脉冲电弧沉积类金刚石薄膜特性的研究 被引量：3

1

作者 刘缠牢 梁海锋 严一心 《表面技术》 EI CAS CSCD 2006年第4期37-39,共3页

利用脉冲电弧镀技术在硅基片上沉积类金刚石薄膜，研究薄膜的光谱特性、摩擦磨损特性、硬度、电阻率和稳定性。用椭圆偏振法测试拟合得到薄膜的光学常数，傅立叶变换红外光谱仪测试薄膜的光谱特性；利用摩擦磨损实验仪测量薄膜的耐摩擦... 利用脉冲电弧镀技术在硅基片上沉积类金刚石薄膜，研究薄膜的光谱特性、摩擦磨损特性、硬度、电阻率和稳定性。用椭圆偏振法测试拟合得到薄膜的光学常数，傅立叶变换红外光谱仪测试薄膜的光谱特性；利用摩擦磨损实验仪测量薄膜的耐摩擦性能；利用维氏硬度计表征薄膜的硬度。结果表明薄膜在光谱范围1．25～10μm内透明，光学常数随波长的变化而变化，具有高达40GPa曲维氏硬度、高的电阻率、良好的摩擦学特性和化学稳定性等。 展开更多

关键词 类金刚石薄膜 脉冲电弧 光学特性 机械特性

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直流磁过滤电弧沉积氮化铝薄膜的研究 被引量：1

2

作者 梁海锋 周扬 严一心 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z2期206-210,共5页

利用直流电弧技术在硅基片上制备氮化铝薄膜,研究了薄膜的折射率、消光系数、透过率和沉积速率。薄膜的光学折射率、消光系数、厚度通过椭偏法测试并拟合得到;薄膜的透过率谱通过傅里叶变换红外光谱仪测试,薄膜的沉积速率通过厚度的相... 利用直流电弧技术在硅基片上制备氮化铝薄膜,研究了薄膜的折射率、消光系数、透过率和沉积速率。薄膜的光学折射率、消光系数、厚度通过椭偏法测试并拟合得到;薄膜的透过率谱通过傅里叶变换红外光谱仪测试,薄膜的沉积速率通过厚度的相应时间计算得到;利用柯希模型来拟合测试得到可见区光学常数,外推得到薄膜在整个近红外、中远红外的光学常数.结果表明:薄膜的折射率随工艺参数的不同有较大的变化范围,并且薄膜在较宽的光谱范围内消光系数为零;薄膜的沉积速率达到85 nm·min^(-1),单面镀制氮化铝薄膜的硅样片的峰值透过滤达到了69.2%. 展开更多

关键词 氮化铝 光学常数 沉积速率

原文传递

磁控反应溅射沉积AlN薄膜的制备工艺 被引量：1

3

作者 朱昌 朱春燕 《西安工业大学学报》 CAS 2008年第1期15-17,共3页

采用反应磁控溅射的技术，利用高纯氮气和氩气混合气体在K9玻璃基片上沉积了AlN薄膜．通过正交实验，分析了工艺参数与沉积速率的关系．研究了氮气浓度对透过率的影响．实验结果表明：在各工艺参数中靶功率对沉积速率影响最大，靶功率为... 采用反应磁控溅射的技术，利用高纯氮气和氩气混合气体在K9玻璃基片上沉积了AlN薄膜．通过正交实验，分析了工艺参数与沉积速率的关系．研究了氮气浓度对透过率的影响．实验结果表明：在各工艺参数中靶功率对沉积速率影响最大，靶功率为1．0kW，氮气浓度控制在25％～35％时薄膜的性能良好，沉积速率为39nm／min，薄膜在可见光区域平均透过率为90％．该薄膜可以广泛用于光学薄膜和压电薄膜材料． 展开更多

关键词 反应磁控溅射 ALN薄膜 沉积速率 透过率

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类金刚石薄膜对纯钛的磨损保护及安全性评价 被引量：4

4

作者 尹路 郭天文 +1 位作者 赵雯 弥谦 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期261-265,共5页

评价了以TiN为过渡层的类金刚石(DLC)复合梯度膜对齿科纯钛(TA2)的磨损防护效果以及生物安全性。采用脉冲真空多弧等离子体镀膜机,在齿科纯钛表面镀制TiN梯度膜和DLC表面膜。在体外对比检测镀膜的耐磨损能力和与纯钛的结合力,同时观察... 评价了以TiN为过渡层的类金刚石(DLC)复合梯度膜对齿科纯钛(TA2)的磨损防护效果以及生物安全性。采用脉冲真空多弧等离子体镀膜机,在齿科纯钛表面镀制TiN梯度膜和DLC表面膜。在体外对比检测镀膜的耐磨损能力和与纯钛的结合力,同时观察检测磨损后的表面形貌和元素分布。应用MTT法评价其生物相容性。结果表明,DLC薄膜的耐磨损能力以及与纯钛的结合力明显高于其余表面处理方法,表面形貌改变小。细胞毒性实验表明,DLC膜表面的L-929细胞增值良好。复合梯度膜的应用,可以明显提高DLC镀膜与纯钛基体的结合力。耐磨试验表明,DLC复合梯度膜可以承受日常口腔刷牙的磨耗,安全可靠,可以应用于人体。 展开更多

