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纳米光子结构软膜紫外光固化纳米压印(英文) 被引量：2
1
作者 SHI J WANG Z M +9 位作者 BAO K PEROZ C BELOTTI M XU L P LUO C X SUN M H ZHANG B JI H OUYANG Q CHEN Y 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2006年第3期225-229,共5页
紫外光固化纳米压印是实现纳米结构批量复制的一种新技术．其特点是低成本和高分辨,而且可以达到极高的套刻精度．为了得到大面积图案的均匀复制,可用聚二甲基硅氧烷(PDMS)制备透光的压印软模板．其母版图案可由高分辨率电子束曝光和反... 紫外光固化纳米压印是实现纳米结构批量复制的一种新技术．其特点是低成本和高分辨,而且可以达到极高的套刻精度．为了得到大面积图案的均匀复制,可用聚二甲基硅氧烷(PDMS)制备透光的压印软模板．其母版图案可由高分辨率电子束曝光和反应离子刻蚀的方法在硅片基底上获得,然后用浇注的方法将图案转移到PDMS上．本实验特别发展了紫外光固化纳米压印适用于软膜压印的双层膜图型转移技术．该双层膜由廉价的光胶和聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)构成．对光胶层的压印可用普通的光学曝光仪实现．然后再将图案用反应离子刻蚀的方法转移到PMMA层中．为了证明方案的可行性,在两种不同材料的半导体基片上压印了三角晶格的光子晶体和准晶结构的图案,并用剥离的方法将它们转移到金属薄膜上,最后成功地进行了硅片刻蚀实验．相信这一纳米制做方法对大面积纳米光子结构和光学集成芯片的制造是普遍适用的． 展开更多
关键词 纳米压印 纳米加工 纳米光子学
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软膜紫外光固化纳米压印制备等离子体纳米孔结构的工艺优化
2
作者 陈静 刘正堂 Anne-Marie Haghiri-Gosnet 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第4期899-903,908,共6页
利用软膜紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀技术在玻璃衬底上制备了等离子体纳米孔阵列。为了实现高分辨低成本软膜紫外光固化纳米压印技术在生物传感领域的应用和产业化,必须对压印的一些具体工艺参数如压印压力进行优化。在这项... 利用软膜紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀技术在玻璃衬底上制备了等离子体纳米孔阵列。为了实现高分辨低成本软膜紫外光固化纳米压印技术在生物传感领域的应用和产业化,必须对压印的一些具体工艺参数如压印压力进行优化。在这项工作中,压印压力最小化到10 psi,结果表明这一数值足以保证图案的精确复制以及图案转移的保真度。最后,利用反应离子刻蚀的方法去除残余光胶,并用剥离的方法进行图案转移,成功地制备出了均匀性良好的金纳米孔阵列。为了证明金属纳米周期结构在生物传感上的应用,使该阵列表面吸附蛋白质分子,结果观察到明显的透射峰偏移。 展开更多
关键词 软膜紫外光固化纳米压印 等离子体纳米孔阵列 生物传感
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软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文) 被引量：1
3
作者 陈静 石剑 +2 位作者 刘正堂 DECANINI Dominique HAGHIRI-GOSNET Anne-Marie 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2012年第1期52-58,共7页
报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射... 报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射频功率、压强和气体流量对刻蚀形貌、表面粗糙度以及刻蚀速度的影响.在优化的工艺条件下,获得了理想的具有垂直侧壁形貌和较小表面粗糙度的纳米光栅阵列.结果表明,选择优化的刻蚀工艺参数,既能有效地改善图形转移的性能,同时也能提高所制备结构的光学应用特性. 展开更多
关键词 软膜紫外光固化纳米压印 反应离子刻蚀 刻蚀形貌 表面粗糙度
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