
任继东
周得时
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1992年第1期1-8,共8页
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文摘
本文简要介绍了前苏联微电子工业及其微电子专用设备,特别是波朗纳尔科研生产联合体在激光图形发生器、分步投影光刻机及平面电机应用等方面的技术发展状况。
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关键词
投影光刻机
激光
图形发生器
设备
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名光学微细加工技术的发展和我所的历史使命
- 9
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作者
任继东
张世恩
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1991年第3期24-29,38,共7页
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文摘
光学微细加工技术的飞速发展 目前,世界微电子器件正朝着高集成化、高功能化和高可靠性的理想境界发展,不断缩小图形线宽,增大晶片尺寸,采用新的设计结构,从而导致微细加工设备更新速度加快。半导体工业的附加值和技术含量正不断移向微细加工领域,设备的作用越来越重要。
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关键词
光学
微细加工
微电子技术
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分类号
TN4
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名移相掩模为光学微细加工技术增添新武器
- 10
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作者
刘恩荣
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1991年第2期1-8,共8页
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文摘
通过对国外光学微细加工技术发展现状的介绍,和对提高光学成像分辨率的各种途径的分析比较,提出了在加强光学曝光设备和抗蚀剂材料工艺开发的同时,立即着手研究移相掩模技术的主张。
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关键词
光学
微细加工
移相掩模
掩模
加工
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分类号
TN405.7
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名光学光刻在军事微电子器件制造中的作用和地位
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作者
刘恩荣
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1992年第3期8-12,共5页
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文摘
光学微细加工技术或称光学技术,是促成集成电路微电子器件的诞生与不断进步的主要微细加工手段。无论是过去还是现在,国外始终都对光学光刻技术设备的发展寄予极大希望与重视,而且在当前通用和军用微电子器件研制、生产中。
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关键词
微电子技术
光刻
微电子器件
军事
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名WJY—101型硅抛光片表面质量检查仪
- 12
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作者
杨建忠
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1989年第2期36-39,共4页
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文摘
本文将详细地介绍一种新近研制,并主要用于φ50、φ75、φ100毫米三种规格的硅抛光片外观质量检查的WJY—101型抛光片表面质量检查仪及其主要技术性能、设计原理和结构特点。
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关键词
抛光片
表面质量
检查仪
硅
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分类号
TN305.2
[电子电信—物理电子学]
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题名图象识别自动对准
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作者
魏向荣
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1991年第3期43-47,共5页
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文摘
概 述 在大规模集成电路生产中,自动对准技术是极其关键的一项技术,它主要解决IC生产中的图形刻套问题,以提高产品成品率及生产效率。该技术是西方发达国家对我国微电子工业发展实行技术封锁与控制的重点,也是自七十年代初至今这二十余年来严重困扰和阻碍我国集成电路制造与发展的一项久攻未破的老大难问题。
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关键词
ULSI
图形套刻
对准
工艺
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分类号
TN470.57
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名Stepper技术的最新进展
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作者
周得时
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1992年第4期19-25,56,共8页
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文摘
本文从技术的角度回顾了Stepper技术发展的主要里程,综合介绍了国外一些Stepper的主要生产厂商近年来所取得的主要进展,重点介绍美国GCA公司和荷兰菲利浦公司ASML所生产的Stepper技术概况,论述了Stepper技术的发展趋势。
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关键词
光刻
Stepper技术
光刻机
发展
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名用于高精度X、Y工作台的粗微重叠驱动机构
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作者
杨建忠
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1992年第2期38-40,共3页
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文摘
本方简述了一种可用于高精度x、y工作台的粗微重叠驱动机构。并就其主要结构特点和可能的实际应运方法作了论述。
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关键词
粗微重叠
驱动机构
工作台
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分类号
TH2
[机械工程—机械制造及自动化]
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题名半导体专用设备的多元一体化工程与技术初探
- 16
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作者
杨建忠
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1991年第1期22-24,18,共4页
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文摘
本文从半导体专用设备的系统特点出发,依据系统工程的研究方法和机电一体化工程的主体思想,提出了半导体专用设备的多元一体化工程体系。并在此基础上对多元一体化的工程体系、结构及技术特点进行了初步探讨。
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关键词
半导体工业
专用设备
一体化工程
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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题名TZ—107自动探针测试台
- 17
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作者
唐德兴
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1991年第4期36-40,共5页
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文摘
本文介绍了TZ—107自动探针测试台的主要技术性能及结构。并对工作台速度问题进行了讨论。
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关键词
集成电路
测量
探针测试台
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分类号
TN407
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名加快国产化进程 提高铝电解电容器设备水平
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作者
王怀毅
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1990年第3期23-27,共5页
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文摘
本文讨论了我国铝电解电容器制造设备的现状,指出了国产设备与国外先进设备的差距,就铝电解电容器制造设备行业今后的发展提出了见解。
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关键词
铝
电解电容器
电容器
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分类号
TM535.105
[电气工程—电器]
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题名振动料斗特性参数分析及调试
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作者
李仁
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1992年第2期32-37,共6页
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文摘
本文主要从试验分析的角度出发,对我所901型自动编带机所采用的送料装置——螺旋振动料斗的特性参数进行了定量分析,并提出了调试过程中一些具体问题的解决措施。
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关键词
送料装置
编带机
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分类号
TH2
[机械工程—机械制造及自动化]
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题名液晶显示技术的现状与展望
- 20
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作者
廉子丰
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机构
机电部第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
1992年第2期1-7,12,共8页
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文摘
本文介绍了液晶显示器件的国内外发展概况,并对其应用领域、显示原理、工艺流程及制造设备的发展趋势做了简单介绍。
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关键词
液晶显示
显示器
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分类号
TN141.9
[电子电信—物理电子学]
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