关键词 类金刚石膜 纯钛 复合梯度膜 耐磨试验 划痕实验 生物安全性

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等离子体加工光学元件工艺研究 被引量：4

5

作者 王颖男 杭凌侠 胡敏达 《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第1期51-53,共3页

为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光。介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研... 为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光。介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研究,最后进行工艺参数优化。结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工。 展开更多

关键词 超光滑表面 等离子体抛光 电容耦合放电 表面粗糙度 去除速率

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纯Ti镀制TiSiN薄膜后与Solidex结合强度的研究 被引量：1

6

作者 尹路 王戈 +2 位作者 张琳琳 梁海峰 郭天文 《特种铸造及有色合金》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期18-20,共3页

在纯Ti表面磁控溅射镀制不同Si含量的TiSiN膜后,比较与Solidex的结合强度并对界面进行分析。试验采用3组纯Ti试件,一组表面不作处理,另两组应用磁控溅射设备镀制不同Si含量的TiSiN膜后烤塑,采用AGS万能材料试验机测试纯Ti与Solidex的结... 在纯Ti表面磁控溅射镀制不同Si含量的TiSiN膜后,比较与Solidex的结合强度并对界面进行分析。试验采用3组纯Ti试件,一组表面不作处理,另两组应用磁控溅射设备镀制不同Si含量的TiSiN膜后烤塑,采用AGS万能材料试验机测试纯Ti与Solidex的结合强度,并应用电子探针显微分析仪观察分析镀膜层-树脂界面。经方差分析显示,镀膜组结合强度优于未镀膜组,镀膜组中提高Si含量增加了结合强度,镀膜组中形成致密非晶态TiN、SiNx,它填补了金属基底与Solidex烤塑专用树脂可能存在的空隙,有助于阻止金属离子渗出。 展开更多

关键词 纯Ti 磁控溅射 镀膜 TiSiN 光固化冠桥树脂 结合强度

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氮硅锆-羟磷灰石涂层应用于纯钛种植体的实验研究 被引量：3

7

作者 尹路 惠迎雪 姚江武 《华西口腔医学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期492-495,共4页

目的对比研究采用不同涂层的纯钛种植体表面骨结合力及耐腐蚀性。方法采用等离子喷涂技术在纯钛表面制备氮硅锆-羟磷灰石(ZrSiN-HA)复合涂层并植入实验动物下颌骨。利用扫描电镜(SEM)观察分析复合涂层的表面形貌,电子万能材料实验机对... 目的对比研究采用不同涂层的纯钛种植体表面骨结合力及耐腐蚀性。方法采用等离子喷涂技术在纯钛表面制备氮硅锆-羟磷灰石(ZrSiN-HA)复合涂层并植入实验动物下颌骨。利用扫描电镜(SEM)观察分析复合涂层的表面形貌,电子万能材料实验机对比检测ZrSiN-HA组、氮硅锆(ZrSiN)组、羟磷灰石(HA)组与纯钛种植体组涂层的骨结合力并观测各组断裂区域的形貌,电化学腐蚀测试系统对比检测4组涂层的耐腐蚀性。结果种植体表面喷涂ZrSiN-HA后较单纯喷涂HA的表面更加致密,结晶化明显;ZrSiN-HA涂层与其他涂层比较骨结合力最高,耐腐蚀性能最强。结论ZrSiN-HA涂层的应用有利于种植体的长期固位,对齿科修复体具有一定的应用价值。 展开更多

关键词 纯钛 种植 涂层 骨结合 等离子喷涂

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SED平板显示薄膜电极的工艺研究 被引量：1

8

作者 刘彦 《科技信息》 2008年第1期97-97,158,共2页

表面传导电子显示(SED)的关键部分是下基板(即阴极板)的制作,而阴极板上薄膜电极的质量直接影响了阴极电子发射的性能。本文研究了采用剥离技术来制备SED平板显示器阴极板上薄膜电极的工艺,实验表明,利用剥离工艺所镀制的铬铜铬金属薄... 表面传导电子显示(SED)的关键部分是下基板(即阴极板)的制作,而阴极板上薄膜电极的质量直接影响了阴极电子发射的性能。本文研究了采用剥离技术来制备SED平板显示器阴极板上薄膜电极的工艺,实验表明,利用剥离工艺所镀制的铬铜铬金属薄膜厚度为123.93nm,电极条的平均阻值为12.26Ω,通过显微镜放大1000倍可以看到电极裂缝宽度为10μm,阵列精细整齐,无翘边、连线情况出现,并且附着力、热稳定性和厚度性能也达到了后续工艺的要求。 展开更多

