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步进光刻机中的成像线宽控制 被引量：2
1
作者 周虎明 《电子工业专用设备》 2001年第1期27-33,共7页
线宽控制是光刻质量的关键。以 0 8～ 1 0 μmIC电路生产为依据 ,讨论光刻机特性影响成像线宽的因素以及使用中的最佳调整。
关键词 步进光刻机 线宽控制 线宽误差 半导体
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