期刊导航
期刊开放获取
重庆大学
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
外界条件在电磁脉冲对GaAs赝高电子迁移率晶体管损伤过程中的影响
被引量:
4
1
作者
席晓文
柴常春
+2 位作者
刘阳
杨银堂
樊庆扬
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第7期389-395,共7页
结合器件仿真软件Sentaurus TCAD,建立了GaAs赝高电子迁移率晶体管器件的电磁脉冲损伤模型.基于此模型,从信号参数和外接电阻两个方面出发讨论了外界条件对器件电磁脉冲损伤效应的影响.结果表明,信号参数的改变能够显著影响器件的损伤时...
结合器件仿真软件Sentaurus TCAD,建立了GaAs赝高电子迁移率晶体管器件的电磁脉冲损伤模型.基于此模型,从信号参数和外接电阻两个方面出发讨论了外界条件对器件电磁脉冲损伤效应的影响.结果表明,信号参数的改变能够显著影响器件的损伤时间:信号幅度通过改变器件的吸收能量速度来影响器件的损伤效应,其与器件损伤时间成反比;信号上升时间的改变能够提前或延迟器件的击穿点,其与器件损伤时间成正比.器件外接电阻能够减弱器件的电流沟道,进而延缓器件的损伤进程,且源极外接电阻的影响更加明显.
展开更多
关键词
GaAs赝高电子迁移率晶体管
电磁脉冲
外界条件
损伤过程
下载PDF
职称材料
题名
外界条件在电磁脉冲对GaAs赝高电子迁移率晶体管损伤过程中的影响
被引量:
4
1
作者
席晓文
柴常春
刘阳
杨银堂
樊庆扬
机构
西安电子科技大学微电子学院教育部宽禁带半导体材料与器件国家重点实验室
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第7期389-395,共7页
基金
中国工程物理研究院复杂电磁环境科学与技术重点实验室开放基金(批准号:2015-0214.XY.K)资助的课题~~
文摘
结合器件仿真软件Sentaurus TCAD,建立了GaAs赝高电子迁移率晶体管器件的电磁脉冲损伤模型.基于此模型,从信号参数和外接电阻两个方面出发讨论了外界条件对器件电磁脉冲损伤效应的影响.结果表明,信号参数的改变能够显著影响器件的损伤时间:信号幅度通过改变器件的吸收能量速度来影响器件的损伤效应,其与器件损伤时间成反比;信号上升时间的改变能够提前或延迟器件的击穿点,其与器件损伤时间成正比.器件外接电阻能够减弱器件的电流沟道,进而延缓器件的损伤进程,且源极外接电阻的影响更加明显.
关键词
GaAs赝高电子迁移率晶体管
电磁脉冲
外界条件
损伤过程
Keywords
GaAs PHEMT
electromagnetic pulse
external condition
damage process
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
外界条件在电磁脉冲对GaAs赝高电子迁移率晶体管损伤过程中的影响
席晓文
柴常春
刘阳
杨银堂
樊庆扬
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
4
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部