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AZ5214光刻胶及像反转特性的实验研究 被引量：3
1
作者 周明宝 崔铮 《微细加工技术》 1999年第2期23-27,共5页
通过实验研究了ＡＺ５２１４光刻胶分别用作正型抗蚀剂和负型抗蚀剂的光刻工艺，给出了抗蚀剂厚度为１μｍ的最佳光刻工艺参数，介绍了ＡＺ５２１４像反转特性的实验研究结果。
关键词 AZ5214 光致抗蚀剂 像反转特征 光刻胶 实验
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用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
2
作者 杜惊雷 粟敬钦 +2 位作者 张怡霄 郭永康 崔铮 《微细加工技术》 EI 2000年第2期39-44,共6页
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可... 利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可加工 0 7微米的I线曝光装置上获得了经邻近效应校正的 0 5微米光刻线条。 展开更多
关键词 灰阶编码掩模 光学邻近效应校正 光学光刻
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微光刻相移掩模技术研究 被引量：3
3
作者 冯伯儒 孙国良 +3 位作者 沈锋 阙珑 陈宝钦 崔铮 《光电工程》 CAS CSCD 1996年第S1期1-11,共11页
本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一定的临界参数条件下 ,相移掩模才能明显地改善分辨率和工艺宽容度 ;采用无铬相移掩模得到了 0 .2 μm的... 本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一定的临界参数条件下 ,相移掩模才能明显地改善分辨率和工艺宽容度 ;采用无铬相移掩模得到了 0 .2 μm的清晰抗蚀剂图形 ,证明了相移掩模在提高光刻分辨率。 展开更多
关键词 投影光刻 相移掩模 高分辨率 计算机模拟
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用CHF_3/Ar为工作气体刻蚀融石英 被引量：2
4
作者 周明宝 崔铮 Prewett D P 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1999年第2期67-72,共6页
报道了用氟利昂ＣＨＦ３和氩气Ａｒ作工作气体的反应离子刻蚀融石英的技术。研究了气体流速、腔压和射频等离子体功率对刻蚀速度的影响，并分析了刻蚀工艺对样品表面的污染，同时也考察了刻蚀工艺的均匀性和重复性。为了优化刻蚀工艺，... 报道了用氟利昂ＣＨＦ３和氩气Ａｒ作工作气体的反应离子刻蚀融石英的技术。研究了气体流速、腔压和射频等离子体功率对刻蚀速度的影响，并分析了刻蚀工艺对样品表面的污染，同时也考察了刻蚀工艺的均匀性和重复性。为了优化刻蚀工艺，采用Ｒｓ１／Ｄｉｓｃｏｖｅｒ软件工具设计优化实验。实验中射频等离子体功率范围在１２０～１６０Ｗ，氩气和氟利昂流速分别在１５～３５ｓｃｃｍ（１ｃｍ３／ｍｉｎｓｔａｎｄａｒｄｃｕｂｉｃｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ／ｍｉｎｕｔｅ）和２０～５０ｓｃｃｍ范围，腔压在１３～１９Ｐａ范围，相应的刻蚀速度为１５～２５ｎｍ／ｍｉｎ。 展开更多
关键词 石英 反应离子刻蚀 氩气 氟利昂 衍射光学元件
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用光致抗蚀剂作牺性层材料制作可动微机械
5
作者 周明宝 崔铮 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1998年第5期74-78,共5页
报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械，动件和固定件同时制作。同现有的牺牲层材料相比，光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先，光致抗蚀剂能直接涂敷，能直接光刻成形。... 报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械，动件和固定件同时制作。同现有的牺牲层材料相比，光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先，光致抗蚀剂能直接涂敷，能直接光刻成形。此外，用光致抗蚀剂作牺牲层材料不影响结构的厚度和材料的选择。工艺优化后，结构洁净度、固定件与基片的结合强度及牺牲层去除速度都得到了改善。 展开更多
关键词 光致抗蚀剂 牺牲层 可动微机械 微机械 工艺
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Etching Fused Quartz With CHF_3/Ar
6
作者 周明宝 崔铮 D.Prewett 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期64-69,81,共7页
报道了用氟利昂ＣＨＦ３和氩气Ａｒ作工作气体的反应离子刻蚀融石英的技术，研究了气体流速、腔压和射频等离子体功率对刻蚀速度的影响，并分析了刻蚀工艺对样品表面的污染，同时也考察了刻蚀工艺的均匀性和重复性。为了优化刻蚀工艺，... 报道了用氟利昂ＣＨＦ３和氩气Ａｒ作工作气体的反应离子刻蚀融石英的技术，研究了气体流速、腔压和射频等离子体功率对刻蚀速度的影响，并分析了刻蚀工艺对样品表面的污染，同时也考察了刻蚀工艺的均匀性和重复性。为了优化刻蚀工艺，采用Ｒｓ１／Ｄｉｓｃｏｖｅｒ软件工具设计优化实验。实验中射频等离子体功率在１２０～１６０Ｗ范围，氩气和氟利昂流速分别在１５～３５ｓｃｍ和２０～５０ｓｃｃｍ范围，腔压在１００～１４０ｍＴｏｒ范围，相应的刻蚀速度为１５～２５ｎｍ／ｍｉｎ。 展开更多
关键词 石英 离子腐蚀 多层位相结构 混合气体.
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用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械
7
作者 崔铮 D.Prewett 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期71-75,共5页
报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械，动件和固定件同时制作。要求的掩模数减到最少。同现有的牺牲层材料相比，光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先，光致抗蚀剂能直接... 报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械，动件和固定件同时制作。要求的掩模数减到最少。同现有的牺牲层材料相比，光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先，光致抗蚀剂能直接涂敷，能直接光刻成形。此外，用光致抗蚀剂作牺牲层材料不影响结构的厚度和材料的选择。工艺优化后，结构洁净度、固定件与基片的结合强度及牺牲层去除速度都得到了改善。 展开更多
关键词 光致抗蚀剂 损耗层 微机械 光刻工艺
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微细图形光刻计算机模拟软件
8
作者 范建兴 冯伯儒 +2 位作者 张锦 陈芬 崔铮 《微细加工技术》 1998年第2期61-66,共6页
本文介绍了新近开发成功的ＢＥＨＡＶＥ软件。该软件具有良好的交互式界面，全面高效的计算模拟功能，是研究探讨微细图形光刻中的驻波效应以及整个微细图形光刻工艺计算模拟的强有力工具。
关键词 驻波效应 计算机模拟 光刻技术 BEHAVE软件
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微纳米加工技术及其应用综述 被引量：20
9
作者 崔铮 《物理》 CAS 北大核心 2006年第1期34-39,共6页
材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征,纳米技术已经成为当前科学研究与工业开发的热门领域之一.微小型化依赖于微纳米尺度的功能结构与器件,实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术.文章对微纳米加工技... 材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征,纳米技术已经成为当前科学研究与工业开发的热门领域之一.微小型化依赖于微纳米尺度的功能结构与器件,实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术.文章对微纳米加工技术做了一个综合的介绍,简要说明了微纳米加工技术与传统加工技术的区别.在微纳米加工技术的应用方面提出了一些合理选择加工技术的原则,并对当前微纳米加工技术面临的挑战和今后发展的趋势作了预测. 展开更多
关键词 微纳米技术 微纳米加工 微系统技术 微小型化
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