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题名掩模基板用石英衬底清洗效果影响因素探讨
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作者
徐根
杨旭
李翼
李伟
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机构
湖南普照信息材料有限公司
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出处
《清洗世界》
2025年第3期63-65,共3页
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文摘
本文用康宁7980型石英Q6025光掩模用抛光衬底玻璃,在不同的工艺下进行溅镀钼硅膜前的清洗,阐述清洗工艺与衬底表面洁净度的关系及机理,实现衬底颗粒缺陷降低,同时优化钼硅膜的膜应力。
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关键词
掩模基板
清洗工艺
颗粒缺陷
膜应力
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分类号
TP273.5
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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题名匀胶铬板针孔的成因分析与管控研究
被引量：1
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作者
李伟
余志明
魏秋平
夏鑫
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机构
中南大学材料科学与工程学院
湖南普照信息材料有限公司
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出处
《矿冶工程》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第2期134-137,共4页
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文摘
采用直流磁控溅射镀膜法在石英玻璃衬底制备铬膜,利用SEM和EDS对铬膜层的针孔及周围分别进行了形貌和元素表征,研究了膜层针孔缺陷的成因及管控方法。结果表明,在匀胶铬板生产过程中,不稳定的基片表面会吸附环境中的粉尘颗粒、细菌等杂质,阻挡铬膜的沉积,在杂质去除后形成针孔。采取了以下管控措施:镀膜前采用浓度3%H_(2)O_(2)对清洗机泡槽4 h;严格遵守操作规范;加强镀膜机的卫生处理。管控措施实行4个月后,针孔平均密度由之前的7.04个/片减少到3.36个/片,针孔良率提高了约10%。
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关键词
铬膜
镀膜
匀胶铬板
直流磁控溅射
针孔缺陷
良率
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Keywords
chromium film
coating
chromium mask
DC magnetron sputtering
pinhole defect
improvement rate
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分类号
TQ153
[化学工程—电化学工业]
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