关键词 剥离工艺 铬铜铬薄膜电极 电子束蒸发沉积

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脉冲电弧源的发射特性建模 被引量：3

9

作者 刘缠牢 梁海锋 蔡长龙 《真空》 CAS 北大核心 2006年第5期6-8,共3页

脉冲电弧源是脉冲电弧离子镀方法制备薄膜的重要部件,其发射特性是影响薄膜均匀性的重要因素。本文从理论出发,建立脉冲电弧源发射特性的数学模型,编程计算得到理论的均匀性曲线,与实际的沉积薄膜厚度的均匀性对比,结果表明:脉冲电弧源... 脉冲电弧源是脉冲电弧离子镀方法制备薄膜的重要部件,其发射特性是影响薄膜均匀性的重要因素。本文从理论出发,建立脉冲电弧源发射特性的数学模型,编程计算得到理论的均匀性曲线,与实际的沉积薄膜厚度的均匀性对比,结果表明:脉冲电弧源的蒸发特性可以等效于多个面源的叠加,每一个面源发射的离子密度空间分布符合余弦定律。 展开更多

关键词 脉冲电弧 发射特性 数学模型

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铝基复合材料基底镀厚膜TiN的附着力研究 被引量：2

10

作者 严一心 叶伟 +1 位作者 王东祥 方小坤 《西安工业大学学报》 CAS 2007年第2期110-113,共4页

利用直流磁过滤多弧离子镀技术在铝基复合材料基片上镀制大于25μm的TiN厚膜.对厚膜TiN的附着力及其与各种工艺条件的关系.采用扫描电镜对厚膜TiN的微观结构及划痕形貌进行了分析.研究结果表明:基片的清洗、基片的温度、孤电流、脉冲偏... 利用直流磁过滤多弧离子镀技术在铝基复合材料基片上镀制大于25μm的TiN厚膜.对厚膜TiN的附着力及其与各种工艺条件的关系.采用扫描电镜对厚膜TiN的微观结构及划痕形貌进行了分析.研究结果表明:基片的清洗、基片的温度、孤电流、脉冲偏压和镀层界面组织结构等都影响厚膜TiN的附着力;弧电流为70A、脉冲偏压为100V、占空比为70%、温度为200℃时,厚膜TiN的临界载荷达到4.5kg/mm^2,远大于指标要求4kg/mm^2;镀层界面的融合有利于提高厚膜TiN的附着力. 展开更多

关键词 厚膜TiN 附着力 脉冲偏压 弧电流

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表面镀膜纯钛牙膏磨刷后表面粗糙度研究 被引量：9

11

作者 尹路 郭天文 +4 位作者 越野 于绍冰 赵雯 王跃研 梁海峰 《实用口腔医学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期65-68,共4页

目的:研究纯钛铸件镀制含氢类金刚石膜H-DLC在体外刷洗实验中粗糙度、反射率、色彩的变化,为临床应用含氢类金刚石膜提供理论依据。方法:铸造纯钛试件20片,分别镀制H-DLC、TiN、阳极氧化以及空白对照,在牙刷磨耗机上刷洗75000次,对比刷... 目的:研究纯钛铸件镀制含氢类金刚石膜H-DLC在体外刷洗实验中粗糙度、反射率、色彩的变化,为临床应用含氢类金刚石膜提供理论依据。方法:铸造纯钛试件20片,分别镀制H-DLC、TiN、阳极氧化以及空白对照,在牙刷磨耗机上刷洗75000次,对比刷洗前后的粗糙度增加值、反射率下降值、色彩变化值,并在扫描电镜下观察表面形貌。结果:4组试件中,H-DLC镀膜的粗糙度增加值、反射率下降值、色彩变化值最小(P<0.01),空白对照组的变化最大(P<0.01),阳极氧化组的色彩变化值较大与空白对照组接近(P>0.05),TiN的色彩变化值略小于H-DLC镀膜(P<0.05),各组试件在含氟与无氟牙膏处理因素之间比较,只有空白对照组的各项变化值有显著性差异(P<0.05)。扫描电镜观察空白对照与阳极氧化组试件表面刷痕明显,TiN和H-DLC镀膜表面未见明显刷痕,仅见有加工处理残留的细小痕迹。结论:与其他表面改性方法相比,刷洗实验对H-DLC镀膜的表面形态、光泽度、色彩影响最小。 展开更多

关键词 纯钛 表面改性 含氢类金刚石膜 磨耗实验 粗糙度 反射率 色差

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